PL
 |
EN
Preferencje help
Polish version English version Język
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 4

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  detectors calibration
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
1
Content available remote Badanie detektorów na potrzeby mikroskopii miękkiego promieniowania X
Mikołajczyk J., Bielecki Z., Nowakowski M., Gutowska M.
Przegląd Elektrotechniczny
|
2010
|
R. 86, nr 11a
197-199
PL
W artykule przedstawiono opis stanowiska laboratoryjnego do badań właściwości detektorów promieniowania z zakresu długości fal 2-4 nm. Właściwości te odnoszą się do niejednorodności powierzchniowej ich czułości widmowej. Zastosowany zakres widmowy promieniowania jest szczególnie interesujący w badaniach medycznych i biologicznych. Jest on bardzo często określany jako zakres promieniowania tzw.„okna wodnego”, w którym jest możliwa obserwacja tkanek żywych. Dokładne określenie czułości detektorów stosowanych w mikroskopii optycznej jest istotnym elementem rozwoju tej technologii. Praca dotyczy stanowiska laboratoryjnego do pomiaru niejednorodności czułości przy wykorzystaniu źródła laserowo-plazmowego z tarczą gazową. Przedstawiono w niej analizy dotyczące doboru poszczególnych elementów stanowiska oraz wyniki wstępnych badań.
EN
The paper presents a laboratory setup for investigation of spatial non-uniformity of detector responsivity in the wavelength range from 2 nm to 4 nm. The spectrum is of great interest in biology. In the water-window spectra, where water is rather transparent, microscopic observation of living objects is possible. Accurate determination of the responsivity of photodetectors used in this application is highly desired. The change of responsivity over the surface, the so-called spatial non-uniformity, effects error of power measurements especially in the case of detectors with large active areas or imaging ones. At the described setup, the laser-plasma source with a gas-puff target is used. The preliminary results of a silicon photodiode investigations are also presented and discussed.
2
Koncepcja stanowiska do badań rozkładu przestrzennego czułości widmowej detektorów
Mikołajczyk J., Rakowski R., Rutecka B.
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
|
2010
|
Vol. 51, nr 1
29-32
PL
W artykule przedstawiono koncepcję stanowiska do badań rozkładu przestrzennego czułości widmowej detektorów na potrzeby metrologii promieniowania z zakresu skrajnego nadfioletu EUV (ang. Extreme Ultraviolet) oraz miękkiego promieniowania X (ang. Soft X-ray). Zakres ten obejmuje promieniowanie o długości fali od 0,1 nm do 50 nm [1]. Badania będą miały na celu nie tylko wyznaczenie czułości detektorów, ale również ich powierzchniowej niejednorodności. Głównym elementem tego stanowiska jest źródło laserowo-plazmowe z tarczą gazową. Na podstawie przeprowadzonych wyników badań określono wymagania dotyczące doboru układu optycznego, jak również metody pomiarowej. Omówiono także układ pomiarowy przeznaczony do wyznaczania niejednorodności powierzchniowej czułości detektorów. Przedyskutowano wyniki wstępnych badań fotodiody krzemowej stosowanej w przyrządach pomiarowych promieniowania EUV oraz Soft X-ray.
EN
The paper presents a project of laboratory setup for detectors investigation applied in metrology of extreme ultraviolet and soft X-ray radiation. The main task of the work is determination both the detector responsivity and the non-uniformity of spatial responsivity. At the setup, a laser-plasma source with gas-puff target is used. Basing on the measured parameters of the source, the requirements for optical elements and a measurement method have been specified. A special investigation procedure of the spatial non-uniformity of detector responsivity is described. The preliminary results of silicon photodiode investigations are also presented and discussed.
3
Content available Stanowisko do badań czułości widmowej detektorów promieniowania o długości fali 13,5 nm
Mikołajczyk J., Bielecki Z.
Pomiary Automatyka Kontrola
|
2007
|
R. 53, nr 9 bis
285--288
PL
W pracy omówiono stanowisko do badań czułości widmowej detektorów promieniowania z zakresu skrajnego nadfioletu. Po raz pierwszy w badaniach tych zastosowano laserowo-plazmowe źródło promieniowania z tarczą gazową. Istotnym elementem tego stanowiska jest dzielnik optyczny z układem zwierciadeł wielowarstwowych. Umożliwia on przeprowadzenie porównawczych pomiarów energii promieniowania za pomocą badanego detektora i wzorcowego miernika. Ogranicza to w znacznym stopniu wpływ niestabilności źródła promieniowania oraz zmianę warunków pomiarowych na dokładność procedury. W pracy przedstawiono wyniki badań poszczególnych elementów zaprojektowanego stanowiska. Dotyczą one wyznaczenia stabilności i wydajności źródła, charakterystyk parametrów zastosowanych układów optycznych oraz właściwości opracowanego dzielnika wiązki. Jednocześnie wyznaczono niepewność pomiarów czułości badanych detektorów za pomocą przyrządu E-Mon i wzorcowego detektora typu AXUV100 firmy National Radation Detectors Inc.
EN
The paper presents a laboratory setup used for a calibration of EUV radiation detectors. For the first time, the laser-plasa source with gas puff target has been applied in such type of measuring procedure. The setup also used an optical beam splitter consisted of two Mo/Si multilayer mirrors. The splitter makes it possible to take comparative measurements by a tested detector and a model energy meter. The instabilities of the source intensity and measurement conditions were minimized in this way. The results of elements investigations of the position were presented. Measurements of the stability and energy efficiency of the radiation source were taken. The features of the beam splitters were determined. The uncertainty of the measuring procedure of detector responsivity at the position was characterized by calibrated E-Mon meter and photodiode model AXUV. A substantial improvement in the calibration systems is demonstrated.
4
Application of laser-plasma source with gas-puff target for calibration of EUV radiation detectors
Mikołajczyk J., Bielecki Z.
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
|
2007
|
Vol. 48, nr 12
51-54
EN
The paper presents a laboratory setup with a procedure used for measurements of detector responsivity. The responsivity is specified in the range of extreme ultraviolet radiation (wavelength of 13.5 nm). This spectrum range is an important factor determining the next step of nanolithography. The main issue of this technology is an absolute measurement of radiation energy. The constructed laser-plasma source with a metrology chamber gave opportunity to design a special calibration procedure of EUV detectors used in energy meters. The described laboratory setup is characterized by a good reliability, low costs of operation, and a short time of measurement procedures.
PL
Przedstawiono stanowisko laboratoryjne do pomiarów czułości widmowej detektorów promieniowania zakresu skrajnego nadfioletu (λ= 13,5 nm). Promieniowanie to jest szczególnie istotne, gdyż stanowi perspektywę dalszego rozwoju nanolitografii. Obecnie zasadniczym zagadnieniem tej technologii są bezwzględne pomiary energii promieniowania. Skonstruowanie w Instytucie Optoelektroniki WAT źródła laserowo-plazmowego z tarczą gazową dało możliwość przygotowania specjalnej procedury testującej. Opracowane na podstawie badań wstępnych stanowisko laboratoryjne charakteryzuje się dużą niezawodnością małymi kosztami eksploatacji oraz krótkim czasem trwania procedury pomiarowej detektorów promieniowania z zakresu skrajnego nadfioletu.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.