PL
 |
EN
Preferencje help
Polish version English version Język
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 5

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
1
Content available remote The electrochemical copper structure forming in the presence of the magnetic field
Białostocka A. M.
Przegląd Elektrotechniczny
|
2013
|
R. 89, nr 10
254-256
EN
In the presence metallic layers settled on the surfaces by the electrocrystallization method play significant role in the engineering. Many kind of factors, including the magnetic field presence, decide about the metal’s structure and its quality. The influence that can render the magnetic field in the electrochemical environment is significant. In the article the electrocrystallization issue and the effects of electrocrystallization received under the influence of different kind of the magnetic configuration are presented. There are shown phenomenons existing in the electrochemical bath and the effects of electrocrystallization process as the based microscope structure.
PL
Obecnie bardzo dużą rolę w inżynierii odgrywają warstwy metalowe osadzane na powierzchniach metodą elektrokrystalizacji. O strukturze metalu i jej jakości decyduje wiele czynników, do których dodano jeszcze obecność pola magnetycznego. Znaczący jest wpływ, jaki wywierać może obecność pola magnetycznego w środowisku elektrochemicznym. W pracy przedstawiono samo zagadnienie elektrokrystalizacji oraz porównano efekty otrzymane w wyniku elektrokrystalizacji pod wpływem różnego rodzaju czynników magnetycznych. W artykule przedstawiony zostanie przebieg zjawisk zachodzących w kąpieli elektrochemicznej i efekty procesu elektrokrystalizacji w postaci wyników badań mikroskopijnych otrzymanych struktur.
2
Content available remote The continuous measurement of the potential during the process of the electrochemical copper setting
Białostocka A.M., Walendziuk W.
Przegląd Elektrotechniczny
|
2012
|
R. 88, nr 6
163-165
EN
The article presents usefulness of the computer modelling support through the remote measurements in the electrochemical technologies. Modelling of the electrolytic covers demands problem solution connected with current distribution in the electrolyte, electrodes shape and composition of the electrochemical environment in which the process takes place. The adapted methodology is used in the potential analysis and its influence on the covered layer structure and its topology. Classification of methods properties makes possibility of its evaluation concerning elasticity, usefulness in the galvanic process and its use in practice.
PL
W artykule przedstawiona zostanie przydatność komputerowego wspomagania modelowania poprzez przeprowadzanie zdalnych pomiarów w technologiach elektrochemicznych. Modelowanie powłok elektrolitycznych wymaga rozwiązania problemów związanych między innymi z rozkładem prądu w elektrolicie, kształtem elektrod i składem elektrochemicznym środowiska, w którym zachodzi proces. Zastosowaną metodologię wykorzystuje się do analizy potencjału i jego późniejszego wpływu na strukturę osadzonej powłoki i jej topologię. Klasyfikacja własności tej metody umożliwi jej ocenę pod względem elastyczności i przydatności w procesie galwanizacji oraz możliwość późniejszego zastosowania w praktyce.
3
Content available remote Automatyczna kontrola rozkładu potencjału w procesie elektrochemicznego osadzania miedzi
Białostocka A. M., Zaniewski Ł.
Informatyka, Automatyka, Pomiary w Gospodarce i Ochronie Środowiska
|
2011
|
nr 4
20-23
PL
Przedmiotem badań przeprowadzonych w ramach tej pracy jest pomiar jednego z czynników elektrycznych - potencjału i określenie jego wpływu na efekt procesu elektrochemicznego osadzania miedzi. Podczas eksperymentów wykorzystano stanowisko do automatycznego pomiaru potencjału na powierzchni pokrywanego przedmiotu. Badania miały wykazać korelację pomiędzy charakterem struktury krystalicznej metalu i jej rozłożeniem na pokrywanym przedmiocie, a rozkładem potencjału na jego powierzchni. Do określenia struktury osadzonego materiału wykorzystano metodę mikroskopową.
EN
The researches's object carried out during this work i s one of the electrical factors - potential and determination of its influence on the electrochemical process of copper setting. During the experiments was applying the standing for the automatic potential measurements on the covered object's surface. The researches have to prove the correlation between the charakter of crystalline metal's structure, its decomposition on the covering thing and potential's schedule on the cathode's surface. For the setting metal's structure defining was applying the microscopic method .
4
Content available remote Copper electrocrystallization in the presence of different kind of modeling electrodes
Białostocka A. M., Zaniewski Ł.
Electronics and Telecommunications Quarterly
|
2008
|
Vol. 54, No 3
415-427
EN
The electrochemical method of the metal setting plays important role in the intensive developing domain, which is materials engineering. The effects of electrochemical process working are the surface layers, which have the differences in the cristal stucture. Feature, which characterize this kind of layers is homogeneity of the structure and high level of adhesion to the base. Microstructure of the surface layers can be shaped with the help of electrical parameters selection during the electrochemical process, particularly current parametres as well chemical parametres. In the article is presented the method of electrical field shaping and setting layers influence. The researches present also the usability of steering of the electrical field distribution depend on the shape of the additional, modelling electrodes.
5
Content available remote Metoda wyznaczania przyrostu masy w procesie elektropolerowania
Białostocka A. M., Łukjaniuk A.
Zeszyty Naukowe Politechniki Białostockiej. Elektryka
|
2002
|
Z. 16
115-121
PL
W artykule przedstawiono metodę wyznaczania przyrostu masy miedzi podczas procesu galwanicznego pokrycia przedmiotów. W metodzie tej (pozwalającej na kontrolę przyrostu masy miedzi bez przerywania procesu galwanizacji) wykorzystuje się prawo Faraday'a - m=klt. Czas trwania procesu galwanizacji oraz wartość prądu mierzona jest przy pomocy uniwersalnego miernika elektrochemicznego EMU. Autorzy przeprowadzili analizę błędu wyznaczania masy przedstawioną metodą.
EN
In the article was presented the appoint method of the copper mass increasing during the galvanotechnic process of the objects. In the introducing method (gives the opportunity to control the mass increasing without the galvanotechnic process interrupting) were used the Faraday's law - m=klt. The duration time of the galvanotechnic process and value of the current tension were measured by the universal electrochemical tool EMU. The authors carried out the analysis of the error of the copper mass appoint the introducing method.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.