Ograniczanie wyników
Czasopisma help
Autorzy help
Lata help
Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 29

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 2 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  thin layer
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 2 next fast forward last
PL
Często stosowaną techniką naprawy zdegradowanej powierzchni zbiornika, komina, chłodni czy silosu jest pokrycie tej powierzchni materiałem naprawczym. Jest to zazwyczaj włóknokompozyt na bazie włókien szklanych, bazaltowych lub węglowych o istotnie różnych parametrach rozszerzalności termicznej od materiału powierzchni naprawianej. Przedmiotem rozważań jest określenie rozkładu naprężeń w warstwie naprawianej oraz w powłoce naprawczej w warunkach zmiany temperatury w stosunku do temperatury, w której doszło do połączenia obu warstw. W pracy zaprezentowano wzory na naprężenia wyprowadzone na podstawie ogólnych zasad teorii sprężystości oraz mechaniki naczyń cienkościennych. Przedstawiono przykład numeryczny potwierdzający trafność oszacowania naprężeń za pomocą wyprowadzonych wzorów. W pracy zamieszczono także rozwiązanie numeryczne pewnego realnego problemu inżynierskiego.
EN
A frequently used technique of repairing a degraded area of a tank, chimney, cold store or silo is to cover this surface with repair material. It is usually a fiber composite based on glass, basalt or carbon fibers with thermal expansion parameters which differ significantly from those of the material of the repaired surface. The article discusses the issue of determining the distribution of stresses in the repaired layer and in the repair coat in the conditions of temperature change in relation to the temperature at which the two layers were joined. The paper presents stress formulas derived from the general principles of the theory of elasticity and the mechanics of thin-walled vessels. A numerical example confirming the accuracy of stress estimation using derived formulas is presented. The work also includes a numerical solution to a certain real engineering problem.
PL
W ostatnich latach wykonano w kraju wiele posadzek betonowych. Znaczna ich część na skutek wyeksploatowania, zmiany charakteru użytkowania lub też błędów projektowych, a częściej wykonawczych wymaga przeprowadzenia napraw i wzmocnień. W artykule przedstawiono aspekty technologiczne rekonstrukcji posadzek za pomocą cienkich warstw cementowo polimerowych o zredukowanym skurczu. Zaprezentowano wyniki badania wpływu różnego rodzaju i ilości dodatków dyspersji polimerowych, warunków dojrzewania na skurcz, rozwój wytrzymałości na ściskanie i zginanie oraz przyczepność do podłoża betonowego kompozytów cementowo-polimerowych [7].
EN
In recent years in Poland there have been constructed many concrete floors. Their significant part, due to long-term exploitation, change in service character, design or most frequent execution mistakes, requires repairs or strengthening. In the paper there are presented technological aspects of conducting the reconstruction of floors by the means of thin cement polymer layers with reduced shrinkage. There are included in paper tests results of the influence of different type and amount of polymer dispersion additive as well as maturity conditions onto the shrinkage, bending and tensile strength development, adhesion to the cement-polymer concrete composite base [7].
PL
Sputtering magnetronowy jest techniką napylania warstw cienkich znajdującą coraz większe zastosowanie w procesach wytwarzania elektroniki i ogniw fotowoltaicznych [1,2]. Celem prezentowanych w artykule prac badawczych, jest analiza możliwości zastosowania podłoża alternatywnego do powszechnie stosowanych i tym samym osiągnięcie zmian topografii warstw otrzymywanych w procesie sputteringu magnetronowego. Zaburzenie topografii podłoża może skutkować większym uporządkowaniem struktury warstwy, co oznacza bardziej jednolitą powierzchnię, lub zjawiskiem całkowicie odwrotnym. Oba rezultaty są pożądane z punktu widzenia zastosowań produkcyjnych. Z jednej strony poszukuje się cienkich i jednolitych warstw, a z drugiej warstw o zmodyfikowanej topografii. Według autora, modyfikacja topografii warstw pochłaniających promieniowanie, może doprowadzić do zwiększenia powierzchni czynnej ogniwa fotowoltaicznego a co za tym idzie zwiększyć jego wydajność [3]. W czasie eksperymentów autor używał jako podłoża standardowego szkła laboratoryjnego (float) oraz laminatu (papier z żywicą). Dokonano serii naniesień warstw cienkich, celem otrzymania kompletnego ogniwa. Ogniwa na szkle jak i na laminacie były wykonane w tych samych warunkach i parametrach kolejnych procesów. Kolejne warstwy wchodzące w skład budowy ogniwa były tak nanoszone, by istniała możliwość ich późniejszej analizy (stosowano odpowiednie przesłony). Po wykonaniu ogniw, została sprawdzona ich wydajność kwantowa, którą odniesiono do obserwacji otrzymanych w wyniku skanowania AFM kolejnych warstw.
