Zastosowanie nowej metody sterowania procesem pomiarowym w statycznej mikroskopii sił atomowych

• Autorzy: Marendziak, A. , Czarnecki, P. , Szeloch, R. , Radojewski, J. , Rangelo, I.

Warianty tytułu

EN

Application of new control method of measuring process in contact mode atomic force microscopy

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W artykule przedstawiono nową metodę umożliwiającą sterowanie mikroskopem sił atomowych, pracującym w trybie statycznym przy użyciu systemu DSP ADwinPro firmy Keithley. Opisano metodę pomiaru topografii powierzchni z wykorzystaniem cyfrowego regulatora PID pracującego przy wykorzystaniu dwóch wartości zadanych. Przedstawiono wyniki z pomiarów topografii powierzchni azotku aluminium, wykonane przy użyciu regulatora o jednej i dwóch wartościach zadanych.

EN

In this article we was introduced a new method of DSP ADwinPro based scanning probe microscopy (SPM) system control. We describe a new two set-point digital PID method elaborated for better control of near field interaction between surface and tip atoms. We show measurement results of nitride aluminium surface obtained with one and two set-point PID system.

Słowa kluczowe

PL

mikroskopia sił atomowych; nanometrologia; nanomiernictwo; nowa metoda sterowania

EN

atomic force microscopy (AFM); nanometrology; nanomeasurement a new control methods

• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2004
• Tom: Vol. 45, nr 6
• Strony: 39-41
• Opis fizyczny: Bibliogr. 2 poz., fot., rys.

Twórcy

autor

Marendziak, A.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki

autor

Czarnecki, P.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki

autor

Szeloch, R.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki

autor

Radojewski, J.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki

autor

Rangelo, I.

• Uniwersytet w Kassel, Niemcy

Bibliografia

• 1. Binnig G., Rohrer H.: Helv. Phys. Acta, 55 (1982), 726.
• 2. Marendziak A., Gotszalk T., Sankowska A., Radojewski J., Szeloch R.: Zastosowanie mikroskopii bliskich oddziaływań w pomiarach geometrii nanostruktur. Elektronizacja 2002, nr 7/8, s. 51-53.