Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

1 Instal

1 2002

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Instalacje wodociągowe jako źródło wtórnego zanieczyszczenia wody do picia metalami

Stankiewicz A., Życiński D., Wichrowska B., Jamsheer-Mydłowska M., Kaflak J.

Instal

2002

nr 11

8--10

Zapewnienie zdrowej i czystej wody, zgodnie z Dyrektywą Rady Unii Europejskiej 98/83/EC, nakłada obowiązek podejmowania działań mających na celu wyeliminowanie możliwości jej wtórnego zanieczyszczenia substancjami, które mogłyby bezpośrednio lub pośrednio wpływać na stan zdrowia konsumentów. W wielu systemach wodociągowych obserwuje się pogorszenie jakości wody w czasie przepływu od stacji uzdatniania do użytkownika. Mając powyższe na uwadze podjęto badania w celu porównania zawartości metali w wodzie uzdatnionej doprowadzonej do sieci z Wodociągu Centralnego i w wodzie pobieranej u konsumentów w różnych dzielnicach Warszawy. Badanie wykonano za pomocą metody ICP-AES.

Providing healthy and pure water, according to EU Directive 98/83/EC, put an obligation to perform actions, which are aimed at eliminating its secondary pollution with substances that could directly or indirectly influence on consumers’ state of health. In many water supply systems, deterioration of water quality during the flow from water purification plant to the consumer is observed. Considering the above, the studies, which intended the comparison of metals' content in treated water, which was supplied to the water mains from Central Water Pipeline and in water taken from consumers’ taps in different districts of Warsaw, were performed. The studies were conducted with ICP-AES (Inductively Coupled Plasma - Atomic Emission Spectroscopy) method.