PL
 |
EN
Preferencje help
Polish version English version Język
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 14

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  odbłyśnik
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
1
Content available Wielokryterialna optymalizacja kształtu odbłyśnika
Wandachowicz K.
Poznan University of Technology Academic Journals. Electrical Engineering
|
2013
|
No. 73
183--192
PL
W artykule przedstawiono wyniki badań dotyczących obliczania kształtu zwierciadlanego odbłyśnika, który zapewnia uzyskania jak największej wartości średniego natężenia oświetlenia oraz równomierności oświetlenia. Obliczenia optymalizacyjne przeprowadzono z zastosowaniem wielokryterialnego algorytmu genetycznego.
EN
There are presented research results that concern of calculation of mirror reflector profile that is using for obtaining the highest value of average illumination and uniformity ratio on the illuminated surface. The Multiobjective optimization with evolutiony algorithm was used.
2
Content available Zastosowanie ograniczeń liniowych w optymalizacji kształtu odbłyśnika
Wandachowicz K.
Poznan University of Technology Academic Journals. Electrical Engineering
|
2012
|
No. 69
257--265
PL
W artykule przedstawiono wyniki badań dotyczących obliczania kształtu zwierciadlanego odbłyśnika, który zapewnia uzyskania rozkładu natężania oświetlenia o zakładanej równomierności. Obliczenia optymalizacyjne przeprowadzono z udziałem algorytmu genetycznego oraz algorytmu wykorzystującego metodę przeszukiwań bezpośrednich. W obu algorytmach wprowadzono ograniczenia przeszukiwanego obszaru.
EN
There are presented research results that concern of calculation of mirror reflector profile that is using for obtaining the highest value of average illumination and uniformity ratio on the illuminated surface. The direct search and genetic algorithm optimization methods with linear inequality constraints were used.
3
Content available remote Analysis of spatial distribution of the light reflected by selected materials
Tabaka P.
Zeszyty Naukowe. Elektryka / Politechnika Łódzka
|
2008
|
z. 115
155-161
EN
This paper presents a measurement method and a station for tracing the photometric solid of the light radiation intensity reflected from reflecting materials. Additionally, the laboratory measurement results have been presented.
PL
Przedstawiono metodę pomiarową oraz stanowisko do wyznaczania bryły fotometrycznej światłości promieniowania odbitego od materiałów odbłyśnikowych. Zaprezentowano także uzyskane wyniki z pomiarów laboratoryjnych.
4
Content available remote Zależność bryły fotometrycznej powierzchni odbijającej w sposób kierunkowo-rozproszony od kierunku oświetlania
Tabaka P.
Przegląd Elektrotechniczny
|
2008
|
R. 84, nr 1
16-19
PL
W publikacji zaprezentowano zmiany kształtu bryły fotometrycznej światła odbitego od powierzchni odbijającej w sposób kierunkowo-rozproszony w funkcji kąta oświetlania.
EN
This paper presents change of shape luminous intensity distribution of light reflection from mixed reflection surface in dependance of lighting angel.
5
Content available remote Results of laboratory measurements of index curves
Tabaka P.
Przegląd Elektrotechniczny
|
2008
|
R. 84, nr 8
147-150
EN
Results of laboratory measurements of index curves of selected reflecting materials have been presented. Measurements have been applied for flat samples of materials utilized in luminaires design. All the reflecting samples have been shaped in square surfaces of the same dimensions (60x60 mm). The measurements have been carried out in different surfaces with the angular step depending on the nature of the reflection. The index curves have been measured for ten selected illumination directions: 20 o, 30 o, 40 o, 50 o, 60 o, 65 o, 70 o, 75 o, 80 o and 85 o.
PL
Przedstawiono wyniki pomiarów laboratoryjnych krzywej wskaźnikowej wybranych materiałów odbłyśnikowych. Pomiarom poddano płaskie próbki wykonane z rzeczywistych materiałów wykorzystywanych w produkcji opraw oświetleniowych. Wszystkim powierzchniom odbłyśników nadano jednakowy wymiar (60x60 mm). Pomiary wykonano z krokiem kątowym zależnym od charakteru odbicia. Pomierzone krzywe wskaźnikowe wyznaczono dla dziesięciu wybranych kierunków oświetlania próbki, a mianowicie dla: 20 o, 30 o, 40 o, 50 o, 60 o, 65 o, 70 o, 75 o, 80 o i 85 o.
6
Content available Wpływ kierunku oświetlania powierzchni na bryłę fotometryczną
Tabaka P.
Prace Instytutu Elektrotechniki
|
2007
|
Z. 232
85-95
PL
Pełne dane dotyczące właściwości refleksyjnych materiałów zawiera bryła fotometryczna światłości (lub luminancji) światła odbitego od powierzchni rozpatrywanego materiału przy jednoznacznie zdefiniowanej geometrii wiązki świetlnej padającej. Taką bryłę można wyznaczyć za pomocą stanowiska pomiarowego, którego geometrię przedstawiono w niniejszej publikacji. Stanowisko to nadaje się do pomiarów zarówno próbek materiałów odbłyśnikowych, jak i innych stosowanych np. w projektowaniu wystroju wnętrz. Pomiarom poddano płaską próbkę kwadratową z rzeczywistego materiału wykorzystywanego w produkcji opraw oświetleniowych. Dla danego kierunku oświetlania otrzymuje się jedną bryłę fotometryczną. Kształt bryły zmienia się wraz ze zmianą kąta padania światła, co można zaobserwować na zamieszczonych rysunkach.
