Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 12

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
EN
The improved approach for analysis of the thin film optical spectra exhibiting the interference fringes is presented. It is shown that, based on the positions of adjacent extrema, the interference order numbers can be easily identified allowing for determination of a model-free normal dispersion of the refraction coefficient provided the film thickness is known from an independent measurement. The usefulness of the presented method is illustrated by the analysis of the reflection spectra obtained for thin films of 3, 4, 9, 10-perylene tetracarboxylic dianhydride (PTCDA) with various thicknesses determined with the atomic force microscopy (AFM).
2
Content available remote Parametry optyczne cienkich warstw krzemionkowych na podłożach krzemowych
PL
W pracy przedstawiono wyniki badań właściwości optycznych cienkich warstw krzemionkowych. Badane warstwy zostały wytworzone w technologii zol-żel i naniesione na krzemowe podłoża metodą zanurzeniową. Badania przeprowadzono metodami elipsometrycznymi i spektrofotometrycznymi, a analiza otrzymanych wyników pozwoliła na wyznaczenie parametrów optycznych badanych warstw takich jak zależności dyspersyjne współczynników załamania oraz ekstynkcji. Dodatkowo, wyznaczono grubości warstw oraz ich porowatość. Ze względu na niską wartość współczynnika załamania (1,22-1,25) warstwy krzemionkowe są stosowane jako powłoki antyrefleksyjne oraz elementy światłowodów planarnych.
EN
Studies of optical properties of thin silica fi lms are shown in the paper. The films were manufactured by the sol-gel method combined with spreading on a silicon substrate by immersing. The studies were performed by ellipsometric and spectrophotometric methods to determine optical characteristics of the films such as dispersion dependences of refractive indices or extinction coeffi cients. Moreover, the thickness and porosity of the films were determined. The silica layers are used as antireflective coatings and components of planar optical fibres due to low values of refractive index (1,22-1,25).
3
Content available remote A study of polymeric films modified with SiC nanoparticles
EN
There were studied optical properties of polymeric films of poly(N-vinylcarbazole) (PVK), polycarbonate (PC), polystyrene (PS) and films of these polymers modified with SiC nanoparticles of size between 20 and 30 nm. Thin polymeric films were deposited on glass plates with spin coating method, using polymer solution in tetrahydrofuran (THF). In order to determine optical parameters of these new materials, the reflection spectrum was examined in the range between 350 and 860 nm, using a reflection probe and an integrating sphere. In order to determine the thickness of examined films, ellipsometric measurements were performed. The examination demonstrated that a small content of SiC nanoparticles in polymers changes the refractive index of the sample without causing its optical heterogeneity. But an increasing content of nanoparticles causes their aggregation, which strengthens light diffusion.
PL
Badano właściwości optyczne cienkich warstw polimerowych poli(N-winylokarbazolu) (PVK), poliwęglanu (PC) oraz polistyrenu (PS) oraz warstw tych polimerów modyfikowanych nanocząstkami SiC o wymiarach rzędu 20-30 nm. Cienkie warstwy polimerów nanoszono na płytki szklane metodą powlekania wirowego stosując roztwór polimeru w tetrahydrofuranie (THF). Do wyznaczenia parametrów optycznych tych nowych materiałów przeprowadzono badania widm odbicia w zakresie 350-860 nm z użyciem sondy odbiciowej i sfery integrującej. W celu wyznaczenia grubości badanych warstw, wykonano pomiary elipsometryczne. Badania wykazały, że niewielka zawartość nanocząstek SiC w polimerach zmienia współczynnik załamania światła próbki, nie powodując przy tym optycznej niejednorodności (tabela 1, rys. 1 i 2). Jednak zwiększanie zawartości nanocząstek powoduje ich agregację, co skutkuje wzmocnieniem rozpraszania światła (rys. 3 i 4).
4
Content available remote Studies of polymer surface topography by means of optical profilometry
EN
The optical reflection measurements of polyvinylocarbazole (PVK) and polyazomethine (PPI) thin films have been done by means of optical profilometry (OP) exhibiting many advantages in surface and subsurface investigations. The obtained OP images clearly demonstrate that the thickness of the polymer films under investigation is not uniform over their lateral dimensions. For the PVK thin film, the fast Fourier transform (FFT) in the inverse space of the OP image is also presented along with distribution of the surface highs.
