Ograniczanie wyników
Czasopisma help
Autorzy help
Lata help
Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 114

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 6 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  rozpylanie magnetronowe
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 6 next fast forward last
EN
The main aim of the research was to carry out the surface modification of basalt fabric in order to improve selected thermal properties of the material, i.e., resistance to contact and radiant heat, to apply it in a hot work environment. Attention was focused on checking whether the metal coating deposited does not cause too high conductivity, which is dangerous to human health. The process of magnetron sputtering with the use of chromium and aluminum of various thickness values was applied to basalt fabrics. Based on scanning electron microscope analysis, it was found that none of the aluminum or chromium coatings covered 100% of the basalt fabric surface. Results of the surface resistance analysis of four out of the six samples of basalt fabrics tested indicate that they belong to anti-static materials. The metallic coatings obtained can potentially be used to improve the thermal properties of basalt fabric mentioned.
PL
Surowiec mineralny, który jest włóknem bazaltowym w przemyśle tekstylnym, jest wykorzystywany przede wszystkim do produkcji wyrobów technicznych, odzieży odpornej na czynniki termiczne i mechaniczne oraz jej elementy. Celem badań było określenie wpływu metalizacji powierzchni tkaniny bazaltowej na jej cechy. Na próbkach tkaniny bazaltowej osadzono warstwy chromu i aluminium o różnych grubościach stosując metodę rozpylania magnetronowego. Tkaniny oceniono metodami pomiaru rezystancji powierzchni i analizy skaningowego mikroskopu elektronowego. Zaobserwowano wzrost rezystywności powierzchniowej powleczonej tkaniny bazaltowej w stosunku do tkaniny niepowleczonej. Jednak metalizacja tkanin nie spowodowała utraty właściwości izolacyjnych materiałów. Żadna z warstw aluminium ani chromu nie pokrywała 100% powierzchni tkaniny bazaltowej. Uzyskano dobrą przyczepność powłoki do podłoża.
PL
W pracy przedstawiono wyniki badań procesu nanoszenia cienkich warstw tlenków wolframu metodą reaktywnego, impulsowego rozpylania magnetronowego. Warstwy te zostały zastosowane jako komponent cienkowarstwowego układu elektrochromowego. Proces osadzania warstw tlenku wolframu WOx był kontrolowany parametrami zasilacza magnetronu. W kolejnych cyklach próżniowych zmieniano skład procentowy mieszaniny gazów O₂+Ar oraz moc wydzielaną w targecie. Parametry technologiczne procesów rozpylania optymalizowano pod kątem uzyskania efektywnego zjawiska elektrochromowego, tzn., maksymalnego wpływu napięcia polaryzującego na zmianę własności optycznych (barwy) otrzymanych warstw. Celem badań było ustalenie punktu pracy układu magnetronowego, przy którym możliwe było otrzymywanie przezroczystych warstw tlenku wolframu, a następnie zastosowanie tych warstw jako elementu układu elektrochromowego. Badania prowadzono pod katem ustalania etapów procedury know-how przy ewentualnym wykorzystaniu opisanej technologii w procesach otrzymywania układów elektrochromowych na skalę półprzemysłową.
EN
The paper presents the research results on the deposition process of tungsten oxides thin films using reactive, pulsed magnetron sputtering method. These thin films were used as a component of a thin-film electrochromic structure. The deposition process of tungsten oxide WOx thin films was controlled by the parameters of the magnetron power supply. In subsequent vacuum cycles, the percentage composition of the O₂+Ar gas mixture and the power released in the target were changed. The technological parameters of the sputtering processes were optimized in order to obtain an effective electrochromic effect, i.e. the maximum influence of the polarizing voltage on the change of optical properties (colour) of the obtained coatings. The aim of the research was to determine the operating point of the magnetron system at which it was possible to obtain transparent tungsten oxide thin films, and then use these films as an element of the electrochromic structrure. The research was carried out with a view to determining the stages of the know-how procedure with the possible use of the described technology in the processes of obtaining electrochromic structures on a semi-industrial scale.