EN
Magnetron Sputtering can create thin layers with can be used for electronic elements or photovoltaic cells [1,2]. The objective presented in the article concern the possibility of using photovoltaic cells substrates alternative to the commonly used. The author hypothesizes that the changes in the topography of the layers obtained by the sputtering magnetron are the consequence of disorders to the topography of the substrate.This disorder may result in a greater re-arrangement of the layer structure, leading to a more uniform after-surface, a phenomenon completely the opposite of what was thought.Both results are desirable in production applications. On the other hand, the most sought after result is the thin, uniform layers being the other layers of the modified topography. Disturbed layers can increase the active surface of the photovoltaic cell and thus increase its efficiency [3]. During the experiments, the author used as a base standard laboratory glass (float) and the laminate (paper with resin). There have been a series of thin layers of annotations, in order to obtain a complete cell. Cells on glass and the laminate was manufactured under the same conditions and parameters of other processes. Successive layers included in the construction of the cells to be applied so that it is possible subsequent analysis (using the appropriate aperture). After the cells were tested for quantum efficiency, which was related to the observation obtained by scanning successive layers of AFM.
PL
W prezentowanym artykule, autorzy skupili się na analizie zmian wydajności ogniw fotowoltaicznych, których jednym z kluczowych składników jest CdS. Wykorzystując urządzenie do (napylania) sputteringu magnetronowego, autorzy podjęli próbę modyfikacji wybranych składników procesu nanoszenia warstw materiału. Celem wskazanego działania było zwiększenie wydajności ogniw, usprawnienie oraz obniżenie kosztów procesu produkcyjnego. Autorzy przebadali grupę wytworzonych przez siebie w różnych (wskazanych eksperymentem) warunkach ogniw, analizując ich wydajność w przypadku światła białego, wydajność względem długości fali oświetlającej oraz odnieśli otrzymane wyniki do zmian w topografii warstw CdS. Domniemywano, że podobnie jak w przypadku innych materiałów (autorzy we wcześniejszych pracach zajmowali się poprawą parametrów elektro-optycznych podłoży przewodzących), utrzymywanie procesu w możliwie wysokiej temperaturze spowoduje lepsze uporządkowanie struktury CdS a tym samym poprawę parametrów elektro-optycznych. Postanowiono zbadać, czy podobna zależność wpłynie na wydajność ogniwa fotowoltaicznego. Równolegle autorzy pracują nad technikami mającymi zmodyfikować topografię ogniw fotowoltaicznych w celu zwiększenia powierzchni czynnej. Postanowiono zatem zbadać przedstawione powyżej zagadnienia w możliwie najszerszy sposób.
EN
In this paper, the authors focused on the analysis of changes in the efficiency of photovoltaic cells, where one of the main components is CdS. Using the magnetron sputtering device, the authors attempted to modify the selected components during applying layers of material. The purpose of that experiment was to increase cell efficiency, streamlining and reducing the cost of the production process. The authors studied a group of 27 prepared photovoltaic cells, created in different (indicated by experiment) process conditions. The different effects was examined: the cell efficiency in the case of white light illumination, efficiency in relation to the wavelength of the illumination, and also the obtained results to changes in the topography of the CdS layer. It was alleged that, as in the case of other materials (the authors of the earlier work dealt with the improvement in performance electro-optical conductive substrates), keeping the process as possible high temperature will result in a better structuring of CdS and thus improving the performance of electro-optical devices. It was decided to investigate whether a similar relationship will affect the performance of the photovoltaic cell. In parallel, the authors are working on techniques having to modify the topography of photovoltaic cells to increase the active surface. It was therefore decided to examine the above issues in the widest possible way.
5
Content available remote Classification algorithms to identify changes in resistance
EN
In the article the basic method for measuring the resistance of medical electrodes, made based on a thin conductive layer formed during the PVD process, is described. The authors also briefly characterized two algorithms for data classification: k-nearest neighbors and Bayes classifier, which were used as algorithms to detect changes in the electrode resistance.