5
Content available remote Diffuse scattering in polyazomethine thin films
EN
The results of optical studies of the diffuse reflectance and transmittance of polyazomethine (PPI) thin films prepared by the chemical vapor deposition (CVD) technique are reported. The obtained experimental data prove the presence of centers causing the Rayleigh-type scattering of light. These centers, with a spherical structure (spherolites), are formed in the process of crystallization during the growth of PPI films and they are responsible for the volume scattering of light.
PL
Przedstawiono wyniki badań odbicia i transmisji optycznej cienkich warstw poliazometyny (PPI) utworzonych metodą CVD (osadzania chemicznego z fazy gazowej, Chemical Vapor Deposition) z p-fenylenodiaminy i aldehydu tereftalowego. Wyniki te (rys. 1-4) dowodzą istnienia centrów odpowiedzialnych za rozpraszanie światła typu Rayleigh'a. Centra rozpraszania mają strukturę sferyczną (sferolity) i tworzą się w procesie krystalizacji w toku narastania warstw PPI; są one odpowiedzialne za rozpraszanie objętościowe światła. Określona metodą profilometrii optycznej grubość badanych warstw (rys. 5) mieściła się w przedziale 0,15-1,2žm. Scharakteryzowano za pomocą mikroskopu sił atomowych (AFM) chropowatość PPI nie wywierała istotnego wpływu na badaną transmitancje i odbicie.
EN
Transmission and fundamental reflectivity studies, completed on amorphous Zn-P thin films, allowed us to obtain parameters describing the fundamental absorption edge, i.e., the optical pseudogap EG, Urbach energy EU and exponential edge parameter ET. All these data, together with the results of earlier transport measurements, have been utilized in developing simple models of electronic structure (distribution of electronic states) for amorphous Zn-P thin films of two compositions, i.e., Zn57P43 (near stoichiometry of Zn3P2) and Zn32P68 (near stoichiometry of ZnP2).
EN
The paper deals with investigation of the white Lambertian standards by means of optical methods, i.e., the bidirectional reflection distribution function (BRDF) method and the reflectance study with an integrating sphere. All measurements have been made using the L*a*b* color system. The effect of the choice of a standard on values of trichromatic parameters and the effect of aging of standards is discussed.
PL
Wykonano badania odbicia dla próbek stali ST3SY poddanych procesom wytrawiania i utleniania za pomocą sfery integrującej. Pomiary takie pozwoliły rozdzielić składową natężenia światła odbitego zwierciadlanie od składowej natężenia światła rozproszonego dyfuzyjnie od badanych powierzchni, a tym samym określić jakość powierzchni, która zmienia się w istotny sposób po obróbce mechanicznej (polerowaniu) i chemicznej (trawienie, korozja). Badania za pomocą mikroskopu sił atomowych potwierdziły przydatność sfery integrującej do wyznaczania chropowatości powierzchni stalowych. Stwierdzono niewielkie zmiany całkowitego odbicia fal elektromagnetycznych od powierzchni stali ST3SY poddanych obróbce mechanicznej. W istotny sposób zmienia się udział składowych zwierciadlanej i dyfuzyjnej w odbiciu optycznym. Metodę kuli integrującej zastosowano do pomiarów zmiany chropowatości w funkcji czasu wytrawiania. Stwierdzono, że wytrawianie w roztworze kwasu solnego powoduje początkowo zmniejszenie chropowatości stali polerowanych i niepolerowanych, a po dłuższych czasach wytrawiania chropowatość wzrasta, przy czym obserwowane zmiany są rzędu 15 %. W badaniach optycznych utleniania in situ na wolnym powietrzu powierzchni stali polerowanych i niepolerowanych stwierdzono zmniejszanie się chropowatości z upływem czasu, przy czym zmiany te następowały najszybciej w czasie pierwszych 200 s, a następnie chropowatości asymptotycznie wracały do wartości początkowych. Mniejsze wartości pola powierzchni polerowanych w stosunku do niepolerowanych zmniejszają podatność tych pierwszych na procesy trawienia i utleniania.