EN
Results from the investigations regarding the method of manufacture and assessment of titanium substrate properties where its surface zone is Ti α (O) solid solution formed with fl uidized bed (FB) diffusion process (8 hours soaking time at 640°C) and the top layer is TiO 2 compound produced by magnetron sputtering are presented and discussed. Effects of such hybrid oxidation (HO) on titanium surface properties were investigated with scanning electron microscopy (SEM), scanning-transmission electron microscopy (STEM), confocal laser scanning microscopy (CLSM), Raman spectroscopy (RS) and nanoindentation tests (NI). Results showed that HO treatment made it possible to generate synergistic effect between FB and magnetron sputtered oxide layer interface. In turn, different share of TiO 2 phases (rutile and anatase mixture) obtained at the titanium surface allowed for a signifi cant enhancement of its biocompatibility which was confi rmed by Kokubo test.
PL
Przedstawiono wyniki badań dotyczące sposobu wytwarzania oraz oceny właściwości podłoża tytanowego, w którym strefę powierzchniową stanowi stały roztwór atomów tlenu w tytanie α (Ti α (O)) utworzony w procesie dyfuzyjnym w złożu fluidalnym (FB) (640°C, 8 h), na którą przez rozpylanie magnetronowe nanosi się warstwę ditlenku tytanu TiO 2 . Wpływ hybrydowego utleniania (HO) na właściwości powierzchni tytanu anali- zowano z zastosowaniem metod badawczych SEM, STEM, CLSM, RS oraz NI. Wykazano, że utlenianie hybrydowe umożliwia uzyskanie korzystnego synergicznego efektu w strefi e międzyfazowej Ti α (O)/TiO 2 oraz zmniejszenie naprężeń na granicy faz. Z kolei zmienny udział faz TiO 2 (mieszanina rutylu i anatazu) uzyskanych na powierzchni tytanu pozwolił na znaczącą poprawę biokompatybilności podłoży, co potwierdzono testem Kokubo.
EN
The paper presents the technology for obtaining NiFe/Ti/NiFe layer structures in MEMS technology using magnetron purge with the assumption of being used as semi-magnetic sensors. A series of samples was made on a glass substrate with a sandwich structure, where the individual layers were 100 nm NiFe, 10 nm Ti and on top again NiFe with a thickness of 100 nm. Measurements of DC resistance of the obtained structures in a constant magnetic field, which was produced by neodymium magnets and an electromagnet, were carried out. The obtained results confirm the occurrence of phenomena known as the magnetoresistance effect. The influence of the spatial arrangement of structures relative to the constant magnetic field vector was checked and proved.
PL
W pracy przedstawiono technologię otrzymywania struktur warstwowych NiFe/Ti/NiFe w technologii MEMS metodą rozpylania magnetronowego w założeniu mających służyć jako czujniki pól magnetycznych. Wykonano serię próbek na szklanym podłożu o budowie kanapkowej, gdzie poszczególne warstwy stanowiły 100 nm NiFe,10 nm Ti oraz na wierzchu ponownie NiFe o grubości 100 nm. Przeprowadzono pomiary rezystancji stałoprądowej otrzymanych struktur w stałym polu magnetycznym, które było wytwarzane przez magnesy neodymowe oraz elektromagnes. Otrzymane wyniki potwierdzają występowanie zjawisk określanych jako efekt magnetooporowy. Sprawdzony oraz udowodniony został wpływ ułożenia przestrzennego struktur względem wektora stałego pola magnetycznego.
EN
A composite based on basalt fabric was produced because of its good thermal and mechanical properties. As a result of the reactive magnetron sputtering technique, a layer of aluminium and zirconium (IV) oxide 200 nm thick was deposited on Mylar film, which was adhered to the surface of the basalt fabric using a special adhesive glue and silicone. The variants of composites prepared were subjected to contact resistance tests at a contact temperature of 100 °C and 250 °C, as well as to resistance to thermal radiation tests. The tests carried out on the composites obtained showed an improvement of tested parameters.
