The study of magnetic domain development in shielding films using MFM technique

• Autorzy: Ozimek, M. , Sikora, A. , Wilczyński, W.

Warianty tytułu

PL

Badania magnetycznych właściwości powierzchni cienkich warstw ekranujących za pomocą techniki MFM

• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

In the article we’ve described results of the research aimed on recognition magnetic domain structures of thin magnetic film that can be used as a shield. By correlating magnetic domain structures with macroscopic properties of the film, we can implement a new approach, where the large group of small samples is used to select limited group of large samples in order to perform final tests and select the solution suitable for mass production.

PL

W artykule zostały opisane wyniki badań mających na celu wskazanie możliwości zastosowania mikroskopii sił magnetycznych w opisywaniu cienkich warstw magnetycznych, stosowanych w ekranowaniu pola elektromagnetycznego.

Słowa kluczowe

PL

rozpylanie magnetronowe; domena magnetyczna; mikroskop sił magnetycznych; warstwa ekranująca

EN

magnetron sputtering; magnetic domain; magnetic force microscopy; shielding thin films

• Czasopismo: Przegląd Elektrotechniczny
• Rocznik: 2013
• Tom: R. 89, nr 8
• Strony: 208--210
• Opis fizyczny: Bibliogr. 18 poz., schem., wykr.

Twórcy

autor

Ozimek, M.

• Electrotechnical Institute Division of Electrotechnology and Materials Science, M. Sklodowskiej-Curie 55/61, 50-369 Wroclaw,

autor

Sikora, A.

• Electrotechnical Institute Division of Electrotechnology and Materials Science, M. Sklodowskiej-Curie 55/61, 50-369 Wroclaw,

autor

Wilczyński, W.

• Electrotechnical Institute, Pozaryskiego 28, 04-703 Warsaw,

Bibliografia

• [1] Choi Y.S., Yoo Y.H., Kim J.G. Kim S.H., A comparison of the corrosion resistance of Cu-Ni stainless steel multilayers used for EMI shielding, Surface & Coatings Technology, 201 (2006), 3775-3782
• [2] Jaroszewski M., Dielectric characterization of EM composite barrier materials with plasma layers on nonwoven fabrics. Composite Interfaces, 19 (2012), n.3–4, 171–178
• [3] Huang J.L., Yau B.S., Chen C.Y., Lo W.T., Lii D.F., The electromagnetic shielding effectiveness of indium tin oxide films, Ceramics International, 27 (2001), 363-365
• [4] Pospieszna J., Jaroszewski M., Ziaja J., Szafran G., Koprowska J., Włókniny polipropylenowe z węglowym pokryciem plazmowym w technice ekranowania pola EM, Przegląd Elektrotechniczny, 84 (2008), nr.10, 270-271
• [5] Kim S.W., Yoon C.S., High-frequency electromagnetic properties of soft magnetic metal-polyimide hybrid thin films, Journal of Magnetism and Magnetic Materials, 316 (2007), e893-e895.
• [6] Jaroszewski M, Pospieszna J, Ziaja J; Dielectric properties of polypropylene fabrics with carbon plasma coatings for applications in the technique of electromagnetic field shielding, Journal of Non-Crystalline Solids, 356 (2010), n11-17, 625-628
• [7] Ziaja J., Jaroszewski M.: EMI shielding using composite materials with plasma layers. Electromagnetic waves, (2011), 425-448, InTech.
• [8] Kim W.M., Ku D.Y., Lee I., Seo Y.W., Cheong B., Lee T.S., Kim I., Lee K.S. The electromagnetic interference shielding effect of indium-zinc oxide/silver alloy multilayered thin films, Thin Solid Films, 473 (2005), 315-320.
• [9] Ziaja J., Ozimek M., Janukiewicz J. Cienkowarstwowe ekrany pola elektromagnetycznego otrzymywane metodą impulsowego rozpylania magnetronowego, Przegląd Elektrotechniczny, 5 (2010), 222-224.
• [10] Ziaja J., Koprowska J., Janukiewicz J. Using Plasma Metallisation for Manufacture of Textile Screens Against Electromagnetic Fields, FIBRES & TEXTILES in Eastern Europe, 16 (2008), n.5, 64-66.
• [11] Więckowski T.J., Janukiewicz J.M., Method for Evaluating the Shielding Effectiveness of Textiles, FIBERS & TEXTILES in Estern Europe, 14 (2006), 18-22.
• [12] McCord J., Westwood. J., Domain Optimization of Sputtered Permalloy Shields for Recording Heads, IEEE Transaction on Magnetics, 37 (2001), n.4, 1755-1757.
• [13] Ozimek M., Sikora A., Gaworska-Koniarek D., Wilczyński W. Nanoskopowa analiza orientacji domen magnetycznych z wykorzystaniem technik bliskiego pola, Przegląd Elektrotechniczny, 4 (2010), 72-74.
• [14] Hsieh C.T., Liu J.Q., Lue J.T., Magnetic force microscopy studies of domain walls in nickel and cobalt films, Applied Surface Science, 252 (2005), 1899-1909.
• [15] Liebmann M., Schwarz A., Kaise U., Wiesendanger R. Magnetization reversal of structurally disordered manganite thin film with perpendicular anisotropy, Physical Review B, 71 (2005), 104431-1 - 104431-1.
• [16] Koblischka M.R., Hartmann U. Recent advances in magnetic force microscopy, Ultramicroscopy, 97 (2003), 103-112.
• [17] Koblischka M.R., Hewener B., Hartmann U., Wienss A., Cristoffer B., Persch-Schuy G. Magnetic force microscopy applied in magnetic data storage technology, Applied Physics A, 76 (2003), 879-884.
• [18] Kalinin S., Gruverman A. (Eds.), Scanning Probe Microscopy Electrical and Electromechanical Phenomena at the Nanoscale 2, (2007), Springer.