PL
W artykule została opisana podstawowa metoda pomiaru rezystancji elektrod medycznych wykonanych w oparciu o cienkie warstwy przewodzące powstałe w procesie PVD. Scharakteryzowano również krótko dwa algorytmy klasyfikacji danych: algorytm k najbliższych sąsiadów oraz klasyfikator bayowski, które zostały wykorzystane jako algorytmy identyfikacji zmian rezystancji elektrod.
PL
Powszechnie wiadomo, iż w oddziaływaniu fotonów z materią może dojść do odbicia, absorbcji i przenikania. W rozwiązaniach fotowoltaicznych, możliwość pomiaru i kontroli tych zjawisk na poziomie badań i produkcji ma kluczowe znaczenie w odniesieniu do ich późniejszej wydajności. Możliwość kontroli grubości warstw w czasie ich nanoszenia metodą napylania magnetronowego, czy też ich redukowania stosując trawienie plazmą, pozwala na dobór optymalnych parametrów optycznych i elektrycznych tworzonych ogniw cienkowarstwowych. W niniejszej pracy trawiono plazmą cienkie warstwy CdTe i SnO2, naniesione we wcześniejszym etapie metodą rozpylania magnetronowego w próżni. Określono parametry technologiczne napylania magnetronowego i trawienia plazmą wpływające na właściwości warstw. Warstwy obrazowano przy użyciu AFM, natomiast pomiary grubości i pomiary współczynnika odbicia dokonano z wykorzystaniem elipsometrii. Przeprowadzone badania wykazały, że trawienie plazmą cienkich warstw w istotny sposób wpływa na zmianę ich refleksyjności (zarówno warstwy półprzewodnika ditlenku cyny jak i tellurku kadmu). Wykazano również ścisły związek użytej mocy i czasu trawienia z redukcją grubości warstwy. Obrazowanie AFM uwidoczniło zmiany w wielkości i ilości ziaren powierzchni trawionych warstw i wzrost ich nieregularności ułożenia, wraz ze zmieniającymi się parametrami procesu. Stwierdzono możliwość całkowitego usunięcia cienkich warstw w procesie trawienia plazmą i w efekcie możliwość uszkodzenia podłoża warstw trawionych co jednak wymaga dalszych badań w tym zakresie.
EN
It is well known that the reaction of photons with matter may lead to reflection, absorption and permeation. In the photovoltaic solutions, the ability to measure and control these phenomena at the level of research and production is crucial in terms of their performance and quality. The ability to control the thickness of the layers at the time of applying magnetron sputtering method or the plasma etching using a reduction allows for selection of the optimum optical and electrical parameters of the formed thin-layer cells. In this study, plasma was digested with thin layers of CdTe and SnO2, deposited by magnetron sputtering in a vacuum. Technological parameters of magnetron sputtering and plasma etching affecting the properties of layers have been specified. The layers were imaged using AFM, and the measurements of the thickness and reflectance measurements were made with the use of ellipsometry. The study showed the plasma etching of thin layers is an important contribution to change their reflectivity (both layers of semiconductors - tin dioxide and cadmium telluride). It was demonstrated the close relationship of the applied power and etching time with the reduction of the layer thickness. AFM imaging revealed changes in the size and number of grains etched surface layers and an increase of their irregular arrangement, together with changing process parameters. The possibility of complete removal of thin layers of plasma etching process, resulting in possible damage to the substrate etched layers has been stated, however, it requires further research in this area.
7
Content available remote Ferromagnetic and spin wave resonances in thin layer of expanded austenite phase
EN
Four samples of austenite coatings deposited by reactive magnetron sputtering on silicon substrate at four different temperatures and pressures were investigated by ferromagnetic resonance (FMR) method at room temperature. The expanded austenite phase S (gN) layers with thickness in the 160 – 273 nm range and concentration of magnetic atoms: 72 % Fe, 18 % Cr and 10 % Ni, were obtained. The coatings with nanometric size grains were strongly textured and grown mostly in [100] direction, perpendicular to the sample surface. Intense FMR spectra were recorded at various angles between the static magnetic field direction and the sample surface. A strong magnetic anisotropy of the main uniform FMR mode was observed and the effective magnetization 4πMe f f determined. Spin wave resonance (SWR) modes were observed in all investigated samples in out-of-plane geometry of the magnetic field. The resonance fields of SWR modes in our samples varied linearly with the spin wave mode number. The value of the effective magnon stiffness constant was determined assuming a parabolic shape of the magnetization variation across the sample thickness.