PL
W pracy wytworzono kompozyt na bazie tkaniny bazaltowej ze względu na jej dobre właściwości termiczne i mechaniczne. W wyniku zastosowania techniki reaktywnego rozpylania magnetronowego na folii Mylar osadzono warstwę aluminium i tlenku cyrkonu o grubości 200 nanometrów, którą przyklejono na powierzchnię tkaniny bazaltowej poprzez zastosowywanie kleju oraz silikonu. Przygotowane warianty kompozytów poddano badaniom odporności na ciepło kontaktowe dla temperatury kontaktu 100 °C i 250 °C oraz odporności na promieniowanie cieplne. Przeprowadzone na kompozytach badania wykazały poprawę badanych parametrów.
PL
W pracy przedstawiono wyniki badań i analizy właściwości cienkich warstw tlenków wolframu wytworzonych metodą rozpylania magnetronowego. Proces wytwarzania przeprowadzono przy zmiennych warunkach technologicznych, takich jak proporcja mieszaniny gazów O2:Ar oraz odległość target-podłoże. Zwiększenie przepływu argonu w mieszaninie gazów O2:Ar podczas procesu spowodowało zmianę właściwości elektrycznych cienkich warstw z dielektrycznych na półprzewodnikowe. Ponadto, wyniki pomiarów współczynnika transmisji światła wykazały, że wraz ze wzrostem przepływu argonu przezroczystość warstw ulega pogorszeniu. Mniejsze odległości target-podłoże skutkowały zwiększeniem szybkości nanoszenia warstw. Wszystkie naniesione warstwy charakteryzowały się małą chropowatością oraz właściwościami hydrofilowymi powierzchni.
EN
The aim of the presented work is investigation of the properties of tungsten oxide thin films deposited by magnetron sputtering. The process was performed with use of various technological properties such as O2:Ar gas mixture ratios and target-substrate distance. Increase of argon content in O2:Ar gas mixture during process caused change of electrical properties of thin films from dielectric to semiconducting. Moreover, measurements of light transmission coefficient showed that thin layer transparency decreased with increase of argon content. Decrease of target-substrate distance resulted in an increase of deposition rate. All deposited thin films had low roughness and hydrophilic properties.
PL
Wne oraz elektryczne cienkich warstw na bazie dwutlenku tytanu w powiązaniu z ich składem oraz strukturą. Powłoki otrzymano rozpylając targety Ti-Co o różnej zawartości tytanu i kobaltu wynoszącej: 1) 95% at. Ti oraz 5% at. Co, 2) 85% at. Ti oraz 15% at. Co, 3) 50% at. Ti oraz 50% at. Co. Analiza właściwości optycznych powłok tlenkowych, pokazała, że charakteryzowały się one dużą przeźroczystością tj. 59% ÷ 78%. Położenie krawędzi optycznej absorpcji lcutoff rosło z 279 nm do 289 nm wraz ze wzrostem ilości Co w targecie. Optyczna przerwa energetyczna dla cienkich warstw była w zakresie od 3,13 eV do 1,93 eV. Analiza właściwości elektrycznych pokazała, że rezystywność powłok była na poziomie 108Ω•cm.
EN
The aim concern the influence of cobalt on selected optical and electrical properties of thin films based on titanium dioxide in relation to their composition and structure. The coatings were obtained by sputtering Ti-Co targets with different titanium and cobalt content, equal to: 1) 95% at. Ti and 5% at. Co, 2) 85% at. Ti and 15% at. Co, 3) 50% at. Ti and 50% at. Co. The analysis of optical properties of oxide coatings showed that they were characterized by high transparency, i.e. 59% ÷ 78%. The position of the optical absorption edge increased from 279 nm to 289 nm as the amount of Co in the target increased. The optical gap for thin films ranged from 3.13 eV to 1.93 eV. The analysis of the electrical properties showed that the resistivity of the coatings was at the level of 108Ω•cm.
