Fotopolimeryzacja tiol-en dienów allilowych w imidazoliowych cieczach jonowych

• Autorzy: Marcinkowska, A. , Zgrzeba, A. , Andrzejewska, E.

Warianty tytułu

EN

Thiol-ene photopolymerization of allyl diene in imidazolium-based ionic liquids

• Konferencja: Sympozjum "Czwartorzędowe sole amoniowe i obszary ich zastosowania" (8 ; 01-03.07.2013 ; Poznań, Polska)
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Zaprezentowano badania przebiegu fotopolimeryzacji tiol-en w cieczach jonowych. Określono kinetykę polimeryzacji tiol-en ftalanu diallilu z 1,2-bis(2-merkaptoetoksy)etanem w obecności dwóch imidazoliowych cieczy jonowych: [BMIm][NTf2] oraz [EMIm][NTf2]. Badania kinetyczne uzupełniono o pomiary lepkości oraz oddziaływań międzycząsteczkowych w badanych układach wyjściowych metodą FTIR. Obecność cieczy jonowej w układzie tiol-en powoduje wzrost szybkości i skrócenie czasu reakcji oraz wzrost końcowego stopnia przereagowania.

EN

Diallyl phthalate was photopolymerized with (SHCH2CH2OCH2)2 in two 1-R-3-methylimidazolium bis(trifluoromethylsulfonyl) imides (R = Bu or Et) to study the polymerization kinetics (content 30–90% by mass) in air at 25°C by differential scanning calorimetry. The polymerization occured with higher rates, in shorter time and to higher conversions than that without the ionic liqs. The obsd. effect of ionic liqs. was associated both with intermol. interactions in the ternary system as well as with its viscosity.

Słowa kluczowe

PL

ciecze jonowe; fotopolimeryzacja; polimeryzacja

EN

ionic liquids; photopolymerization; polymerization

• Czasopismo: Przemysł Chemiczny
• Rocznik: 2013
• Tom: T. 92, nr 9
• Strony: 1630-1632
• Opis fizyczny: Bibliogr. 13 poz., rys.

Twórcy

autor

Marcinkowska, A.

• Instytut Technologii i Inżynierii Chemicznej, Wydział Technologii Chemicznej, Politechnika Poznańska, Pl. M. Skłodowskiej-Curie 2, 60-965 Poznań
• [e-mail]

autor

Zgrzeba, A.

• Politechnika Poznańska

autor

Andrzejewska, E.

• Politechnika Poznańska

Bibliografia

• 1. Ch.E. Hoyle, T.Y. Lee, T. Roper, J. Polym. Sci., Part A: Polym. Chem. 2004, 42, 5301.
• 2. B.D. Malhotra, Handbook of polymers in electronics, Rapra Technology Limited, Shrewsbury 2002 r.
• 3. K . Bock, Proc. IEEE 2005, 8, 1400.
• 4. J. Pączkowski, Fotochemia polimerów. Teoria i zastosowanie, Wydawnictwo Uniwersytetu Mikołaja Kopernika, Toruń 2003 r.
• 5. M.J. Park, I. Choi, J. Hong, O. Kim, J. App. Polym. Sci. 2013, DOI: 10.1002/APP.39064.
• 6. I. Stępniak, E, Andrzejewska, Electrochim. Acta 2009, 54, 5660.
• 7. E. Andrzejewska, M. Podgórska-Golubska, I. Stępniak, M. Andrzejewski, Polymer 2009, 50, 2040.
• 8. T. Lanza, M. Minozzi, A. Monesi, D. Nanni, Curr. Org. Chem. 2009, 13, 172.
• 9. B.C. Ranu, S.S. Dey, Tetrahedron 2004, 60, 4183.
• 10. W.D. Cook, S. Chausson, F. Chen, L.L. Pluart. Ch.N. Bowman, T.F. Scott, Polym. Int. 2008, 57, 469.
• 11. E. Andrzejewska, A. Marcinkowska, J. App. Polym. Sci. 2008, 110, 2780.
• 12. J.D. Fouassier, J.F. Rabek, Radiation curing in polymer science and technology t. 3, Polymerization mechanisms, Elsevier Applied Science, London 1993 r.
• 13. N .B. Cramer, T. Davies, A.K. O`Brien, Ch.N. Bowman, Macromolecules 2003, 36, 4631.

Uwagi

PL

Praca finansowana w ramach grantu 32-379/13 DS PB.