Nowa wersja platformy, zawierająca wyłącznie zasoby pełnotekstowe, jest już dostępna.
Przejdź na https://bibliotekanauki.pl

PL EN


Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Czasopismo
2002 | 80 |
Tytuł artykułu

Low temperature plasma oxidation of silicon-possibility of application in CMOS-ULSI technology

Treść / Zawartość
Warianty tytułu
Języki publikacji
EN
Abstrakty
EN
PL
Wydawca
-
Czasopismo
Rocznik
Tom
80
Opis fizyczny
p.247-256,fig.,ref.
Twórcy
autor
  • Warsaw University of Technology, Koszykowa 75, 00-662 Warsaw, Poland
autor
Bibliografia
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikatory
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.agro-article-f3b8fa8e-a041-41f4-8383-03f92b4cea0f
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.