PL
W pracy przedstawiono wyniki badań i analizy wpływu składu materiałowego spiekanych targetów wytworzonych metodą SPS (ang. Spark Plasma Sintering), z których zostały naniesione powłoki, na ich właściwości antystatyczne. Cienkie warstwy zostały wytworzone za pomocą metody rozpylania magnetronowego. Pomiary oraz analizę przeprowadzono dla sześciu różnych próbek. Trzy z nich wytworzono ze spiekanych targetów Ti:Co o składzie materiałowym 95:5, 85:15 i 50:50. Z kolei pozostałe trzy uzyskane były z targetów na bazie Ti:W o takim samym składzie materiałowym jak warstwy z kobaltem. Analiza wyników badań wykazała, że spośród wielu zmierzonych próbek, tylko dwie były antystatyczne, gdyż dla kryterium 10% miały czasy rozpraszania ładunku statycznego na powierzchni krótsze niż 2 s. Były to cienkie warstwy wytworzone ze spiekanych targetów na bazie tlenków Ti-W o składzie materiałowym (Ti0,5W0,5)Ox oraz (Ti0,85W0,15)Ox.
EN
This paper provides research investigation results and analysis of influence of the material composition of sintered targets produced by the Spark Plasma Sintering (SPS) method , from which the thin layers were applied, on their antistatic properties. The thin layers were deposited by the magnetron sputtering method. Measurements and analysis were performed on six different coatings. Three of them were made of sintered Ti:Co targets with a material composition of 95: 5, 85:15 and 50:50. In turn, the remaining three were obtained from Ti:W based targets with the same material composition as the layers with the cobalt. The analysis of the research results showed that among many measured samples, only two were antistatic, because for the 10% criterion, the static charge dissipation times on the layer surface were shorter than 2 s. These were thin layers made of sintered targets based on Ti-W oxides with the material composition (Ti0,5W0,5) Ox and (Ti0,85W0,15) Ox.
PL
Celem niniejszej pracy było wytworzenie nanokrystalicznych oraz amorficznych cienkich warstw na bazie mieszaniny tlenków Ti i Hf metodą rozpylania magnetronowego. W ramach pracy przeprowadzono również szczegółową analizę wpływu struktury wybranych warstw na ich właściwości elektryczne takie jak gęstość prądu upływu oraz względna przenikalność elektryczna, a także właściwości optyczne w tym współczynnik ekstynkcji światła.
EN
The aim of this work was to prepare nanocrystalline and amorphous thin films based on a mixture of Hf and Ti oxides by magnetron sputtering. As a part of work, the detailed analysis of the impact of the thin films structure on their electrical properties such as leakage current density and dielectric constant and optical properties like extinction coefficient was carried out.
EN
Various ion sputtering parameters were applied prior to the deposition of S phase coatings in order to determine their effect on the efficiency of cleaning an austenitic steel surface. For this purpose, two types of atmospheres were used (100% Ar and 5% Ar + 95% H2) at two different pressures (1.33 Pa and 2.67 Pa). In addition, substrates with two different initial states — without polishing and with polishing — were investigated. The thickness of the diffusion layer, obtained in the austenitic substrate after depositing an S-phase coating by magnetron sputtering, was used as a measure of the surface cleaning effectiveness (passive oxide layer removal). The research showed that all the considered parameters had a significant effect on the effectiveness of the cleaning treatment. It was found that the initial state of the substrate has an influence on the thickness of the diffusion layers, with thicker layers obtained on nonpolished substrates. The total gas pressure affects the substrate cleaning effectiveness in different ways depending on the gas composition used. It is possible that a physical sputtering mechanism occurs in the case of argon and a chemical reduction mechanism in the case of hydrogen. In addition, it was found that the degree of surface cleaning determines the texture of the S phase coatings.
