Widma emisyjne Zn-Bi-O w plazmie magnetronowej.

• Autorzy: Ziaja, J.

Warianty tytułu

EN

Emission Lines of Zn, Bi, Ar, O into magnetronic plasma.

• Konferencja: VI Konferencja Naukowa Postępy w Elektrotechnologii, Jamrozowa Polana, 20-22 wrzesień 2006
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W pracy przedstawiono wyniki badań spektrofotometrycznych plazmy magnetronowej. Wykazano, że względne intensywności badanych widm emisyjnych są różne od wzorców. Stosunek tych intensywności zależy od parametrów procesu rozpylania: gęstość mocy P wydzielonej na targecie, odległość d targ et-podłoże, Określono minimalną gęstość mocy dla której target rozpylany jest stechiometrycznie.

EN

In this paper was shown results of investigation spectrophometric magnetronic plasma. It's been proved, that arbitrary intensity of researchable emission lines are different from standards. The proportion those intensity depends on parameters of process magnetron sputtering, density power, distance d target-substrate. It' been defined minimal density power, for- which target is sputtering stoichiometry.

Słowa kluczowe

PL

rozpylanie magnetronowe; warystory; ZnO

EN

ZnO; varistors

• Czasopismo: Prace Naukowe Instytutu Podstaw Elektrotechniki i Elektrotechnologii Politechniki Wrocławskiej. Konferencje
• Rocznik: 2006
• Tom: Vol. 44, nr 18
• Strony: 189-192
• Opis fizyczny: Bibliogr. 4 poz.

Twórcy

autor

Ziaja, J.

• Politechnika Wrocławska, Instytut Podstaw Elektrotechniki i Elektrotechnologii

Bibliografia

• [1] Ziaja J., Mazurek B., Spectrophotomeiric diagnostics of magnetron plasma. The First Central European Symposium on Plasma Chemistry, Gdansk, May, pp. 28-31.
• [2] Ziaja J., Magnetronowa metoda otrzymywania cienkich warstw Zn-Bi-O, Postepy w elektro-technologii, V Konferencja Naukowa, 2003, ss. 229-232.
• [3] Posadowski W. M., Niekonwencjonalne układy magnetronowe do próżniowego nanoszenia cienkich warstw, Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej, Wrocław, 2001.
• [4] http://physics,nist.gov/PhysRefData/Handbook/Tables