PL
Sputtering magnetronowy jest techniką napylania warstw zdobywającą coraz większe zainteresowanie w procesach wytwarzania elementów elektronowych i ogniw fotowoltaicznych. Celem prezentowanych w artykule prac badawczych, była analiza możliwości modyfikacji składu i topografii warstw otrzymywanych w procesie sputteringu magnetronowego z wykorzystaniem elementów sterowanych zewnętrznie. Rolą wprowadzonych do układu elementów zewnętrznych było zaburzenie procesu nanoszenia warstw. Zaburzenie nanoszenia warstw może skutkować pozytywnie, powodując większe uporządkowanie struktury warstwy lub bardziej jednolitą powierzchnię, lub negatywnie - całkowicie uniemożliwiając prawidłowe napylenie warstwy. Oba rezultaty są pożądane z punktu widzenia zastosowań produkcyjnych. Z jednej strony poszukuje się cienkich i jednolitych warstw, a z drugiej - warstw o zmodyfikowanej topografii. W czasie eksperymentów autorzy użyli siatek stalowych oraz przewodników miedzianych umieszczonych w wybranych odległościach od siebie jak i podłoża, a następnie napylali miedź na powierzchnię płytek ze szkła laboratoryjnego. Następnie próbki zostały przebadane przy pomocy mikrosondy wykrywającej skład atomowy substancji i mikroskopu sił atomowych celem analizy zmian w topografii. Autorzy spodziewali się otrzymać warstwy o zwiększonej powierzchni aktywnej. Zgodnie z przewidywaniami autorów otrzymane warstwy okazały się znacznie cieńsze. Interesujący jest natomiast fakt, że ich struktura była bardziej uporządkowana niż na próbce referencyjnej, a ich chropowatość znacznie mniejsza. Podczas eksperymentów nie doszło także do wybijania materiału z dodatkowych elementów wprowadzonych do układu.
EN
Magnetron sputtering is a technic to spray sheets that acquire more interests in electronics and photovoltaic fabrication. The aim of the research presented in present paper was to analyze the possibility of modifying of the layers obtained by the magnetron sputtering - using elements controlled externally. Those elements can modify obtained layers in two different ways: positive by greater orderliness of structure or more uniform surface, or negative causing gaps in sputtered coating. Both results are desirable from the applications point of view. On the one hand seeking to thin and uniform layers on the other layers of the modified topography. During the experiments, the authors used a wire mesh and copper conductors located in some distance from each other and the substrate. Then the samples were tested using the SEM microscope witch detection probe that allow to detect the layer composition substances and atomic force microscope for analysis of changes in topography. Authors hoped to achieve layers with greater active surface area. As authors suspected, sputtered layers were a lot thinner. Interesting fact is that their structure was a lot more ordered than the reference sample, and their roughness was smaller. During the experiment there was no material extraction from additional elements.
PL
Wykorzystanie sputterigu jako metody nanoszenia cienkich warstw materiałów wykorzystywanych w produkcji paneli fotowoltaicznych jest powszechnie znane. W sferze eksperymentalnej częstym problemem pozostaje ekonomiczne źródło pozyskiwania targetów o modyfikowanym składzie (wieloskładnikowych) – szczególnie targetów niezbędnych do wykonania pojedynczych eksperymentów. Szczególnie problem ten jest dotkliwy w urządzeniach wykorzystujących targety o dużych rozmiarach, takich jak Line 440 firmy Alliance Concept. Rozmiar targetu w Line 440 to 38 x 13 cm i sporadycznie używana jest powierzchnia całego targetu. Uwarunkowania techniczne umieszczania targetów (w urządzeniach w konfiguracji odwróconej, gdzie target znajduje się nad napylaną próbką), koncepcji ich wytwarzania, statystyk dystrybucji materiału oraz wprowadzania niepożądanych pierwiastków zanieczyszczeń, wymagała opracowania i przygotowania oddzielnego, poświęconego tylko tej tematyce procesu badawczego. Ważne jest, że konfiguracja odwrócona magnetronu, uniemożliwia zastosowanie dodatków w postaci np. sprasowanych tabletek z materiałem. Należy nadmienić, że próba stworzenia własnych targetów do pojedynczych napyleń była rzeczą priorytetową w przedstawionych badaniach. Przeanalizowano możliwość zastosowania siatki jako elementu umożliwiającego wybijanie dodatkowego pierwiastka znajdującego się pod stworzonym targetem wieloskładnikowym. W niniejszej pracy został zawarty opis prób polegających na wytworzeniu własnych targetów wieloskładnikowych oraz metod ich montażu. Dodatkowo wykonano szczegółową analizę składu napylonych powłok, przeanalizowano możliwość mieszania się składników pochodzących z targetu w wytworzonej cienkiej warstwie oraz dystrybucję pierwiastków targetu w obrębie komory magnetronu.
