Czasopismo
2001
|
T. 29, nr 3-4
|
20-35
Tytuł artykułu
Autorzy
Wybrane pełne teksty z tego czasopisma
Warianty tytułu
Ultraviolet detectors based on GaN and AlGaN
Języki publikacji
Abstrakty
Artykuł zawiera opis stosowanych obecnie konstrukcji i technologii fotodetektorów z GaN i AlGaN przeznaczonych do detekcji promieniowania ultrafioletowego oraz analizę wpływu parametrów fizycznych warstw epitaksjalnych GaN i AlGaN na właściwości tych fotodetektorów. Analiza dotyczy fotorezystorów, fotodetektorów z barierą Schottky'ego i fotodiod p-i-n. Omówiono uzyskane dotychczas charakterystyki elektryczne i fotoelektryczne tych przyrządów.
The design and technology of ultraviolet photodetectors made of GaN and AlGaN have been reviewed. The influence of physical parameters of GaN and AlGaN epitaxial layers on properties of these photodetectors has been analyzed. Presented analysis concerns photoconductors, Schottky barrier photodetectors and p-i-n photodiodes. The performance of these devices is described in detail.
Słowa kluczowe
Czasopismo
Rocznik
Tom
Strony
20-35
Opis fizyczny
Bibliogr. 54 poz., rys.
Twórcy
autor
- Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych ul. Wólczyńska 133 01-919 Warszawa, zynek-j@sp.itme.edu.pl
Bibliografia
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikatory
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BPB2-0010-0030