Warianty tytułu
Dyfrakcyjny filtr optyczny w technologii CMOS
Języki publikacji
Abstrakty
In this paper, we demonstrate the feasibility of three color filter design for the visible range. We analyze limitations and provide optimization of diffractive filters based on one-dimensional patterned metal layers. We present result of numerical simulation for a novel design, which exhibits two-side bounded transmittance spectra with similar shape for different polarizations of incident radiation. The operating wavelength of the structure is smaller than period of patterns used, thus reducing the critical dimension requirement for fabrication technology.
Przedstawiono projektowanie trzykolorowego filtru. Przeanalizowano ograniczenia I przeprowadzono optymalizację filtru dyfrakcyjnego wykorzystującego jednowymiarową warstwę metalu. Przedstawiono rezultaty symulacji numerycznej nowego projektu, który wykazuje dwustronne brzegowe widmo transmitancji o podobnym kształcie dla różnych polaryzacji. Zakres fal proponowanej struktury jest mniejszy niż użyty wzór, a więc wymaga technologii redukującej rozmiary krytyczne.
Czasopismo
Rocznik
Tom
Strony
64-66
Opis fizyczny
Bibliogr. 3 poz., rys.
Twórcy
Bibliografia
- [1] Catrysse P.B., Wandell A. Integrated color pixel in 0.18-μm complementary metal oxide semiconductor technology, J. Opt. Soc. of Am., ser. A, 20 (2003), No. 12, 2293-2306.
- [2] Ordal M.A. Optical properties of metals Al, Co, Cu, Au,Fe, Pb, Ni, Pd, Pt, Ag, Ti, and W in the infrared and far infrared, Appl. Opt., 22 (1983), 1099–1119.
- [3] Taflove A. Computational Electrodynamics. The Finite-Difference Time-Domain Method. Boston: Artech House (1995).
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikatory
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BPOZ-0007-0003