Czasopismo
2001
|
T. 29, nr 1-2
|
69-69
Tytuł artykułu
Autorzy
Wybrane pełne teksty z tego czasopisma
Warianty tytułu
Języki publikacji
Abstrakty
Technology of the surface silicon micromachining developed in ITME compnses fabrication of a porous silicon as a sacrificial layer. This is need to suspend device over a cavity and thermally isolate sensing element from the heat sink. Two types of devices have been fabricated and characterised a: bolometer and a termopile.
Słowa kluczowe
Czasopismo
Rocznik
Tom
Strony
69-69
Opis fizyczny
Bibliogr. 2 poz.
Twórcy
autor
- Institute of Electronic Matrials Technology (ITME) ul. Wólczyńska 133, 01919 Warszawa, dobrza-l@sp.itme.edu.pl
Bibliografia
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikatory
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BPB2-0012-0079