Dwuwzbudnikowa nagrzewnica indukcyjna do krystalizacji metodą PVT

• Autorzy: Wesołowski, M. , Niedbała, R.

Warianty tytułu

EN

Multi-inductor induction heating device for pvt semiconductor processing

• Konferencja: Konferencja Naukowo-Techniczna "Problemy cieplne w elektrotechnice i elektrotechnologie" (II ; 16-19.09.2013 ; Konopnica, Polska)
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Wytwarzanie monokrystalicznych materiałów półprzewodnikowych jest techniką zaawansowaną, wymagającą spełnienia szeregu wymagań. Jakość monokryształów zależna jest przede wszystkim od warunków termicznych w strefie krystalizacji, zmiennych zarówno w funkcji współrzędnych przestrzennych jak i czasu. W artykule zaproponowano konstrukcję dwuwzbudnikowej nagrzewnicy indukcyjnej, umożliwiającej generację i kontrolę profili temperaturowych we wsadach, w szerokim zakresie. Omówiono konstrukcję modelu urządzenia oraz uzyskane charakterystyki eksploatacyjne. Wykonane prace badawcze, oprócz wykazania możliwości tej techniki grzewczej, stanowiły podstawę do prezentacji charakterystycznych cech oraz problemów przy modelowaniu urządzeń tej klasy.

EN

Processing of semiconducting materials is a very advanced and complex technique. The quality of crystals depends on several factors, especially on temperature filed within the crystallization zone. In the article, the new two inductors induction heating system was presented. The system enables for generation and precisely control of different temperature profiles within the workpieces. Some details and characteristic of the model were discussed. Tests of device were used to show basic problems of numerical modeling of such devices.

Słowa kluczowe

PL

nagrzewnica indukcyjna; modelowanie; metoda PVT

EN

induction heating; zone control; modeling; PVT method

• Czasopismo: Zeszyty Naukowe. Elektryka / Politechnika Łódzka
• Rocznik: 2013
• Tom: z. 125
• Strony: 167--174
• Opis fizyczny: Bibliogr. 4 poz.

Twórcy

autor

Wesołowski, M.

• Politechnika Warszawska, Instytut Elektroenergetyki

autor

Niedbała, R.

• Politechnika Warszawska, Instytut Elektroenergetyki

Bibliografia

• [1] Wijesundara M., Azevedo R.: Silicon Carbide Microsystems for Harsh Environments, Springer 2011, ISBN: 978-1-4419-7120-3.
• [2] Souley M., Spangolo A., Pateau O., Hapiot J.C., Ladoux P., Maussion P.: Methodology to characterize the impedance matrix of multi-coil induction heating device, Electromagnetic Properties of Materials EPM, 2009.
• [3] Miyagi D., Saitou A., Takahashi N., Uchida N., Ozaki K.: Improvement of Zone Control Induction Heating Equipment for High-Speed Processing of Semiconductor Devices, IEEE Transactions on Magnetics, vol. 42, no. 2, 2006.
• [4] Niedbała R., Wesołowski M.: " Criterions for Selection of Volume Induction Heating Parameters": "Advances in Induction and Microwave Heating of Mineral and Organic Materials", InTech, 2011, ISBN 978-953-307-522-8.

Uwagi

Niniejsza praca jest współfinansowana przez Unię Europejską w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego, projekt ,,Program Rozwojowy Politechniki Warszawskiej"