Wpływ dodatków alkoholowych do roztworów KOH na morfologię różnych płaszczyzn Si (hkl)

• Autorzy: Kramkowska, M. , Zubel, I.

Warianty tytułu

EN

The effect of alcohol additives to KOH solution on the morphology of different Si (hkl) planes

• Konferencja: Technologia elektronowa : ELTE' 2004 : konferencja naukowa (8 ; 19-22.04.2004 ; Stare Jabłonki, Polska)
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Badano wpływ dodatków alkoholowych z grupy butanoli do roztworu KOH na morfologię różnych płaszczyzn (hkl) krzemu uzyskiwanych w procesie trawienia anizotropowego. Stwierdzono, że wprowadzenie dodatków poprawia gładkość powierzchni typu (hh1) a pogarsza morfologie płaszczyzn (h11). Ma to związek z konfiguracją wiązań na tych płaszczyznach.

EN

The effect of alcohol additives from butanol group to KOH solution on the morphologies of different Si (hkl) surfaces fabricated by anisotropic etching has been studied. It was stated that the additives improve the surface roughness of (hh1)-type surfaces whereas (h11)-type surfaces undergo worsening. The effect is connected with bond configurations on the studied surfaces.

Słowa kluczowe

PL

trawienie anizotropowe; krzem; morfologia powierzchni

EN

anisotropic etching; silicon; surface morphology

• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2005
• Tom: Vol. 46, nr 2-3
• Strony: 12-13
• Opis fizyczny: Bibliogr. 3 poz., il.

Twórcy

autor

Kramkowska, M.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki

autor

Zubel, I.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki

Bibliografia

• 1. I. Zubel, M. Kramkowska, Sens. Actuat A, 101,2002, 255-261.
• 2. I. Zubel, M. Kramkowska, Proc, of 17-th Conf, on Solid-State Trans. Eurosensors XVII, Portugal, 2003, 348-349.
• 3. I. Zubel, M. Kramkowska, Proc, of 27-th Conf. IMAPS, Poland, Podlesice, 2003, 296-299.