PL
Faza S, uznawana za przesycony roztwór azotu w austenicie, może być otrzymywana nie tylko wskutek konwencjonalnego azotowania, lecz także metodą reaktywnego rozpylania magnetronowego stali austenitycznej w atmosferze azotu. Wytworzenie takiej powłoki na stali austenitycznej poprawia jej twardość i odporność na zużycie tribologiczne. Przed procesem napylania stosuje się zwykle oczyszczanie jonowe, które w przypadku stali austenitycznej może prowadzić do usunięcia warstwy pasywnej tlenków. W ten sposób jest możliwe powstanie warstwy dyfuzyjnej w podłożu w efekcie dyfuzji azotu z powłoki do podłoża. Stanowi ona gradientową międzywarstwę potencjalnie korzystną z punktu widzenia poprawy adhezji. Celem pracy było zbadanie wpływu parametrów oczyszczania jonowego stosowanego przed reaktywnym osadzaniem powłok z fazy S na wytworzenie warstwy dyfuzyjnej w podłożu ze stali austenitycznej.
EN
The paper discusses the results of research concerning the formation of electroconductive transmission lines on textile substrates using the magnetron sputtering technique. The transmission lines developed can potentially be applied in clothing for emergency and security services to affect electrical connections between electronic elements incorporated in the garments. The time of metallic layer deposition and the type of substrate used was optimised in the study. The surface resistivity, resistance to bending and abrasion of the transmission lines obtained were tested. The tests demonstrated that it is possible to obtain electroconductive copper layers with a surface resistivity approximating 0.2 Ω by direct deposition on spun-bonded type polypropylene nonwoven.
PL
W pracy metodą rozpylania magnetronowego wytworzono ścieżki elektroprzewodzące na podłożach tekstylnych do zastosowania w odzieży dla służb bezpieczeństwa. Optymalizowano czas depozycji warstwy oraz rodzaj użytego substratu tekstylnego. Zbadano rezystywność powierzchniową, odporność na zginanie i ścieranie wytworzonych ścieżek.
PL
W pracy przedstawiono wyniki badania wpływu struktury na właściwości elektryczne oraz optyczne cienkich warstw na bazie tlenków tytanu i miedzi. Cienkie warstwy tlenku miedzi oraz dwuwarstwy TiO₂/CuxO o różnej grubości TiO₂ na powierzchni CuxO były naniesione metodą rozpylania magnetronowego. Wytworzone dwuwarstwy TiO₂/CuxO o różnej grubości TiO₂ były nanokrystaliczne o jednoskośnej strukturze tlenku miedzi II (CuO). Średni rozmiar krystalitów był w zakresie od 10 nm do 14 nm. Stwierdzono, że rezystywność dla cienkiej warstwy CuO była równa 0,7•103 Ω•cm, natomiast dla struktur TiO₂/CuO była w zakresie 0,8•103 ÷ 1,5•103 Ω•cm. W przypadku powłok dwuwarstwowych TiO₂/CuO średnia wartość współczynnika transmisji światła wynosiła ponad 80%.
EN
This paper provides research investigation results and analysis of influence of the structure on electrical and optical properties of thin films based on the titanium and copper oxides. CuxO and TiO₂/CuxO thin films with different thickness of top TiO₂ layer coatings were deposited by the reactive magnetron sputtering method. TiO₂/CuxO bilayers with different thickness of top TiO₂ layer were nanocrystalline and had monoclinc structure of CuO. The crystallite sizes were in the range of 10 nm to 14 nm. It was found that the resistivity for the CuO film was equal to 0.7•103 Ω•cm, and for TiO₂/CuO structures was in the range of 0.8•103 ÷ 1.5•103 Ω•cm. As-prepared bilayers were well transparent, average transparency was above 80%.
PL
Celem artykułu jest porównanie wpływu metody wytwarzania oraz temperatury procesu na własności cienkich warstw tlenku cynku. Zbadano strukturę, morfologię i topografię wytworzonych warstw oraz ich własności optyczne i elektryczne. Badane warstwy ZnO zostały wytworzone w procesie rozpylania magnetronowego oraz osadzania warstw atomowych. Przeprowadzone badania wykazały wpływ metody wytwarzania oraz temperatury procesu na analizowane własności.
