Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

1 Przemysł Chemiczny

1 2025

Powiadomienia systemowe

Sesja wygasła!

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Zastosowanie techniki ALD do wytwarzania cienkich warstw ochronnych stosowanych w filtrach optycznych

Okrasa Małgorzata, Cichowlas Małgorzata, Puchalski Michał

Przemysł Chemiczny

2025

T. 104, nr 2

237--242

Przedstawiono ocenę możliwości wykorzystania techniki ALD do nanoszenia cienkich warstw TiO₂ o zróżnicowanej grubości na próbki materiałów przeziernych przeznaczonych do zastosowania w środkach ochrony oczu. Oceniono zwilżalność powierzchni, szerokokątne rozproszenie światła (WASL), współczynnik luminancji oraz zdolność do blokowania promieniowania optycznego. Osadzane powłoki TiO₂ znacząco wpływają na zmniejszenie swobodnej energii powierzchniowej i zwiększenie kąta zwilżania, co może być korzystne w kontekście nadawania powierzchni właściwości samoczyszczących. Analizy spektralne wykazały skuteczne blokowanie promieniowania UV przez powłoki TiO₂, natomiast pomiary WASL i współczynnika luminancji wskazują, że nawet przy zwiększonej liczbie cykli powłoki spełniają wymagania normatywne dotyczące jakości widzenia.

The surface of transparent polycarbonate samples was modified by deposition of thin layers of TiO₂ (500-2000 deposition cycles) using the atomic layer deposition (ALD) technique. Surface wettability, wideangle scattered light (WASL), luminance coeff., and optical radiationblocking capability were evaluated. The deposited TiO₂ layers significantly reduced surface free energy and increased the contact angle, which may be beneficial for imparting self-cleaning properties to the surface. Spectral anal. demonstrated effective UV-blocking by the TiO₂ coatings, while WASL and luminance coeff. measurements indicated that even with an increased no. of cycles, the coatings met normative requirements for visual quality.