Analiza numeryczna wpływu oporu cieplnego cienkiej warstwy na sygnał fototermiczny

• Autorzy: Bodzenta, J. , Burak, B.

Warianty tytułu

EN

Numerical analysis of influence of thermal resistance of thin film on photothermal signal

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Na podstawie wcześniej opracowanego modelu teoretycznego przeanalizowano możliwości metody wyznaczania oporu cieplnego cienkich warstw. Zbadano wpływ parametrów opisujących układ pomiarowy na czułość metody, rozumianą jako zdolność do pomiaru możliwie małych oporów cieplnych. Sformułowano wnioski dotyczące optymalnej konfiguracji układu pomiarowego.

EN

Basing on earlier of developed theoretical model potentialities of photothermal method for determination of thermal resistance of thin films are analysed. Influence of parameters describing experimental setup on sensitivity of the method is investigated. The sensitivity means potentiality to determine as small thermal resistance as possible. Conclusions about optimal configuration of experimental setup are drawn.

Słowa kluczowe

PL

pomiar parametrów cieplnych; cienkie warstwy; metoda fototermiczna

• Czasopismo: Zeszyty Naukowe. Matematyka - Fizyka / Politechnika Śląska
• Rocznik: 1999
• Tom: z. 87
• Strony: 25-36
• Opis fizyczny: Bibliogr. 10 poz.

Twórcy

autor

Bodzenta, J.

autor

Burak, B.

• Instytut Fizyki Politechnika Śląska, 44-100 Gliwice, ul. Krzywoustego 2, tel. [phone],