EN
The magnetron sputtering method is well known as a technique for thin layers preparation. Obtained photosensitive thin layers can find usage in many fields of electronic and photovoltaic technology. Mainly prepared experiments are based on material targets provided by specialized manufacturers – with defined composition. Size of the targets define costs of its purchase specially when experiments do not provide usage of the prepared target more then once. This problem is important with devices equipped by large size targets - such as Alliance Concept Line 440 (38 x 13 cm target size). The common difficulty in experimental applications is a method of preparation of the targets with modified composition - specially multi-component ones. The technical specifications for targets (in used by presented experiments up-right magnetron construction), the concept of its preparation (compressed tablets, sputtered structures), material distribution statistics (aperture, mouting method), impurity elements – creates very interesting issue in own targets preparation and obtained layers analysis. Attempt to create targets for individual layer composition in Line 440, seemed very desirable thing and it was a priority in the presented research. In the present work has been included description of the prepared tests involving the creation of their own multiple targets and obtained structures analysis.
PL
W artykule analizowano wpływ zmiany modułu Younga warstw podłoża gruntowego na częstości drgań własnych układu belka-dwuwarstwowe podłoże przy założeniu, że pierwsza warstwa podłoża jest znacznie cieńsza i sztywniejsza od drugiej. Taka nietypowa sytuacja stwarza czasem szczególne trudności w geotechnice. Obliczenia przeprowadzono najpierw w ujęciu deterministycznym, a następnie stochastycznym. W analizie stochastycznej założono przestrzenną korelację modułu Younga gruntu po długości każdej z warstw przyjmując dwa stopnie korelacji, korelację pełną lub jej brak. W obliczeniach uwzględniono pełną korelację modułu Younga gruntu pomiędzy warstwami, co wynika z badań, które autorzy zamieścili we wcześniejszej pracy. Do rozwiązania stochastycznego zagadnienia własnego zastosowano metodę Monte Carlo łącznie z metodą elementów skończonych (MES). Prezentowana analiza jest kontynuacją problematyki przedstawionej w poprzednich pracach autorów.
EN
In this paper the influence of variability of Young modulus of the subsoil layers on the natural frequency of the beam-two-layered subsoil system was analyzed. Assuming the first layer was thinner and more rigid then the second one (10 and 20 times). The calculations were made by using deterministic and stochastic approach. In the stochastic approach, the spatial correlation of Young modulus of the subsoil along the length of both layers was taken into account. Two cases of the correlation were considered, i.e. without and with full correlation. Regarding the results of the authors’ research which were published in the previous article, in the calculations the full stochastic correlation of Young modulus of subsoil between both layers was taken into account. In order to solve the stochastic eigenvalue problem, Monte Carlo simulation techniques with Finite Element Method (FEM) were used. The present analysis is a continuation research demonstrated in the authors’ previous papers.
EN
This paper examines different factors affecting mechanical properties of masonry in compression. Experimental investigations of high precision hollow calcium silicate block masonry with thin layer and general purpose mortar bed joints are presented. Characteristic compressive strength of such masonry determined by experiments was compared with the one which was established by Eurocode 6 [1] method. The analysis of the results of high precision calcium silicate block masonry investigations revealed that the values of the characteristic compressive strength of masonry with thin layer bed joints defined by EC6 method exceed the values determined by experiments made in accordance with EN 1052-1 [21]. According to the results of experimental research, some suggestions are made on how to specify the characteristic compressive strength of masonry which is produced from 1st and 2nd group hollow calcium silicate blocks with thin layer bed joints.
