Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
EN
TiO2 thin films were deposited by the energy filtrating magnetron sputtering (EFMS) technique and the traditional direct current magnetron sputtering (DMS) technique. The influence of the filtering electrode mesh number on the structure and optical properties of TiO2 thin films was investigated. The structure, surface morphology and optical properties were characterized by XRD, SEM and ellipsometric spectroscopy, respectively. Results show that the TiO2 thin films deposited by the DMS and EFMS techniques at the same deposition parameters are composed of the anatase phase exclusively. TiO2 thin films deposited at lower deposition rate by the EFMS technique have lower crystallinity, smaller particle size and smoother surface. With increasing the mesh number, the refractive index, extinction coefficient and optical band gap are larger.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.