EN
Complete data regarding the reflex characteristics of the materials present the luminous intensity distribution of light reflected by the surface of the material under study with the unequivocally defined geometry of falling light beam. Such distribution can be elaborated by means of measurement stand which layout is presented in the paper. The stand is useful for the measurement studies of both the reflex materials samples and others, used i.e. in room decoration. Measurements have been performed with the flat square sample of real material utilized in luminaires production. For each direction of illumination a single luminous intensity distribution is obtained. The shape of the distribution is varying while the light entrance angle changes what can be observed in figures.
7
Wpływ kierunku oświetlania powierzchni odbłyśnikowych na bryłę fotometryczną światła odbitego
Tabaka P.
Nowa Elektrotechnika
|
2007
|
nr 4 (32)
26--30
8
Content available remote Stanowisko do wyznaczania bryły fotometrycznej światła odbitego
Tabaka P., Gabryjelski Z.
Przegląd Elektrotechniczny
|
2006
|
R. 82, nr 3
74-75
PL
Omówiono geometrię stanowiska do wyznacza bryły fotometrycznej światła odbitego od wybranych materiałów stosowanych na odbłyśniki opraw oświetleniowych bądź innych stosowanych np. w projektowaniu wystroju wnętrz.
EN
This paper presents geometry and construction special type of instrument to measure reflection light and surface of intensity dystrybution materials using for reflectors of luminaries.
9
Content available remote Symulacja odbicia światła od powierzchni odbłyśnika pokrytego fakturą makroskopową
Sawicki D.
Przegląd Elektrotechniczny
|
2005
|
R. 81, nr 7-8
46-49
PL
Pokrycie powierzchni odbłyśnika fakturą makroskopową pozwala kształtować rozsył strumienia świetlnego. Do symulacji odbicia od powierzchni takiego odbłyśnika zaproponowano mapowanie nierówności jako technikę dającą możliwość efektywnego i niezależnego kształtowania makrostruktury. Do wyznaczania figury jasnych punktów zastosowano metodę śledzenia promieni. Praca przedstawia przykłady figur jasnych punktów dla różnych typów faktury pokrywającej powierzchnię odbłyśnika.
EN
Covering the reflector with a macroscopic texture allows modeling the luminous flux distribution. The bump mapping application is proposed to the simulation of the light reflection from such reflector as a technique that allows modeling shape of the macroscopic texture effectively and independently. The light point figure is calculated using ray tracing. Examples of the light point figure for different shapes of covered macroscopic texture are presented.
10
Reflektory samochodowe - wczoraj, dziś i może jutro
Mańkowski M.
Nowa Elektrotechnika
|
2005
|
nr 12 (16)
30--32
11
Wybrane problemy obliczeń świetlnych opraw oświetlenia miejscowego ze świetlówką kołową
Pawlak A., Zaremba K.
Wiadomości Elektrotechniczne
|
2002
|
R. LXX, nr 12
528-531
PL
Opisano problemy występujące podczas projektowania układów ze świetlówką kołową i odbłyśnikami, zastosowanych w oprawach oświetlenia miejscowego. Przedstawiono analizę rozkładu natężenia oświetlenia na powierzchni roboczej od kołowego źródła światła.
EN
Problems occuring in designing systems with a circular fluorescent lamp and reflectors employed in the fittings for local illumination. Analysis of the distribution of the luminous flux density on a working surface from the circular light source.
12
Właściwości reflektorowe sinusoidalnych odbłyśników zwierciadlanych
Glinko G.
Wiadomości Elektrotechniczne
|
2002
|
R. LXX, nr 7-8
296-299
PL
Rozważono możliwości wykorzystywania kształtów sinusoidalnych w konstrukcji reflektorów zwierciadlanych. W tym celu opracowano komputerowy model odbłyśnika, wprowadzono do niego zastępcze żarowe źródło światła i szukano punktu, w którym należy je umieścić, aby uzyskać maksymalną wartość światłości.
EN
Possibilities of using sinusoidal shapes in the design of mirror reflectors are under consideration. Therefore a computer-based model of the reflector was prepared, then a substitute incandescent light source was introduced into it and a point was being looked for at which it should be placed that a maximum luminous intensity could be obtained.
13
Oprawy o odbłyśnikach odbijających w sposób kierunkowo rozproszony
Stasiewicz R.
Wiadomości Elektrotechniczne
|
2002
|
R. LXX, nr 12
532-535
PL
Omówiono oprawy oświetleniowe o odbłyśnikach ze zróżnicowanymi parametrami profili i kształtów. Dokonano analizy wyników uzyskanych w efekcie symulacji układów świetlno-optycznych.
EN
Discussion of lighting fittings with reflectors having diversified parameters of profile and shape. Analysis of the results obtained from a simulation of lighting-optical systems.
14
Metoda Monte Carlo w obliczeniach odbłyśników obrotowo-symetrycznych o odbiciu równomiernie rozproszonym
Zajkowski M.
Wiadomości Elektrotechniczne
|
2002
|
R. LXX, nr 12
545-548
PL
Opisano zastosowanie metody Monte Carlo w obliczeniach świetlnych układów z odbłyśnikiem idealnie rozpraszającym. Podano przykładowe obliczenia układu świetlno-optycznego.
EN
Application of the Monte-Carlo method in calculations of lighting systems with an ideally scattering reflector. Examples of calculations of a lighting-optical system.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.