PL
W artykule analizowano różnego typu czynniki wpływające na właściwości mechaniczne muru ściskanego. Przedstawiono badania doświadczalne murów wykonanych z bloczków silikatowych drążonych o cienkich spoinach warstwowych. Wytrzymałość charakterystyczną na ściskanie takich murów otrzymaną w badaniu porównano z metodą określania wytrzymałości podaną w Eurokodzie 6 [1]. Analiza wyników badań murów wykonanych z bloczków silikatowych wykazała, że wartości charakterystycznej wytrzymałości na ściskanie takich murów określonych zgodnie z metodą podaną w EC6 mogą przekraczać wartości wytrzymałości otrzymane w wyniku badań doświadczalnych wykonanych zgodnie z normą EN 1052-1 [21]. Na podstawie wyników badań eksperymentalnych przedstawiono propozycje określenia charakterystycznej wytrzymałości na ściskanie muru który jest produkowany z 1 i 2 grupy bloków silikatowych drążonych o cienkich spoinach warstwowych.
12
Content available remote New concept of finite element method for FGM materials
EN
The aim of this paper is new concept of nonhomogeneous finite elements due to FGM composite material. The main idea of functionally graded materials is a smooth variation of material properties, such as modulus of elasticity, coefficient of thermal conductivity or coefficient of thermal expansion, due to continuous change of microstructure. Composite material containing metal or metal alloy as a matrix and ceramic as fibres without FGM interface thin layer may lead to damage or failure due to delamination of the ceramic film from the substrate. This is the result of localized stress gradients at the interface. Classical finite element formulation contains constant material properties, which leads to numerical errors. A proper approach to solve this problem requires application of nonhomogeneous FE containing additional approximation functions in order to interpolate material properties at the level of each finite element. In practice, material shape functions can be represented by exponential or power functions describing individual character of inhomogeneity.
PL
Celem niniejszego artykułu jest prezentacja nowego typu niejednorodnego elementu skończonego służącego do modelowania cienkiej warstwy materiału kompozytowego FGM. Cechą główną materiału FGM (functionally graded materials) jest gładka, funkcyjna zmienność parametrów materiałowych, takich jak moduł Younga, współczynnik rozszerzalności termicznej czy współczynnik przewodności termicznej w zależności od zmiany mikrostruktury. Materiał kompozytowy zawierający metal lub stop metali jako matrycę i materiał ceramiczny jako włókna bez warstwy przejściowej FGM narażony jest na powstawanie lokalnych koncentracji naprężeń na granicach interfejsu. Klasycznie sformułowany element skończony zawiera stałe parametry materiałowe, co prowadzi do znacznych błędów numerycznych. Rozwiązaniem tego problemu jest zastosowanie sformułowania elementu skończonego z dodatkową funkcją aproksymacyjną służącą do interpolacji własności materiałowych na poziomie każdego elementu. W praktyce materiałowe funkcje kształtu są definiowane jako funkcje eksponencjalne lub potęgowe opisujące indywidualny charakter niejednorodności.
13
Content available remote Neural network modeling of thin carbon laser
EN
This paper presents the possibility of using neural networks model for designing a thin carbon layer obtained after carbonizing process in fluidized bed. The carbonizing process in fluidized bed is very complicated and difficult. Very often the structure of the materials is non-homogeneous. This fact and the lack of mathematical algorithms describing carbonizing process makes modeling properties of drive elements by traditional numerical methods difficult or even impossible. In this case, it is possible to try using another nonconventional numerical method such as, e.g., neural network. Using neural networks for modeling carbonizing process in fluidized bed is caused by several nets' features: non-linear character, ability to generalize the results of calculations for data out of the training set. no need for mathematical algorithms describing the influence of changes of input parameters on the modeling properties of materials. This paper presents the manner of designing and preparing neural network structure, choosing input parameters, the way of formatting data in input database and preparing learning and testing. It also presents the method of learning and testing neural networks, the way of limiting nets structure and minimizing learning and testing error. The specially prepared neural networks model vers often is helpful for engineering decisions and may be used in designing carbonizing process in fluidized bed as well as in controlling changes of this process.