EN
The aim of this article is to compare the influence of prepation methods and process temperature on the production effects and properties of zinc oxide thin films. Coducted experiments included investigations of structure, morphology and topography of deposited thin films as well as their optical and electrical properties. Tested ZnO thin films were prepared by magnetron sputtering and atomic layer deposition metods. Results of studies have shown that impact of the manufacturing method and process temperature on the analyzed properties is significant.
PL
W pracy przedstawiona została analiza właściwości antystatycznych cienkowarstwowych powłok na bazie tlenków Hf oraz Ti w powiązaniu z ich właściwościami strukturalnymi. Cienkie warstwy badane w ramach pracy wytworzone zostały za pomocą metody rozpylania magnetronowego na podłożach SiO₂ oraz SiO₂ pokrytych warstwą tlenku indowo-cynowego o grubości 150 nm. Właściwości antystatyczne zostały określone na podstawie pomiaru czasu rozpraszania ładunku statycznego, natomiast właściwości strukturalne na podstawie badania metodą dyfrakcji rentgenowskiej XRD. Badania metodą XRD wykazały, warstwy HfO₂, (Hf0,85Ti0,15)Ox oraz TiO₂ były nanokrystaliczne, a ich średni rozmiar krystalitów wynosił poniżej 10 nm. Z kolei powłoka (Hf0,15Ti0,85)Ox była amorficzna. Dla wszystkich warstw naniesionych na SiO₂ czasy rozpraszania ładunku przekraczały 2 sekundy wynikające z przyjętego kryterium antystatyczności. Najdłuższym czasem rozpraszania charakteryzowała się warstwa amorficzna. Naniesienie warstw na podłoże SiO₂ pokryte 150 nm warstwą ITO spowodowało, że wszystkie warstwy niezależnie od ich mikrostruktury były antystatyczne, a czasy rozpraszania ładunku elektrycznego były rzędu setek milisekund.
EN
This work presents the analysis of antistatic properties of thinfilm coatings based on Hf and Ti oxides in relation to their structural properties. Investigated thin films were sputtered by the magnetron sputtering method on SiO₂ substrates and deposited SiO₂ covered with a 150 nm thick indium-tin oxide film. Antistatic properties were determined based on the measurements of static charge dissipation time, while structural properties based on X-ray diffraction. The XRD results showed, that HfO₂, Hf0.85Ti0.15x and TiO₂ thin films were nanocrystalline with an average crystallite size below 10 nm. Hf0.15Ti0.85Ox film was amorphous. For films deposited on SiO₂ the dissipation times exceeded 2 seconds, which indicated that none of them were antistatic taking into consideration with accepted cryterion. The longest dissipation time was obtained for amorphous coating. Deposition of thin films on SiO₂ substrates coated with a 150 nm thick ITO layer results in a significate decrease of static charge dissipation time to hundreds of milliseconds, independently of their structural properties.
EN
Basalt fibers and fabrics made of these are characterized by excellent thermal and mechanical properties. Therefore, basalt fabrics, due to a good resistance to high temper atures, are frequently applied in the personal protection equipment (PPE). In order to improve their thermal properties and, above all, the contact heat resistance, the process of physical vapor deposition was proposed. The process of Physical Vapor Deposition (PVD) involves producing a coating on a specific substrate as a result of physical deposition of molecules, ions or atoms of the selected chemical compounds. The method selected for the test is the magnetron sputtering. It involves depositing a uniform film of chromium on the surface of the basalt fabric. In order to improve the thermal properties – especially the contact heat resistance, two values of thickness of the chromium layer deposited on the basalt fabric surface were adopted for the test. Covering 1 μm and 5 μm with the chromium layer did not fulfil the expectations and the research will be continued.
16
Content available remote Elastyczne materiały stosowane w technice ekranowania pola elektromagnetycznego
PL
W prezentowanym artykule przedstawiono wyniki badań efektywności ekranowania pola elektromagnetycznego (SE) dla metalizowanych, elastycznych kompozytów wykorzystujących włókninę polipropylenową (PP). Metaliczne warstwy (Cu-Zn, Ti, NiO) nakładano metodą impulsowego rozpylania magnetronowego. Najwyższe wartości SE (≥ 55 dB) uzyskano dla kompozytów PP/Cu-Zn. Dla naprzemiennie nakładanych metalicznych warstw Cu-Zn i Ti nie stwierdzono wpływu starzenia środowiskowego na wartość SE.
