Fotoelektrochemiczny rozkład soli sodowej kwasu ksylenosulfonowego w roztworze NaClO4 z dodatkiem NaClO

• Autorzy: Osiewała, L. , Socha, A. , Perek, A. , Rynkowski, J.

Warianty tytułu

EN

Photoelectrochemical decomposition of sodium xylenesulfonate in the solution of NaClO4 with NaClO addition

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Zbadano wpływ dodatku utleniacza chloranu(I) sodu do roztworu chloranu(VII) sodu na proces elektrochemicznego, fotochemicznego i fotoelektrochemicznego unieszkodliwiania soli sodowej kwasu ksylenosulfonowego. Całkowitą mineralizację związku uzyskano po 4 h reakcji fotoelektrochemicznej w roztworze z dodatkiem NaClO. Produktami końcowymi procesu fotoelektrochemicznego były woda, ditlenek węgla oraz jony siarczanowe.

EN

NaClO was added to NaClO₄ soln. to accelerate the photoelectrochem. degradn. of Na xylenesulfonate in presence of Ti/TiO₂, RuO₂ anode under UV irradn. (254 nm). Total mineralization was achieved after 4 h reaction.

Słowa kluczowe

PL

sól sodowa kwasu ksylenosulfonowego; rozkład fotoelektrochemiczny; reakcja fotoelektrochemiczna; mineralizacja

EN

sodium xylenesulfonate; photoelectrochemical decomposition; photoelectrochemical reaction; mineralization

• Czasopismo: Przemysł Chemiczny
• Rocznik: 2012
• Tom: T. 91, nr 2
• Strony: 206-209
• Opis fizyczny: Bibliogr. 29 poz., wykr.

Twórcy

autor

Osiewała, L.

• Instytut Chemii Ogólnej i Ekologicznej, Politechnika Łódzka, ul. Żeromskiego 116, 90-924 Łódź,

autor

Socha, A.

• Politechnika Łódzka

autor

Perek, A.

• Politechnika Łódzka

autor

Rynkowski, J.

• Politechnika Łódzka

Bibliografia

• 1. K. Stanton, C. Tibazarwa, H. Certa, W. Greggs, D. Hillebold, L. Jovanovich, D. Woltering, Integrated Environmental Assessment and Management 2010, 6, nr 1, 155.
• 2. A.N.M. Bagyo, W. Andayani, Ch.T. Suhani, Radiat. Phys. Chem. 2004, 69, 317.
• 3. A. Matero, A. Mattsson, M. Svensson, J. Surfactants Deterg. 1998, 1, nr 2, 485.
• 4. T.K. Hodgdon, E.W. Kaler, Curr. Opin. Colloid Interface Sci. 2007, 12, 121.
• 5. D. Varade, P. Bahadur, J. Surfactants Deterg. 2004, 7, nr 3, 257.
• 6. K.V. Padalkar, V.G. Gaikar, V.K. Aswal, J. Mol. Liq. 2009, 144, 40.
• 7. E.A. Setzkorn, R.L. Huddleston, J. Am. Oil. Chem. Soc. 1965, 28, 1081.
• 8. J. Wąsowski, A. Piotrowska, Ochrona Środowiska 2002, 85, nr 2, 27.
• 9. M. Kaneko, S. Suzuki, H. Ueno, J. Nemoto, Y. Fujii, Electrochim. Acta 2010, 55, 3068.
• 10. T. An, X. Zhu, Y. Xiong, Chemosphere 2002, 46, 897.
• 11. M. Antoniadou, P. Lianos, Catal. Today 2009, 144, 166.
• 12. K. Esquivel, L.G. Arriaga, F.J. Rodriguez, L. Martinez, L.A. Godinez, Water Res. 2009, 43, 3593.
• 13. A. Socha, E. Chrześcijańska, E. Kuśmierek, Dyes Pigm. 2005, 67, 71.
• 14. A. Socha, E. Sochacka, R. Podsiadły, J. Sokołowska, Dyes Pigm. 2007, 73, 390.
• 15. P. Suppan, Chemia i światło, Wydawnictwo Naukowe PWN, Warszawa 1997 r.
• 16. M. Hepel, J. Luo, Electrochim. Acta 2001, 47, 729.
• 17. W. Zang, T. An, X. Xiao, J. Fu, G. Sheng, M. Cui, G. Li, Appl. Catal. A 2003, 255, 221.
• 18. S. Xiao, J. Qu, X. Zhao, H. Liu, D. Wan, Water Res. 2009, 43, 1432.
• 19. J. Luo, M. Hepel, Electrochim. Acta 2001, 46, 2913.
• 20. Z. Zainal, C.Y. Lee, M.Z. Hussein, A. Kassim, N.A. Yusof, J. Photochem. Photobiol. A 2005, 172, 316.
• 21. J. Mendez-Diaz, M. Sanchez-Polo, J. Rivera-Utrilla, S. Canonica, U. von Gunten, Chem. Eng. J. 2010, 163, 300.
• 22. J. Ananpattarachai, P. Kajitvichyanukul, S. Seraphin, J. Hazard. Mater. 2009, 168, 253.
• 23. R. Zallen, M.P. Moret, Solid State Commun. 2006, 137, 154.
• 24. A. Di Paola, G. Cufalo, M. Addamo, M. Bellardita, R. Campostrini, M. Ischia, R. Ceccato, L. Palmisano, Colloids Surf. A 2008, 317, 366.
• 25. C. YanQing, W. ZuCheng, L. YuQiong, Chinese Sci. Bull. 2007, 52, nr 10, 1432.
• 26. Y. Feng, D.W. Smith, J.R. Bolton, J. Environ. Eng. Sci. 2007, 6, 277.
• 27. Q. Zeng, J. Fu, Y. Zhou, Y. Shi, H. Zhu, Clean Clean: Soil, Air, Water 2009, 37, nr 7, 574.
• 28. J. Jin, M.G. El-Din, J. Bolton, Water Res. 2011, 45, 1890.
• 29. E. Szabo-Bardos, O. Markovics, O. Horvath, N. Toro, G. Kiss, Water Res. 2011, 45, 1617.