14
Content available remote Application of DLC layers in 3-omega thermal conductivity method
EN
Purpose: The 3-omega method is a unique measuring technique which can be applied for thermal conductivity measurements of bulk materials and layers. In order to measure thermal conductivity of semiconducting and metallic materials (e.g. thermoelectric materials) it is necessary to separate the sensor from the substrate by a dielectric layer. The layer should exhibit thermal conductivity .s comparable or greater than thermal conductivity of characterised materials, as well as good, electrically insulating properties. Design/methodology/approach: The DLC layers were prepared via the magnetron sputtering technique. The reactive sputtering process was carried out in the mixture of Ar and methane (CH4) work gases at the pressure ranging from 0.3 to 0.7 Pa. The layers were deposited on glass and selected thermoelectric materials. The temperature of substrate was controlled in range from 35 oC to 500 oC depending on type of the substrate material. The thickness of received DLC layers was in range from 0.2 to 2 žm. Findings: In order to estimate the accuracy of the modified 3-omega method thermal conductivity measurement results were compared to results of measurements without additional DLC layers and independent data obtained by the laser-flash method. Analysis of experimental results of test measurements show that application of 300 nm thick DLC insulating films allow for characterization of materials exhibiting . < 1.2Wm-1K-1 with the accuracy better than 9%. Research limitations/implications: Results of investigations indicate that prepared DLC layers satisfy requirements of 3-omega method and do not influence significantly on precision and accuracy of thermal conductivity measurements. Originality/value: We have developed the new method of preparation of diamond-like carbon (DLC) layers which satisfy requirements of the 3-omega technique. The layers can be applied for thermal properties measurements of selected thermoelectric materials.
15
Content available remote Ferromagnetic and structural properties of Ge1-xMnxTe epitaxial layers
EN
Magnetic properties of thin layers of p-Ge1–xMnxTe (x < 0.2) semimagnetic (diluted magnetic) semiconductor exhibiting carrier induced ferromagnetism were experimentally studied. The layers were grown on BaF2 (111) substrates by molecular beam epitaxy technique. X-ray diffraction analysis performed at room temperature revealed monocrystalline (111)-oriented rhombohedral (exhibiting ferroelectric properties) crystal structure of Ge1–xMnxTe layers in the entire range of Mn content studied. The examination of the magnetic properties of the layers carried out by superconducting SQUID magnetometry and ferromagnetic resonance technique showed the ferromagnetic transition with the Curie temperature in the range 10–100 K depending on the Mn content and the hole concentration. Contrary to polycrystalline GeMnTe layers, it was experimentally found that in monocrystalline layers of GeMnTe an easy magnetization axis is directed along a normal to the layer plane. This effect is discussed in terms of strain present in these layers due to thermal expansion coefficients mismatch between the substrate and the GeMnTe layer.
16
Content available remote Ferromagnetic transition in Ge1-xMnxTe semiconductor layers
EN
Magnetic properties of thin layers of p-Ge1-xMnxTe (x < 0.2) semimagnetic (diluted magnetic) semiconductor exhibiting carrier induced ferromagnetism were experimentally studied. The layers were grown on BaF2 (111) substrates by molecular beam epitaxy technique. X-ray diffraction analysis performed at room temperature revealed monocrystalline (111)-oriented rhombohedral (exhibiting ferroelectric properties) crystal structure of Ge1-xMnxTe layers in the entire range of Mn content studied. The examination of the magnetic properties of the layers carried out by superconducting SQUID magnetometry and ferromagnetic resonance technique showed the ferromagnetic transition with the Curie temperature in the range 10-100 K depending on the Mn content and the hole concentration. Contrary to polycrystalline GeMnTe layers, it was experimentally found that in monocrystalline layers of GeMnTe an easy magnetization axis is directed along a normal to the layer plane. This effect is discussed in terms of strain present in these layers due to thermal expansion coefficients mismatch between the substrate and the GeMnTe layer.
PL
Prezentowany artykuł przedstawia wyniki symulacji rozkładu pola magnetycznego w obszarze źródła plazmy łukowej oraz w dwóch różnych układach filtrujących mikrokrople (w filtrze magnetycznym typu kolanowego oraz w filtrze typu " T") emitowane z katody w wyniku wyładowania.
EN
The paper concerns modelling of magnetic field distribution in an arc-plasma source and in three different configurations of magnetic channels, designed for the elimination of mico-droplets emitted from a cathode during plasma-arc discharges.
18
EN
A small cluster composed of fifty water molecules evenly spread out over the surface of fullerene (C-60) has been studied by the MD simulation. The radial distribution function and velocity autocorrelation functions ( linear and angular) of water molecules have been calculated. Both the solid and liquid phases of a water layer surrounding the fullerene molecule have been investigated. The simulation suggests that a plastic phase ( active rotations and frozen translations of water molecules) of such a specific, ultrathin water layer develops at a low temperature, T < 22 K.