EN
The article presents the results of research on the effectiveness of electromagnetic field (SE) screening for metalized, flexible composites using polypropylene nonwoven (PP). Metallic layers (Cu-Zn, Ti, Ni) were applied by pulsed magnetron sputtering. The highest SE values (≥ 55 dB) were obtained for PP / Cu-Zn composites. For the alternately applied Cu-Zn and Ti metallic layers, no effect of environmental aging on the SE value was found.
EN
The aim of the work was to investigate the possibilities of shaping the properties of TiB2 coatings by doping with tungsten, which create hard boron phases (e.g., WB2 , WB4 , and W2 B5). The coatings were produced by a DC magnetron sputtering processes using two circular magnetrons (M1, M2) equipped respectively with M1 - target TiB2 , and M2 - target W. Ti-W-B coatings with different tungsten contents (3%, 6%, 10%) were prepared for which the reference coating was the TiB2 coating. The work studied chemical composition (WDS), mechanical properties (Nano Hardness Tester), and the microstructure of coatings (SEM). It has been shown that doping TiB2 coating with tungsten significantly changes their microstructure and brittle fracture mechanism. According to the authors, the Ti-W-B coatings which were obtained show promising results regarding the prognosis of increasing their resistance to abrasion, erosion, and brittle cracking, if they are paired with the appropriate substrate material.
PL
Celem pracy było zbadanie możliwości kształtowania właściwości powłok TiB2 poprzez domieszkowanie wolframem, który tworzy twarde fazy z borem (np. WB2 , WB4, W2 B5). Powłoki wytwarzano w procesie stałoprądowego rozpylania magnetronowego z wykorzystaniem dwóch magnetronów kołowych wyposażonych odpowiednio: M1 - target TiB, M2 - target W. Wytworzono powłoki Ti-W-B o różnej zawartości wolframu (3%, 6%, 10%), dla których powłoką referencyjną była powłoka TiB2 . W pracy badano skład chemiczny (WDS), właściwości mechaniczne (Nano Hardness Tester) oraz budowę wewnętrzną powłok (SEM). Wykazano, że domieszkowanie powłok TiB2 wolframem istotnie zmienia ich mikrostrukturę oraz mechanizm kruchego pękania. W ocenie autorów wytworzone powłoki Ti-W-B wykazują obiecujące wyniki dotyczące prognozowania wzrostu ich odporności na zużycie ścierne, erozyjne oraz kruche pękanie, jeśli będą sparowane z odpowiednim materiałem podłoża.
PL
W pracy przedstawiono wyniki badania wpływu wygrzewania wysokotemperaturowego cienkich warstw TiO₂ na ich właściwości strukturalne, optyczne oraz trybologiczne. Cienkie warstwy TiO₂ zostały wytworzone w ciągłym oraz sekwencyjnym procesie rozpylania magnetronowego. Wygrzewanie wysokotemperaturowe miało znaczący wpływ na zmianę struktury cienkich warstw z fazy anatazu na mieszaninę anatazu i rutylu. Ponadto wygrzewanie poprocesowe spowodowało znaczny spadek współczynników transmisji światła w obu przypadkach z 80% do 50%. Zaobserwowano także przesunięcie długości fali odcięcia w kierunku podczerwieni o około 20÷25 nm. Badania przedstawione w pracy pokazały, że twardość również się zmniejsza z 10 GPa dla warstw po naniesieniu do zaledwie 3 GPa (proces ciągły) oraz 6,2 GPa (proces sekwencyjny).
