Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  kalibracja detektorów
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
PL
W artykule przedstawiono koncepcję stanowiska do badań rozkładu przestrzennego czułości widmowej detektorów na potrzeby metrologii promieniowania z zakresu skrajnego nadfioletu EUV (ang. Extreme Ultraviolet) oraz miękkiego promieniowania X (ang. Soft X-ray). Zakres ten obejmuje promieniowanie o długości fali od 0,1 nm do 50 nm [1]. Badania będą miały na celu nie tylko wyznaczenie czułości detektorów, ale również ich powierzchniowej niejednorodności. Głównym elementem tego stanowiska jest źródło laserowo-plazmowe z tarczą gazową. Na podstawie przeprowadzonych wyników badań określono wymagania dotyczące doboru układu optycznego, jak również metody pomiarowej. Omówiono także układ pomiarowy przeznaczony do wyznaczania niejednorodności powierzchniowej czułości detektorów. Przedyskutowano wyniki wstępnych badań fotodiody krzemowej stosowanej w przyrządach pomiarowych promieniowania EUV oraz Soft X-ray.
EN
The paper presents a project of laboratory setup for detectors investigation applied in metrology of extreme ultraviolet and soft X-ray radiation. The main task of the work is determination both the detector responsivity and the non-uniformity of spatial responsivity. At the setup, a laser-plasma source with gas-puff target is used. Basing on the measured parameters of the source, the requirements for optical elements and a measurement method have been specified. A special investigation procedure of the spatial non-uniformity of detector responsivity is described. The preliminary results of silicon photodiode investigations are also presented and discussed.
EN
The paper presents a laboratory setup with a procedure used for measurements of detector responsivity. The responsivity is specified in the range of extreme ultraviolet radiation (wavelength of 13.5 nm). This spectrum range is an important factor determining the next step of nanolithography. The main issue of this technology is an absolute measurement of radiation energy. The constructed laser-plasma source with a metrology chamber gave opportunity to design a special calibration procedure of EUV detectors used in energy meters. The described laboratory setup is characterized by a good reliability, low costs of operation, and a short time of measurement procedures.
PL
Przedstawiono stanowisko laboratoryjne do pomiarów czułości widmowej detektorów promieniowania zakresu skrajnego nadfioletu (λ= 13,5 nm). Promieniowanie to jest szczególnie istotne, gdyż stanowi perspektywę dalszego rozwoju nanolitografii. Obecnie zasadniczym zagadnieniem tej technologii są bezwzględne pomiary energii promieniowania. Skonstruowanie w Instytucie Optoelektroniki WAT źródła laserowo-plazmowego z tarczą gazową dało możliwość przygotowania specjalnej procedury testującej. Opracowane na podstawie badań wstępnych stanowisko laboratoryjne charakteryzuje się dużą niezawodnością małymi kosztami eksploatacji oraz krótkim czasem trwania procedury pomiarowej detektorów promieniowania z zakresu skrajnego nadfioletu.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.