PL
 |
EN
Nowa wersja platformy, zawierająca wyłącznie zasoby pełnotekstowe, jest już dostępna.
Przejdź na https://bibliotekanauki.pl

PL EN

Preferencje help
Polish version English version Język
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Czasopismo

Acta Agrophysica

2002 | 80 |
Tytuł artykułu

Formation by PECVD of very thin silicon oxynitride [SIOxNy] layers technology and characterisation

Autorzy
Beck R.B. , Cuch M. , Wojtkiewicz A. , Kudla A. , Jakubowski A.
Treść / Zawartość
Pełne teksty:
Formation by PECVD of.pdf
Warianty tytułu
Języki publikacji
EN
Abstrakty
EN
PL
Słowa kluczowe
EN
Wydawca
-
Czasopismo
Acta Agrophysica
Rocznik
2002
Tom
80
Opis fizyczny
p.257-266,fig.,ref.
Twórcy
autor
Beck R.B.
  • Warsaw University of Technology, Koszykowa 75, 00-662 Warsaw, Poland
autor
Cuch M.
autor
Wojtkiewicz A.
autor
Kudla A.
autor
Jakubowski A.
Bibliografia
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikatory
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.agro-article-9f5f951f-a256-42e7-94b7-4d84a6f7533e
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.