EN
The reflectivity studies of ST3SY steel samples subjected to etching and oxidation processes have been performed with an integrating sphere (Fig. 2). Such measurements have allowed to separate the specular - and diffuse component intensities of light reflected from the studied surfaces (Fig. 1), in order to determine the surface quality which changes substantially after mechanical- (polishing) and chemical treatments (etching, corrosion). The performed atomic force microscopy (AFM) investigations (Fig. 5) support applicability of the integrating sphere for determination of steel surface roughness (Fig. 4). It has been found that the total light reflectivity from the ST3SY steel surfaces changes very little after mechanical treatment but contribution of specular- and diffusive components of the optical reflectivity changes substantially (Fig. 3). The integrating sphere method has been applied to follow the roughness changes as a function of time of etching. It has been found that etching in an HCl solution causes initially decreasing of roughness of both polished and non-polished surfaces but, after longer etching time, roughness increases and the observed changes are of the order of 15 % (Fig. 6). During the optical studies of oxidation in situ in the free air, it has been found that roughness of both polished- and non-polished surfaces decreases with time; such changes occur rapidly during first 200 s and then roughnesses asymptotically go back to their initial values (Table 1). The fact that area of polished surface is lower than that of non-polished one causes decreasing of susceptibility of the former on the etching and oxidation processes.
PL
Wykonano pomiary odbicia zwierciadlanego i dyfuzyjnego od cienkich warstw poliazometyny naniesionych na podłoża szklane i krzemowe. Warstwy były nanoszone metodą polikondensacji składników wyjściowych. Pomiary odbicia widmowego w zakresie długości fal 350 nm - 860 nm. przeprowadzono za pomocą światłowodowej sondy odbiciowej i sfery całkującej połączonych ze spektrofotometrem PC 2000. Stwierdzono występowanie dużych niejednorodności po grubości w warstwach poliazometynowych otrzymywanych przez naparowanie na podłoża oraz obok silnej absorpcji w zakresie widmowym 350 nm - 500 nm rozpraszanie Rayleigh'a dla fal dłuższych od 600 nm.
EN
Specular and diffusion reflection measurements for thin of polyazomethines on glass and Si substrate have been performed. Measurements of reflection spectra for wavelength in range 350 nm - 860 nm have been made by optical fibre reflection probe and integration sphere. The results obtained in our study have shown differences of thickness for thin films polyazomethines and strong absorption for wave range from 350 nm to 500 nm. Strong Rayleigh diffusion for wavelength longer than 600 nm has been noticed.
10
Content available remote Roughness of amorphous Zn-P thin films
EN
The effect of thickness variation and the surface roughness of amorphous Zn/sub 32/P/sub 68/ thin films has been investigated by the interference spectroscopy of the optical transmittance and reflectance, as well as by the atomic force microscopy (AFM). The analysis of the optical data allowed determination of the standard deviation of the thin film thickness by taking into account the Gaussian distribution of the change in phase of radiation traversing a thin film. It appears that the value of the standard deviation of the film thickness determined from the optical interference spectroscopy ( sigma /sub w/ approximately=26 nm) is comparable with the value of the mean surface roughness (R/sub a/ approximately=19 nm) evaluated from the AFM studies.
EN
Methods of analysis of measurements of the temperature dependence of the magnetic susceptibility and the low-temperature magnetization are presented for materials containing small amounts of randomly distributed magnetic ions. The usefulness of the presented methods is illustrated by the analysis of experimental results obtained by us and by other authors for a number of paramagnetic materials, including natural crystals and dilute magnetic semiconductors containing small amounts of transition metal ions.
PL
W pracy przedstawiono metody analizy pomiarów namagnesowania i podatności magnetycznej pozwalające na charakteryzowanie materiałów paramagnetycznych, tj. momentu jonów magnetycznych i ich koncentracji oraz podatności matrycy diamagnetycznej. Użyteczność opisanych metod jest zilustrowana przykładami analizy wyników doświadczalnych uzyskanych dla dwóch paramagnetyków zawierających jony metali przejściowych.
EN
Studies of the optical properties of amorphous thin films of In-Se (a-In-Se) thermally evaporated from the bulk polycrystalline In2Se3 are presented. The absorption coefficient and rrefractive index are obtained from the transmission and reflectivity spectra, covering the energy range 0.4÷6.2 eV. The fundamental absorption edge, found from the tauc relation, increases from 1.64 eV to 1.73 eV, when decreasing the deposition rate from 0.7 nm/s to 16.7 nm/s. The values of refractive index are of 2.60÷2.67 and the broad peak in the reflectivity spectra at about 5 eV is thought to be attributed to the four-coordinated In atoms which are dominated in a-In-Se films under study. The surface morphology has been examineted by the atomic force microscopy (AFM) showing that the surface of the films studied is rather smooth with, however, some growth defects of density depending on the deposition conditions.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.