Nowa wersja platformy, zawierająca wyłącznie zasoby pełnotekstowe, jest już dostępna.
Przejdź na https://bibliotekanauki.pl

PL EN


Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
2011 | Vol. 32, nr 4 | 403-406
Tytuł artykułu

Mechanizm niekonwencjonalnego azotowania jarzeniowego stali austenitycznej X2CrNiMo17-12-2

Warianty tytułu
EN
Mechanism of unconventional glow discharge nitriding of the austenitic stainless steel X2CrNiMo17-12-2
Języki publikacji
PL
Abstrakty
PL
W pracy dokonano analizy wpływu różnych parametrów procesu azotowania jarzeniowego w atmosferze azotowo-wodorowej na właściwości warstwy wierzchniej stali austenitycznej X2CrNiMo17-12-2. Umożliwiło to opracowanie mechanizmu azotowania jarzeniowego tej stali. Procesy azotowania jarzeniowego przeprowadzono w urządzeniu do azotowania typu JON-600. Ustalono, że proces azotowania na katodzie, a także wprowadzenie ekranu aktywnego, prowadzi do zwiększenia stężenia azotu w warstwie wierzchniej i objętości względnej azotków. Czynnikiem determinującym charakterystykę jakościową i ilościową zjawisk zachodzących w obecności ekranu aktywnego jest uzyskanie dużego stężenia oraz dużej wartości energii jonów azotu oddziaływujących z podłożem w trakcie azotowania.
EN
In the work the analysis of the influence of different parameters of the ionitriding process in H2 + N2 atmosphere on the properties of the surface layer of the austenitic stainless steel X2CrNiMo17-12-2 was made. It has allowed to elaborate the mechanism of the technical titanium ionitriding. The equipments used in the experimental work was a current glow-discharge furnace JON-600. It was found that the process of cathode nitriding and use of active screen leads to an increase in the concentration of nitrogen in the surface layer and the relative volume of the nitrides. A factor which determines qualitative and quantitative characteristics of phenomena which occur in the presence of the active screen is high concentration and high level of energy of nitrogen ions which interact with base material during nitriding.
Wydawca

Rocznik
Strony
403-406
Opis fizyczny
Bibliogr. 12 poz., rys.
Twórcy
autor
autor
Bibliografia
  • [1] Nakonieczny A.: Technologie azotowania. Stan obecny i perspektywy. Inżynieria Powierzchni 2 (2004) 3÷6.
  • [2] Roliński E.: Azotowanie jonowe tytanu i jego stopów. Prace Naukowe Politechniki Warszawskiej, Mechanika, z. 118 (1988).
  • [3] Frączek T., Olejnik M.: Znaczenie rozpylania katodowego w procesie azotowania jarzeniowego stali austenitycznych. Praca zbiorowa pod redakcją Lecha Szecówki: „Nowe technologie i osiągnięcia w metalurgii i inżynierii materiałowej”. Wydawnictwo Politechniki Częstochowskiej, Częstochowa (2008) 85÷88.
  • [4] Burakowski T., Roliński E., Wierzchom T.: Inżynieria powierzchni metali. Wydawnictwo Politechniki Warszawskiej. Warszawa (1992).
  • [5] Menthe E., Rie K.-T.: Further investigation of the strocture and properities of austenit stainless steel after plasma nitriding. Surface and Coatings Technology 200 (2006) 6558÷6562.
  • [6] Borgioli F., Galvanetto E., Bacci T., Pradelli G.: Influence of the treatment atmosphere on the characteristics of glow-discharge treated sintered stainless steels. Surface and Coatings Technology 149 (2002) 192÷197.
  • [7] Frączek T.: Niekonwencjonalne niskotemperaturowe azotowanie jarzeniowe materiałów metalicznych. Wydawnictwo WIPMiFS, Seria: Monografie nr 13, Częstochowa (2011).
  • [8] Kölbel J.: Die Nitridschichtbildung bei der Glimmentladung. Forschungsbericht des Landes NW ( Nordhein-Westfalen), nr 155, Westdeutscher Verlag, Köln, Opladen (1965).
  • [9] Keller K.: Schichtaufbau glimmnitrerter Eisenwerkstoffe. Härterei-Technische- Mitteilung (HTM) 26 (2) (1971) 120÷130.
  • [10] Michalski J.: Tworzenie się warstw powierzchniowych azotku i węglika tytanu w procesach krystalizacji z fazy gazowej w atmosferach chlorkowych. Instytut Mechaniki Precyzyjnej, Warszawa (2001).
  • [11] Zhao C., Li C. X., Dong H., Bell T.: Study on the active screen plasma nitriding and its nitriding mechanism. Surface & Coatings Technology 201 (2006) 2320÷2325.
  • [12] Gallo S. C., Dong H.: On the fundamental mechanism of active screen plasma nitriding. Vacuum 84 (2010) 321÷325.
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikatory
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BPL8-0021-0080
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.