Wyniki wyszukiwania - BazTech

1

Właściwości elektrostatyczne cienkich warstw tlenków na bazie kobaltu i wolframu

Gawęda Berenika, Pokora Patrycja, Obstarczyk Agata

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2020

|

Vol. 61, nr 10

7--9

PL

W pracy przedstawiono wyniki badań i analizy wpływu składu materiałowego spiekanych targetów wytworzonych metodą SPS (ang. Spark Plasma Sintering), z których zostały naniesione powłoki, na ich właściwości antystatyczne. Cienkie warstwy zostały wytworzone za pomocą metody rozpylania magnetronowego. Pomiary oraz analizę przeprowadzono dla sześciu różnych próbek. Trzy z nich wytworzono ze spiekanych targetów Ti:Co o składzie materiałowym 95:5, 85:15 i 50:50. Z kolei pozostałe trzy uzyskane były z targetów na bazie Ti:W o takim samym składzie materiałowym jak warstwy z kobaltem. Analiza wyników badań wykazała, że spośród wielu zmierzonych próbek, tylko dwie były antystatyczne, gdyż dla kryterium 10% miały czasy rozpraszania ładunku statycznego na powierzchni krótsze niż 2 s. Były to cienkie warstwy wytworzone ze spiekanych targetów na bazie tlenków Ti-W o składzie materiałowym (Ti0,5W0,5)Ox oraz (Ti0,85W0,15)Ox.

EN

This paper provides research investigation results and analysis of influence of the material composition of sintered targets produced by the Spark Plasma Sintering (SPS) method , from which the thin layers were applied, on their antistatic properties. The thin layers were deposited by the magnetron sputtering method. Measurements and analysis were performed on six different coatings. Three of them were made of sintered Ti:Co targets with a material composition of 95: 5, 85:15 and 50:50. In turn, the remaining three were obtained from Ti:W based targets with the same material composition as the layers with the cobalt. The analysis of the research results showed that among many measured samples, only two were antistatic, because for the 10% criterion, the static charge dissipation times on the layer surface were shorter than 2 s. These were thin layers made of sintered targets based on Ti-W oxides with the material composition (Ti0,5W0,5) Ox and (Ti0,85W0,15) Ox.

2

Wpływ struktury na właściwości elektryczne i optyczne cienkich warstw na bazie tlenków Ti i Hf

Obstarczyk Agata, Kaczmarek Danuta, Mazur Michał, Domaradzki Jarosław, Wojcieszak Damian

Przegląd Elektrotechniczny

|

2019

|

R. 95, nr 9

111--114

PL

Celem niniejszej pracy było wytworzenie nanokrystalicznych oraz amorficznych cienkich warstw na bazie mieszaniny tlenków Ti i Hf metodą rozpylania magnetronowego. W ramach pracy przeprowadzono również szczegółową analizę wpływu struktury wybranych warstw na ich właściwości elektryczne takie jak gęstość prądu upływu oraz względna przenikalność elektryczna, a także właściwości optyczne w tym współczynnik ekstynkcji światła.

EN

The aim of this work was to prepare nanocrystalline and amorphous thin films based on a mixture of Hf and Ti oxides by magnetron sputtering. As a part of work, the detailed analysis of the impact of the thin films structure on their electrical properties such as leakage current density and dielectric constant and optical properties like extinction coefficient was carried out.

3

Wpływ struktury na właściwości elektryczne oraz optyczne cienkich warstw na bazie tlenków tytanu i miedzi

Obstarczyk Agata, Kaczmarek Danuta, Posadowski Witold, Mańkowska Ewa, Grobelny Marcin

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2019

|

Vol. 60, nr 7

7--9

PL

W pracy przedstawiono wyniki badania wpływu struktury na właściwości elektryczne oraz optyczne cienkich warstw na bazie tlenków tytanu i miedzi. Cienkie warstwy tlenku miedzi oraz dwuwarstwy TiO₂/CuxO o różnej grubości TiO₂ na powierzchni CuxO były naniesione metodą rozpylania magnetronowego. Wytworzone dwuwarstwy TiO₂/CuxO o różnej grubości TiO₂ były nanokrystaliczne o jednoskośnej strukturze tlenku miedzi II (CuO). Średni rozmiar krystalitów był w zakresie od 10 nm do 14 nm. Stwierdzono, że rezystywność dla cienkiej warstwy CuO była równa 0,7•103 Ω•cm, natomiast dla struktur TiO₂/CuO była w zakresie 0,8•103 ÷ 1,5•103 Ω•cm. W przypadku powłok dwuwarstwowych TiO₂/CuO średnia wartość współczynnika transmisji światła wynosiła ponad 80%.

