W pracy otrzymano cienkie filmy SiO2/TiO2 domieszkowane wanadem na podłożu szklanym techniką zol-żel zanurzeniowo-wynurzeniową. Skład chemiczny próbek badano przy pomocy spektroskopii fotoelektronów (XPS). Transmitancję scharakteryzowano używając spektrofotometru UV-VIS. Wyznaczono optyczną przerwę energetyczną dla otrzymanych filmów. Zbadano również efekt fotokatalityczny dla próbek. Żele otrzymane z zoli zostały scharakteryzowane przy pomocy spektroskopii w podczerwieni (FTIR). Zaobserwowano, że dodatek wanadu powoduje obniżenie przerwy energetycznej cienkich filmów SiO2/TiO2.
EN
In our investigation, V-doped SiO2/TiO2 thin films were prepared on glass substrates by the dip coating sol-gel technique. The chemical composition of the films was studied by photoelectron spectroscopy (XPS). Transmittances of the samples were characterized using a UV-VIS spectrophotometer. Subsequently the band-gap energy (Eg) was estimated for the films. The photocatalytic effect was investigated for the obtained samples. Gels obtained from sols were characterized by FTIR spectroscopy. It was found that the vanadium additive decreases the optical band gap of SiO2/TiO2 films.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.