Zastosowanie mikroskopu sił atomowych do badania własności tarciowych ultracienkich powłok

• Autorzy: Janowska, J. , Rżanek-Boroch, Z. , Ekwińska, M.

Warianty tytułu

EN

Application of atomic force microscope to study frictional properties of ultrathin films

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W referacie przedstawiono zastosowanie mikroskopu sił atomowych do zbadania własności tarciowych ultracienkich powłok wytworzonych techniką elektroplazmową oraz wpływu prowadzenia procesu osadzania warstw "(zmiana temperatury podłoża) na własności uzyskanych powłok.

EN

Atomic Force Microscopes (AFM) are used mainly to study surface topography. AFM with the possibility to measure lateral force in the Laboratory of Microtribology of the Institute of Micromechanics and Photonics of the Warsaw University of Technology enables during scanning the measurement of the lateral force between the tip of the cantilever and the tested surface. The lateral force is representative of the micro-scale friction. The paper presents the results of the application of this microscope to study frictional properties of the ultrathin films deposited on silicon by electroplasma technique. The films were deposited under various substrate's temperatures (sample 046 - 300°C, sample 047 - 150°C) to study the effect of temperature on the frictional properties of the films.

Słowa kluczowe

PL

mikroskop sił atomowych; topografia powierzchni; technika elektroplazmowa; powłoki ultracienkie

EN

atomie force microscope; topography; films deposited by electroplasma technique

• Czasopismo: Tribologia
• Rocznik: 2003
• Tom: nr 5
• Strony: 51-64
• Opis fizyczny: Bibliogr. 5 poz., rys. tab.

Twórcy

autor

Janowska, J.

• Politechnika Warszawska, Instytut Mikromechaniki i Fotoniki, ul. Św. Andrzeja Boboli 8, 02-525 Warszawa

autor

Rżanek-Boroch, Z.

• Politechnika Warszawska, Instytut Mikromechaniki i Fotoniki, ul. Św. Andrzeja Boboli 8, 02-525 Warszawa

autor

Ekwińska, M.

• Politechnika Warszawska, Instytut Mikromechaniki i Fotoniki, ul. Św. Andrzeja Boboli 8, 02-525 Warszawa

Bibliografia

• 1. Bushan B.: Handbook of Micro/Nanotribology, 2"nd., CRC Press, Boca Raton 1998.
• 2. Misiak M., Rymuza Z., Rżanek-Boroch Z., Schmidt-Szałowski K., Janowska J.: The Effects of Deposition and Test Conditions on Nanomechanical Behaviour of Ultrathin Films Produced by PECVD Process at Atmospheric Pressure. 3 rd International Colloąuium Micro-Tribology'2001, Jastarnia 2001.
• 3. Rżanek-Boroch Z., Janowska J., Dudziński K., Schmidt-Szałowski K.: Thin Films of Silicon Compounds Deposited by Filamentary Barrier-Discharge. 15 th International Symposium on Plasma Chemistry, vol. V, s. 1817-1822, Orleans, France 2001.
• 4. Schmidt-Szałowski K., Fabianowski W., Sentek J., Rżanek Boroch Z.: Powłoki nieorganiczne wytwarzane techniką elektroplazmową. Przemysł chemiczny 77/7, s. 253-257.
• 5. Janowska J.: Raport tematu - Badanie nanotarcia ultracienkich powłok, IMiF PW, Warszawa 2001.