Negatywowy fotoczuly polimer do fotolitografii

• Autorzy: Pomianowski, J.

Warianty tytułu

EN

Negative photosensitive polymer for photolitho-graphy

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Przedstawiono nowy sposób syntezy światłoczułych polimerów azydkowych stosowanych w przemyśle elektronicznym do wykonywania masek fotolitograficznych i obwodów drukowanych.

EN

The paper presents a new method of synthesis of photosensitive azide polymers used in electronic industry to manufacture photo-lithographic masks and printed circuits.

Słowa kluczowe

PL

fotoczułe polimery azydkowe; obwody drukowane; fotolitografia

EN

photosensitive azide polymers; printed circuits; photolytography

• Czasopismo: Wiadomości Elektrotechniczne
• Rocznik: 2006
• Tom: nr 3
• Strony: 49-49
• Opis fizyczny: Bibliogr. 5 poz.

Twórcy

autor

Pomianowski, J.

• Instytut Elektrotechniki Politechniki Szczecińskiej

Bibliografia

• [1] Briczkin S.B.: Chimia wysokich energij. Nauka/Interperiodica 1980 nr 14
• [2] Guillet J.: Fotofizika i fotochimia polimierow. Mir, Moskwa 1988
• [3] Klepikov P.W.: Pozitivnyje procjesy na soljach chroma. Goskinoizdat, 1938
• [4] Miyairi S.: Analyt. Biochem. 1979 vol. 97
• [5] Pape M.: Industrial applications of photochemistry. Pure Appl. Chem. 1975 nr 4