Metody wytwarzania ostrzy skrawających ze spiekanego polikrystalicznego azotku boru oraz powłok azotku boru na narzędziach skrawających

• Autorzy: Kupczyk, M. J.
• Konferencja: VI Konferencja Szkoły Obróbki Skrawaniem na temat Efektywne Wytwarzanie, 17-19 września 2012, Lądek Zdrój
• Języki publikacji: PL

Słowa kluczowe

PL

ostrze skrawające; spiek; polikrystaliczny azotek boru; powłoka; azotek boru; narzędzie skrawające; cBN

EN

cutting tool; cutting edge; sintered material; polycrystalline boron nitride; coat; boron nitride; cBN

• Czasopismo: Mechanik
• Rocznik: 2012
• Tom: R. 85, nr 8-9CD (SOS)
• Strony: 15--22
• Opis fizyczny: Bibliogr. 32 poz., rys., tabl.

Twórcy

autor

Kupczyk, M. J.

• Politechnika Poznańska, Wydział Budowy Maszyn i Zarządzania, Instytut Technologii Mechanicznej, ul. Piotrowo 3, 60-965 Poznań

Bibliografia

• [1] ARYA S.P., D’AMICO A., Preparation, properties and applications of boron nitride thin films, Thin Solid Films, 1988, 157, s. 267.
• [2] BURAKOWSKI T., WIERZCHOŃ T., Surface engineering of metals – principles, equipment, technologies, CRC Press LLC, Catalog No. 8225, 1998.
• [3] BURAKOWSKI T., WIERZCHOŃ T., Inżynieria powierzchni metali, WNT, Warszawa 1995.
• [4] HIRAYAMA M., SHOHNO K., Journal of Electrochemical Society, 1975, 122, s. 1671.
• [5] KUPCZYK M., (kierownik projektu) Raport z projektu badawczego KBN nr 7 T08A 011 17, Badania właściwości technologicznych i eksploatacyjnych twardych powłok z azotku boru nanoszonych metodą impulsowo-plazmową (PPD) na ostrza skrawające, Poznań 2003.
• [6] KUPCZYK M., Tendencje rozwojowe w zakresie powłok przeciwzużyciowych wytwarzanych metodami PVD i CVD na ostrzach skrawających, Wyd. Poznańskiego Towarzystwa Przyjaciół Nauk, Prace Komisji Budowy Maszyn, t. 16, Poznań 1998, s. 57.
• [7] KUPCZYK M., Wytwarzanie i eksploatacja narzędzi skrawających z powłokami przeciwzużyciowymi, Wydawnictwo Politechniki Poznańskiej, Poznań 2009.
• [8] KUPCZYK M., Inżynieria powierzchni metali. Powłoki przeciwzużyciowe na ostrza skrawające, Wyd. Politechniki Poznańskiej, Poznań 2004.
• [9] MICHALSKI A., Fizykochemiczne podstawy otrzymywania powłok z fazy gazowej, Oficyna Wydawnicza Politechniki Warszawskiej, Warszawa 2000.
• [10] MICHALSKI A., Krystalizacja metastabilnych odmian azotku boru z fazy gazowej, in: 4 Szkoła Letnia „Modern plasma surface technology”, Koszalin 1994, s. 90.
• [11] MICHALSKI A., KRZEMPEK M., Otrzymywanie metastabilnych odmian BN z fazy gazowej z udziałem reakcji chemicznej wspomaganej elektronami, in: II Ogólnopolska Konferencja Naukowa „Obróbka powierzchniowa”, 1993, s. 155.
• [12] MICHALSKI A., OLSZYNA A., Electron Assisted HFCVD of E BN layers, Surface Coating & Technology, 1993, 60, s. 498.
• [13] MICHALSKI A., SOBCZAK S., KUPCZYK M., BN Coatings Obtained by the Pulse Plasma Method, Surface Engineering, 2000, No 6, s. 349.
• [14] MICHALSKI A., SOKOŁOWSKA A., Impulse Heated Filament Assisted of BN, in: Proc. of the 11th Int. Symp. On Plasma Chemistry, Loughbrough 1993, s. 1593.
• [15] MISIAK W., Wpływ parametrów wytwarzania powłok z azotku boru metodą impulsowo- -plazmową na ostrzach skrawających na ich jakość technologiczną i użytkową, praca doktorska, Politechnika Poznańska, Wydział Budowy Maszyn i Zarządzania 2003 (maszynopis).
• [16] MITURA S., SOKOŁOWSKA A., SZMIDT J., Perspektywy zastosowań warstw diamentowych, in: 4 Szkoła Letnia „Modern plasma surface technology”, Koszalin 1994, s. 107.
• [17] MOTOJIMA S., TAMURA Y., SUGIYAMA K., Low Temperature Deposition of Hexagonal BN Films by Chemical Vapour Deposition, Thin Solid Films, 1982, 88, s. 269.
• [18] MURARKA S.P., CHANG C.C., WANG N.K., SMITH T.E., Journal of Electrochemical Society, 1975, 126, s. 1671.
• [19] OLSZYNA A., Ceramika supertwarda, Oficyna Wydawnicza Politechniki Warszawskiej, Warszawa 2001.
• [20] Poradnik fizykochemiczny, WNT, Warszawa 1974.
• [21] RAND M., ROBERTS J., Journal of Electrochemical Society, 1968, 115, s. 423.
• [22] RANDHAWA H., Cathodic Arc Plasma Deposition Technology, Thin Solid Films, 1988, 167, s. 175.
• [23] SANO M., AOKI M., Chemical Vapour Deposition of Thin Films of BN onto Fused Silica and Sapphire, Thin Solid Films, 1981, 83, s. 247.
• [24] SOKOŁOWSKA A., Niekonwencjonalne środki syntezy materiałów, PWN, Warszawa 1991.
• [25] SOKOŁOWSKI M., SOKOŁOWSKA A., MICHALSKI A., ROMANOWSKI R., RUSEK-MAZUREK A., WRONIKOWSKI M., The Deposition of Thin Films of Materials with High Melting Points on Substrates at Room Temperature Using the Pulse Plasma Method, Thin Solid Films, 1981, 80, s. 249.
• [26] SPITSYN B., DERJAGUIN B., Patent SSSR No. 339134 (1980).
• [27] STEELE S.R., FEIST W., GETTY W., Research on Thin Film Tunnel Cathodes, Recombination Cathodes and Similar Cold Cathodes, Final Rep., 1966 (Contract DA28-043-AMC-0035(E)).
• [28] STEELE S.R., PAPPIS H., SCHILLING H., SIMPSON J., Chemical Vapour Deposited Materials for Electron Tubes, 1st Triannu. Rep., 1968 (Contract DAA1307-68-C-0156).
• [29] STJENBERG K.G., GAS H., HINTERMANN H.E., The Rate of Chemical Vapour Deposition, Thin Solid Films, 1977, 40, s. 81.
• [30] TAKAHASHI T., ITOH H., TAKEUCHI A., Chemical Vapour Deposition of Hexagonal Boron Nitride Thick Film on Iron, Journal of Cryst. Growth, 1979, 47, s. 245.
• [31] VOSSEN I.L., KERN V., Thin Film Processes, Academic Press, New York–London 1978.
• [32] WYSIECKI M., Nowoczesne materiały narzędziowe, WNT, Warszawa 1997.