EN
This paper provides research investigation results and analysis of influence of the high-temperature annealing on the structural, optical and tribological properties of TiO₂ thin film coatings. Thin-film coatings were deposited in continuous and sequential processes using multi-magnetron sputtering stand. High-temperature annealing had a significant effect on the change of the structure of thin film coatings from the anatase to the mixture of anatase and rutile phase. In addition, post-process annealing caused a significant decrease of the transparency level in both cases from 80% to 50%. It was also observed that λcut-off was shifted towards the infrared wavelength range of ca. 20÷25 nm. Research on tribological properties shown that hardness decreases from 10 GPa for as-deposited thin films to 3 GPa (deposited in continuous process) and 6.2 GPa (deposited in sequential process) for annealed coatings.
PL
Niniejsza praca przedstawia wyniki badań powierzchni oraz struktury cienkich warstw (Ti-Cu)Ox wytworzonych metodą rozpylania magnetronowego. Cienkie warstwy zostały wytworzone w takie sposób, aby uzyskać gradientową zmianę koncentracji miedzi w funkcji grubości osadzonej warstwy. Analiza powierzchni wykazała, że wytworzone warstwy były jednorodne oraz wykazywały chropowatość na poziomie kilku nanometrów. Przeprowadzone analizy potwierdziły zadany liniowy gradient rozkładu miedzi w całej objętości cienkiej warstwy. Badania wykonane za pomocą transmisyjnego mikroskopu elektronowego wykazały, że warstwa zbudowana była z cienkiego, około 30 nm obszaru amorficznego przy podłożu oraz ze znacznie szerszego, około 280 nm obszaru, w którym obserwowano wzrost kolumnowy.
EN
The present paper shows the results of surface investigations of the (Ti-Cu)Ox thin film layer fabricated by the magnetron sputtering. Thin films were prepared in order to achieve gradient change of the cooper concentration in the function of the thickness of the deposited layers. Analysis of the surface showed, that deposited films were homogenous and the roughness value were at the range of few nanometers. Conducted analysis of the films proved the linear gradient distribution of the cooper in the volume of the thin films. The measurements conducted with the help of transmission electron microscope showed, that the layer was composed from thin, ca. 30 nm thick amorphous area near the substrate and much larger, ca. 280 nm, where the fibrous grow was observed.
PL
W pracy przedstawiono wyniki badań właściwości antystatycznych cienkich warstw mieszanin tlenków tytanu (TiO₂) oraz hafnu (HfO₂). Warstwy naniesione zostały w procesie rozpylania magnetronowego na podłoża z krzemionki amorficznej (SiO₂). Otrzymano warstwy HfO₂ oraz HfO₂ z dodatkiem Ti w ilości 4% at., 13% at. oraz 28% at. Pomiary metodą XRD wykazały, że warstwy miały nanokrystaliczną strukturę, a średni rozmiar krystalitów wyniósł ok. 6 nm. Najmniejszą rezystywnością cechowała się warstwa HfO₂, największą zaś warstwa o zawartości 28% at. Ti. Wzrost zawartości atomowej tytanu w warstwie powodował zwiększenie rezystywności warstwy. Zmierzono czasy rozpraszania ładunku statycznego z powierzchni warstw przy polaryzacji ładunkiem dodatnim o napięciu 7 kV. Najkrótszy czas rozpraszania ładunku do 10% wartości początkowej uzyskano dla warstwy HfO₂, a najdłuższy dla warstwy zawierającej 28% at. Ti. Korelacja wyników pozwoliła na zaobserwowanie, że wraz ze wzrostem rezystywności warstw wydłużał się czas rozpraszania ładunku.
EN
In this paper antistatic properties of mixed titanium and hafnium oxides were investigated. Thin films of mixtures were deposited on SiO₂ substrates using magnetron sputtering processes. XRD results showed that investigated thin films had nanocrystalline structure. Crystallites size was equal to ca. 6 nm for all samples. The lowest resistivity was obtained for hafnia thin film and the highest for HfO₂ with 28 at. % of Ti. Results showed that resistivity increased with the amount of Ti in mixed oxides. Static charge dissipation time measurements were analyzed. Dissipation time increased with an increase of Ti amount. Results demonstrated in this paper showed a good corellation beetwen charge decay time and resistivity of investigated thin films. Decay times increased alongside of resistivity value.
first rewind previous Strona / 6 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.