Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
PL
Osadzanie laser pulsacyjnym należy do nowoczesnych technologii wytwarzania cienkich warst z szerokigo spektrum materiałów obejmujących tak czyste pierwiastki, jak i związki chemiczne. Podstawą techniki jest krystalizacja z fazy gazowej po laserowej ablacji osadzanego materiału. W pracy przedstawiono wyniki badań strukturalnych cienkich warstw na bazie tytanu obejmujących: tytan metaliczny, azotek i tlenek tytanu. Stwierdzono, iż uzyskane warstwy posiadały jednorodną budowę nano-krystaliczną. Przedmiotem badań był wpływ warunków procesu na mikrostrukturę, tworzące się fazy i poziom naprężeń własnych. Badania prowadzono techniką elektronowej mikroskopii skaningowej (SEM) i transmisyjnej (TEM) oraz dyfrakcji rentgenowskiej (XRD).
EN
Pulsed laser deposition (PLD) belongs to advanced technologies of thin layers production. The success of PLD has in the deposition of a wide variety of materials; form pure elements to multicomponent compunds. The basis of the technology is a solidification of materials from a gaseous phase subjected formarly to a laser ablation. Structural examinations were performed on the titanium base layers: metallic, nitride and oxide types. Generally, the received homogeneous layers presented a nano-structure. Influence of deposition parameters on microstructure, phases and level residual stress was under examination. The studies were performed using scanning (SEM), transmission (TEM) electron microscopies and X-ray diffraction (XRD).
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.