Laserowe wyżarzanie rezystorów grubowarstwowych

• Autorzy: Bobitski, J. , Szela, S.

Warianty tytułu

EN

Laser annealing thick-film resistors

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W niniejszej pracy przedstawiono wyniki badań możliwości zastosowania lasera do wyżarzania grubowarstwowych elementów rezystywnych. Celem badań było osiągnięcie odpowiedniej wydajności laserowego utwardzania rezystywnych warstw grubych, wykonanych na bazie węgla na osnowie polimerowej.

EN

The paper presents results of the research on the potential application of laser for annealing of resistive thick-film components. The objective of the study was to achieve an optimum efficiency of laser hardening of resistive thick-films manufactured on the carbon base and on polymer matrix.

Słowa kluczowe

PL

rezystory grubowarstwowe; wyżarzanie; utwardzanie; laserowa obróbka cieplna

EN

thick film resistor; laser annealing; carbon-polymer resistor

• Czasopismo: Archiwum Odlewnictwa
• Rocznik: 2002
• Tom: R. 2, nr 6
• Strony: 31-36
• Opis fizyczny: Bibliogr. 2 poz., rys.

Twórcy

autor

Bobitski, J.

• Katedra Optoelektroniki, Politechnika Lwowska, Lwów,

autor

Szela, S.

• Uniwersytet Rzeszowski, Instytut Techniki, Rzeszów,

Bibliografia

• [1] U. Djuli: Technologia laserowa i analiza materiałów. M., Mir, (1988).
• [2] G. M. Iwanow, Ju. P. Jukow, W. P. Bieriezina, O. A. Troickaja: Elektronowa technika oddziaływania na materiały. Wyd. 6, str. 42-48, (1983).