EN

This paper provides research investigation results and analysis of influence of the structure on electrical and optical properties of thin films based on the titanium and copper oxides. CuxO and TiO₂/CuxO thin films with different thickness of top TiO₂ layer coatings were deposited by the reactive magnetron sputtering method. TiO₂/CuxO bilayers with different thickness of top TiO₂ layer were nanocrystalline and had monoclinc structure of CuO. The crystallite sizes were in the range of 10 nm to 14 nm. It was found that the resistivity for the CuO film was equal to 0.7•103 Ω•cm, and for TiO₂/CuO structures was in the range of 0.8•103 ÷ 1.5•103 Ω•cm. As-prepared bilayers were well transparent, average transparency was above 80%.

4

Nanoproszki na bazie TiO₂ do wytwarzania powłok samoczyszczących

Mańkowska Ewa, Kaczmarek Danuta, Obstarczyk Agata, Maciej Strzyżewski

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2019

|

Vol. 60, nr 7

24--26

PL

W pracy zaprezentowano wyniki badania wpływu ilości domieszki (2% at. oraz 4% at.) oraz temperatury wygrzewania (300°C i 600°C) na zdolność do rozkładu oranżu metylowego przez nanocząstki dwutlenku tytanu domieszkowane cerem (TiO₂:Ce) w wyniku procesu fotokatalizy. Nanocząstki TiO₂ zostały wytworzone metodą zol-żel, przy użyciu TTiP jako prekursora. Zaobserwowano, że lepsze właściwości fotokatalityczne ma próbka domieszkowana mniejszą ilością ceru, co oznacza, że istnieje optymalna zawartość domieszki. Aktywność fotokatalityczna tej próbki wynosiła 16,7%. Wygrzewanie w wysokiej temperaturze miało negatywny wpływ na zdolności próbek do rozkładu barwnika, gdyż aktywność fotokatalityczna żadnej z wygrzanych próbek nie przekroczyła 4%.

EN

This paper presents the results of the investigation of concentration of the dopant (2 at.% Ce and 4 at.% Ce) and high-temperature annealing (300°C i 600°C) on the decomposition of methyl orange by titanium dioxide nanoparticles doped with cerium (TiO₂:Ce) as a result of photocatalysis process. Methyl orange was decomposed by TiO₂:Ce nanoparticles, which were synthesized by sol-gel technique with using TTiP as a precursor. It was observed that the higher photocatalytic activity has been obtained by TiO₂ doped with smaller amount of cerium, which suggests the existence of the optimum dopant concentration. The photocatalytic activity of this nanoparticles was equal to 16.7%. Moreover, high-temperature annealing had a negative effect on TiO₂:Ce nanoparticles on decomposition ability, due to the fact that the photocatalytic activity of all annealed nanoparticles did not achieve 4%.

5

Badanie właściwości cienkich warstw tlenków cynku otrzymywanych metodą reaktywnego impulsowego rozpylania magnetronowego

Wiatrowski Artur, Posadowski Witold, Wojcieszak Damian, Mazur Michał, Obstarczyk Agata, Zięba Aneta

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2019

|

Vol. 60, nr 7

10--13

PL

W pracy przedstawiono wyniki badań technologii otrzymywania warstw ZnOx metodą impulsowego reaktywnego rozpylania magnetronowego. Badano charakterystyki elektryczne procesów reaktywnych podczas rozpylania targetu Zn w obecności mieszaniny argon + tlen, identyfikując mod rozpylania magnetronowego. Określono warunki technologiczne, przy których osadzone warstwy miały właściwości zbliżone do właściwości stechiometrycznego tlenku cynku. Morfologia przekroju powierzchni wytworzonych warstw wskazała na budowę matrycy/osnowy dielektrycznej z wtrąceniami metalicznymi przy małym poziomie mocy krążącej, gdy strukturę włóknistą/kolumnową miały warstwy otrzymane przy dużych wartościach mocy krążącej. Współczynnik załamania światła wytworzonych warstw był w zakresie 1,97 ÷ 1,98. Badania przedstawione w pracy pokazały, że parametry procesu osadzania miału duży wpływ na wartość współczynnika ekstynkcji światła.

EN

This paper provides the results of research investigation of pulsed reactive magnetron sputtering method for preparation of ZnOx thin films. For identification the magnetron sputtering mode, the electrical characteristics of the reactive processes during sputtering of Zn target in the mixed argon + oxygen atmosphere were investigated. Technological conditions at which deposited films had properties similar to stoichiometric zinc oxide were determined. The morphology of films crosssection indicate that the structure of dielectric matrix/wrap with metallic inclusions was obtained at a low level of circulating power, while coatings obtained at high circulating power values had fibrous/column structure. The refractive index of the prepared films was in the range of 1.97 to 1.98. Research presented in this work showed that the parameters of sputtering had an effect on the value of the extinction coefficient.