PL
W pracy wykazano, że zastosowanie systemu wielowarstwowego nanoszenia cienkich powłok oraz jednowarstwowych powłok z cienką warstwą pośrednią w procesach PVD powoduje zwiększenie odporności na korozję, poprawę własności mechanicznych oraz odporności na zużycie ścierne elementów pokrytych nimi w porównaniu z dotychczas stosowanymi procesami galwanicznymi. Zbadano powłoki 1, 15 i 150-warstwowe Ti/CrN, Ti/TiAlN, Ti/ZrN naniesione na podłoże z mosiądzu CuZn40Pb2. Badane powłoki wykazują dobrą przyczepność do podłoża. Wzrost liczby warstw w powłoce powoduje 3/4-krotne zwiększenie odporności na korozję. Optymalne własności mechaniczne uzyskano dla powłok jednowarstwowych z cienką pośrednią warstwą czystego tytanu mającą na celu redukcję naprężeń i ograniczenie propagacji pęknięć na granicy powłoka-podłoże, natomiast wzrost liczby warstw do 15 lub 150 powoduje ich spadek, Dobra odporność powłok PVD podczas działania czynników zewnętrznych potwierdza celowość pokrywania nimi przedmiotów użytkowych. Jednocześnie wykazano, że nie można opracowć "uniwersalnej" powłoki, a na jej wybór i zastosowanie podstawowy wpływ będzie mieć analiza warunków eksploatacji powłoki.
EN
It is demonstrated in the work that employment of the multi-layer system for thing coatings deposition and of single-layer coatings with the thin intermediate layer in the PVD processes results in increasing the corrosion resistance, improvement of mechanical properties and wear resistance of elements covered with these coatings, compared to the galvanic processes used up to now. Coatings with 1, 15, and 150 layers of Ti/CrN, Ti/TiAlN, Ti/ZrN, deposited on the CuZn40Pb2 brass were examined. The examined coatings demonstrate good adhesion to the substrate. The increase of the number of layers in a coating results in its corrosion resistance improvement by 3/4 times. The optimum mechanical properties were obtained for the single layer coatings with a thin intermediate layer of pure titanium used for stress reduction and for limiting propagation of cracks on the coating-substrate boundary, whereas increase of the number of layers to 15 or 150 results in deterioration of these properties. Good resistance of the PVD coatings subjected to external factors confirms purposefulness of coating the consumer items with them. It has been simultaneously demonstrated also that is not feasible to develop an "all purpose" coating, and analysis of operating conditions of the coating will have the main influence on its selection and employment.
EN
A method of wavedispersive XRF analysis of Pb(Zr(x)Ti(1-x))O3 type nanocrystalline ferroelec tric powders (PZT) has been presented. Matrix effects have been minimized by using the thin layer method. Preparation of the nature sample has consisted in digesting 25 mg of the materials in hydrochloric acid and 30% hydrogen peroxide (1 +1), diluting up to 25 mL, and placing 0.5 mL of the obtained solution on a substrate. Standard samples of the same chemical composition but varied masses have been prepared to simplify calibration. Determined elements in nature samples occur within the following concentration ranges: Pb from 66.72% to 69.84%, Zr from 8.54% to 14.04%, and Ti from 3.68% to 9.16%. The detection limits for 0.5 mg samples were obtained: Pb = 1.1 x 10(-3) mg (0.22%), Zr= 1.3 x 10(-3) mg (0.26%), Ti = 2.3 x 10(-4) mg (0.05%).
PL
Opracowano metodę mikroanalizy XRF nanokrystalicznych proszków ferroelektrycznych typu Pb(Zr(x)Ti(1-x))O(3) (PZT). W celu wyeliminowania efektów matrycy zastosowano technikę cienkiej warstwy. Przygotowanie próbek naturalnych do analizy sprowadza się do roztworzenia 25 mg badanego materiału w kwasie chlorowodorowym i 30% nadtlenku wodoru (1 + 1), rozcieńczeniu do objętości 25 mL i nakropleniu 0.5 mL uzyskanego roztworu na podłoże. Do kalibracji wykorzystano wielopierwiastkowe wzorce syntetyczne o tym samym składzie jakościowym lecz różnych masach. Oznaczane pierwiastki występowały w zakresach stężeń: Pb od 66.72% do 69.84%, Zr od 8.54% do 14.04% i Ti od 3.68% do 9.16%. Granice wykrywalności dla 0.5 mg próbki wynoszą: Pb = 1.1 x 10(-3) mg (0.22%), Zr = 1.3 x 10(-3) mg (0.26%), Ti = 2.3 x 10(-4) mg (0.05%).
first rewind previous Strona / 2 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.