Czasopismo
2012
|
R. 88, nr 7a
|
312-314
Tytuł artykułu
Autorzy
Wybrane pełne teksty z tego czasopisma
Warianty tytułu
Impedancja diod spolaryzowanych zaporowo napromieniowanych jonami kryptonu o energii 250 MeV
Języki publikacji
Abstrakty
The p+n-junction silicon diodes irradiated with krypton ions with the energy of 250 MeV were studied. The distance [delta] between the p�yn-junction boundary and calculated maximum in the distribution of the primary vacancies was about 26.4 žm. It was shown that transformations of a complex plane plot of the electric modulus at the increased reverse bias take place due to a change in the impedance ratio ZL/ZJ of the irradiation damaged layer ZL to space charge region ZJ as well as due to changes in the electron population of the energy levels of irradiation-induced defects.
Przebadano diody krzemowe o typu p+n naświetlane jonami kryptonu o energii 250 MeV. Odległość [delta] między granicą złącza p+n i obliczonym maksimum w rozkładzie wakatów pierwotnych wyniosła około 26,4 žm. Wykazano, że przekształcenia zespolonej płaszczyzny modułu elektrycznego przy zwiększonej polaryzacji zaporowej złącza mogą nastąpić pod wpływem zmiany stosunku impedancji ZL/ZJ warstwy zdefektowanej promieniowaniem ZL do impedancji obszarów z ładunkiem przestrzennym ZJ, jak również ze względu na zmiany w koncentracji elektronów na poziomach energetycznych defektów powstałych poprzez promieniowanie.
Czasopismo
Rocznik
Tom
Strony
312-314
Opis fizyczny
Bibliogr. 13 poz., wykr.
Twórcy
autor
autor
autor
autor
autor
autor
autor
autor
autor
- Belarusian State University, Minsk, ul. Prospekt Nezavisimosti 4, 220030, Minsk, Belarus, poklonski@bsu.by
Bibliografia
- [1] Lebedev A.A., Lebedev A.A., Davydov D.V., Capacitance measurements for diodes in the case of strong dependence of the diode-base series resistance on the applied voltage, Semiconductors, 34 (2000), No. 1, 115-118
- [2] McPherson M., Capacitive effects in neutron-irradiated silicon diodes, Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A, 488 (2002), n.1-2, 100-109
- [3] McPherson M., Fermi level pinning in irradiated silicon considered as a relaxation-like semiconductor, Physica B, 344 (2004), No. 1-4, 52-57
- [4] Emel’yanov A.M., Sobolev N.A., Yakimenko A.N., Capacitance-voltage characteristics of p–n structures based on (111) Si doped with erbium and oxygen, Semiconductors, 35 (2001), No. 3, 316-320
- [5] Saadoune A., Dehimi L., Sengouga N., McPherson M., Jones B.K., Modelling of semiconductor diodes made of high defect concentration, irradiated, high resistivity and semi-insulating material: The capacitancevoltage characteristics, Solid State Electron, 50 (2006), No. 7-8, 1178-1182
- [6] Dehimi L., Sengouga N., Jones B.K., Modelling of semiconductor diodes made of high defect concentration, irradiated, high resistivity and semi-insulating material: the current-voltage characteristics, Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A, 519 (2004), No. 3, 532-544
- [7] Dehimi L., Sengouga N., Jones B.K., Modelling of semiconductor diodes made of high defect concentration, irradiated, high resistivity and semi-insulating material: the internal field, Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A, 517 (2004), No. 1-3, 109-120
- [8] Process Wizard – 1D, version 1.3, Dawn Technologies, Inc.; (1999)
- [9] Ziegler J.F., SRIM-2003, Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B, 219-220 (2004), 1027-1036
- [10] Barsoukov E., Macdonald J.R., Impedance spectroscopy: Theory experiment and applications, New York, Wiley, (2005), 595 p.
- [11] Poklonski N.A., Gorbachuk N.I., Shpakovski S.V., Lastovskii S.B., Wieck A., Equivalent circuit of silicon diodes subjected to high–fluence electron irradiation, Technical Physics, 55 (2010), No. 10, 1463-1471
- [12] Chelyadinskii A.R., Komarov F.F., Defect-impurity engineering in implanted silicon, Physics-Uspekhi, 46 (2003), No. 8, 789-820
- [13] Milnes A.G., Deep impurities in semiconductors. New York, Wiley, (1973)
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikatory
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BPOH-0067-0021