W artykule opisano badania dotyczące zależności liczby bakterii Legionella od takich parametrów wody jak: temperatura, odczyn pH, mętność, twardość ogólna, stężenie azotynów i azotanów, zawartość żelaza i manganu. Wyznaczone zostały te parametry, które sprzyjają występowaniu bakterii oraz podano zakresy wartości, w których znajdują one najlepsze środowisko do rozmnażania się. Ponadto, sprawdzono czy zjawisko występowania Legionella rozwija się w czasie oraz czy jest podatne na wahania sezonowe. Dane dotyczące liczby bakterii Legionella oraz parametrów wody pochodzą ze Stacji Sanitarno- Epidemiologicznych w południowych powiatach województwa śląskiego. Do analizy statystycznej zastosowano program komputerowy Statistica. