Warstwy dwutlenku tytanu nakładane metodą CVD wspomaganą plazmowo do zastosowań fotokatalitycznych

• Autorzy: Szymanowski, H. , Sobczyk, A. , Jakubowski, W. , Gazicki-Lipman, M.

Warianty tytułu

EN

Plasma enhanced CVD deposition of titanium dioxide films for photocatalytic applications

• Języki publikacji: PL EN

Abstrakty

PL

Chemiczne osadzanie z fazy gazowej w wysokiej częstotliwości zostało wykorzystane do syntezy cienkich warstw dwutlenku tytanu. Warstwami tymi powlekano podłoża szklane i krzemowe. Jako związek wyjściowy użyto chlorek tytanu IV, a proces nakładanie przebiegał w obecności tlenu. Aktywność fotokatalityczną warstw zbadano pod kątem ich właściwości bakteriobójczych. Do badań bakteriobójczych został użyty szczep bakterii Escherichia Coli K12 i promieniowanie UV. Właściwości optyczne wyznaczono spektrofotometrycznie, natomiast strukturę chemiczną przy użyciu spektroskopii FTIR. W niniejszej pracy przedstawiono wpływ zastosowanej mocy wysokiej częstotliwości na właściwości optyczne, strukturalne i bakteriobójcze.

EN

TiO2 thin films were synthesized using Radio Freqency Chemical Vapour Deposition process (RF PECVD). The films were deposited on glass and silicon substrate. Titanium tertrachloride derivatives have been used as precursor compounds, and the processes have been carried out in the presence of oxygen. The photocatalytics activity of the formed layers was studied by means of their antibacterial property. Bactericidal properties of the coatings were studied using cultures of K12 strain of Esterichia coli and the UV irradiation. Optical properties of the films have been examined by means of UV-VIS investigations. Chemical structure was investigated using FTIR spectroscopy. An effect of an RF power of the discharge on the optical, structural and the bactericidal properties of the films was investigated in this work.

Słowa kluczowe

PL

TiO2; PECVD; fotokataliza; Escherichia coli; spektroskopia FTIR

EN

TiO2; PECVD; photocatalyst; Escherichia coli; FTIR spectroscopy

• Czasopismo: Inżynieria Biomateriałów
• Rocznik: 2005
• Tom: R. 8, nr 43-44
• Strony: 32-36
• Opis fizyczny: Bibliogr. 10 poz.

Twórcy

autor

Szymanowski, H.

• Instytut Inżynierii Materiałowej, Politechnika Łódzka, ul. Stefanowskiego 1, 90-924, Lodz, Polska

autor

Sobczyk, A.

• Instytut Inżynierii Materiałowej, Politechnika Łódzka, ul. Stefanowskiego 1, 90-924, Lodz, Polska

autor

Jakubowski, W.

• Instytut Inżynierii Materiałowej, Politechnika Łódzka, ul. Stefanowskiego 1, 90-924, Lodz, Polska

autor

Gazicki-Lipman, M.

• Instytut Inżynierii Materiałowej, Politechnika Łódzka, ul. Stefanowskiego 1, 90-924, Lodz, Polska

Bibliografia

• [1] O.J. Jung, S.H. Kim, K.H. Cheong, W. Li, S.J. Saha: Bull. Korean Chem. Soc., 24, (2003), 49.
• [2] P. Amézaga-Madrid, G.U. Nevárez-Moorillon, E. Orrantia-Borunda, M. Miki - Yoshida: FEMS Microbiol. Lett., 211, (2002), 183.
• [3] J.A. Ibáòez, M.J. Litter, R.A. Pizarro: J. Photochem. Photobiol. A: Chem., 15, (2003), 81.
• [4] M.M. Kosaniæ: J. J. Photochem. Photobiol. A: Chem., 119, (1998), 119.
• [5] A. Fujishima, T.N Rao, D.A. Tryk: Electrochim. Acta, 45, (2000), 4683.
• [6] C.C. Trapalis, P. Keivanidis, G. Kordas, M. Zaharescu, M. Crisan, A. Szatvanyi, M. Gartner: Thin Solid Films, 433, (2003), 186.
• [7] M. Xu, N. Huang, Z. Xiao, Z. Lu: Supramol. Sci., 5,(1998), 449.
• [8] M. Xu, J. Ma, J. Gu, Z. Lu: Supramol. Sci, 5,(1998), 511.
• [9] H. Selhofor: Vacuum and thin films, August (1999) 15.
• [10] L. Martinu, M. Latréche, W. Hajek, J. E. Sapieha, A. Argoitia, W.T.Beauchamp: SVC 43 rd Annual Technical Conference Proceedings, Denver, April 15-20, (2000), 177.