System zarządzania laboratorium jako narzędzie archiwizacji i oceny jakościowej wyników pomiarów

• Autorzy: Małachowski, T. , Rzodkiewicz, W.

Warianty tytułu

EN

Laboratory management system for measurement data acquisition and analysis

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W artykule przedstawiono koncepcję systemu archiwizacji danych oraz ich oceny jakościowej dla kompleksu laboratoriów zajmujących się charakteryzacją struktur dla nanoelektroniki. System zaprojektowano pod kątem potrzeb pomiarów elektrycznych, fotoelektrycznych oraz elipsometrycznych. Proponowana koncepcja może znaleźć zastosowanie dla dowolnego zespołu laboratoriów pomiarowych.

EN

In this paper, the laboratory management system for measurement data acquisition and analysis was described. The system is useful for the group of laboratories working in the field of nanoelectronic devices characterisation.

Słowa kluczowe

PL

archiwizacja danych pomiarowych; system zarządzania laboratorium; relacyjne bazy danych; systemy pomiarowe

EN

measurement data acquisition; laboratory management system; relational databases; measurement systems

• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2010
• Tom: Vol. 51, nr 10
• Strony: 127-131
• Opis fizyczny: Bibliogr. 5 poz.

Twórcy

autor

Małachowski, T.

autor

Rzodkiewicz, W.

• Instytut Technologii Elektronowej, Zakład Charakteryzacji Struktur Nanoelektronicznych, Warszawa

Bibliografia

• [1] Institute of Electron Technology Scientific Activity 2008. Prace Instytutu Technologii Elektronowej, Zeszyt 1/2, Warszawa 2009.
• [2] Witryna internetowa Zakł. Charakt. Strukt. Nanoelektr.: http://www.ite.waw.pl/pl/Z11.php?klawisz=Oferta
• [3] Codd E. F.: A Relational Model of Data for Large Shared Data Banks. Commun. ACM 13(6): pp. 377-387, 1970.
• [4] Codd E. F., Menlo Park: The relational model for database management. Addison-Wesley Publishing Company, Inc., 1990.
• [5] Rzodkiewicz W. i in.: Spectroscopic elipsometry investigation of influence of high pressure-high temperature process on optical properties of SiO2-Si structures. Proceedings of SPIE vol. 4517, 2001.