Sterownik procesu rozpylania pracujący w środowisku LabVIEW

• Autorzy: Marszałek, K. , Sobków, Z. S. , Ciotuń, J.

Warianty tytułu

EN

LabVIEW controller for sputtering deposition system

• Konferencja: Kongres Polskiego Towarzystwa Próżniowego ; Krajowa Konferencja Techniki Próżni (4 ; 8 ; 21-24.09.2008 ; Janów Lubelski, Polska)
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W pracy przedstawiono nowy typ układu do sterowania procesem magnetronowego rozpylania jonowego zrealizowanego w środowisku LabVIEW. Pozwala on na łatwe sterowanie i monitorowanie pracy takich urządzeń jak pompy próżniowe, zawory, zasilacze wysokiego napięcia, silniki liniowe i krokowe oraz różnego typu urządzenia pomiarowe. Wykorzystane narzędzia programowe pozwalają na monitorowanie statusu poszczególnych urządzeń oraz parametrów procesu zarówno w formie graficznej jak i numerycznej. Możliwa jest również obserwacja parametrów zarówno w czasie rzeczywistym jak i zapis charakterystyk czasowych dla dowolnego urządzenia. Prezentowany sterownik został wykorzystany do kontroli procesu jonowego rozpylania magnetronowego. Środowisko graficzne LabVIEW umożliwia stworzenie elastycznych algorytmów sterowania procesem. Staje się ono standardowym narzędziem programowania wykorzystywanym zarówno dla systemów laboratoryjnych [1] jak i przemysłowych [2,3].

EN

A new family of control devices for magnetron sputtering processes working in a graphical LabVIEW environment is presented in this paper. The system could easily control external devices like pumps, valves, motors, power supplies etc. as well as different types of measuring devices. Using the programming tools one can check the status of different devices and process parameters in both graphical and numerical form. Real time visualisation and post process analysis are possible to use for every single device existing in the system or a process parameter. The control system was designed for the reactive magnetron sputtering. LabVIEW graphical language allows for an easy implementation of any changes of the process algorithm. This package becomes a standard for designing both laboratory [1] and industrial [2] systems.

Słowa kluczowe

PL

rozpylanie jonowe; sterowanie; LabVIEW

EN

sputtering; controller; LabVIEW

• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2009
• Tom: Vol. 50, nr 1
• Strony: 102-104
• Opis fizyczny: Bibliogr. 13 poz., wykr.

Twórcy

autor

Marszałek, K.

autor

Sobków, Z. S.

autor

Ciotuń, J.

• Akademia Górniczo-Hutnicza, Katedra Elektroniki, Kraków

Bibliografia

• [1] Maksymowicz L. i in.: Magnetic semiconductor - photoconductivity. Materiały VIII Electron Technology Conference ELTE 2004, 2004, pp. 479-80.
• [2] Marszałek K., Kray S., Marszałek M.: Prace Naukowe Politechniki Warszawskiej, Elektronika, 153, (2005), ss. 121-124.
• [3] Marszałek K., Kamola Z., Zoń A.: Wsadowy system do metalizacji próżniowej. Prace Naukowe Politechniki Warszawskiej, Elektronika, vol. 153, 2005, ss.133-136.
• [4] Dziadecki A., Grzegorski J., Marszałek K., Skotniczny J., Żegleń T.: Patent RP PL 193432, 2007.
• [5] Dziadecki A., Grzegorski J., Marszałek K., Skotniczny J., Żegleń T.: Patent RP PL 193436, 2007.
• [6] Marszałek K.: Wsadowa linia próżniowa dla przemysłu motoryzacyjnego z wielkogabarytowymi źródłami magnetronowymi o mocy 40 kW. Elektronika, vol 8/9, 2001, ss. 104-105.
• [7] Dalesio L. R. i in.: Vacuum control system for the Los Alamos Low Energy Demonstration Accelerator proton injector. Proceedings of the Particle Accelerator Conference, New York, USA, vol.2, 1999, p. 655.
• [8] Bendera D., Schusterb J. and Heidera D.: Flow rate control during vacuum - assisted resin transfer molding (VARTM) processing. Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A: Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment, Vol. 441, Iss. 1-2, 2000, pp.150-153.
• [9] Sobków Z. S.: Materiały Poznańskich Warsztatów Telekomunikacyjnych, Poznań, 2004, s. 22.
• [10] Marszałek K., Dziadecki A., Żegleń T.: Mikrokomputerowy system sterowania przemysłową linią próżniową do nanoszenia cienkich warstw metodą jonowego rozpylania magnetronowego. PAK, vol. 3, 2002, ss. 5-8.
• [11] Wierzba P., Mazikowski A.: Proc. of SPIE, 6348, 2006, 01-06.
• [12] Bloom P. A.: The LabVIEW Style Book. Prentice Hall, 2007.
• [13] Hardy D. i in.: Proceedings of FEL Conference, 2005, s.180.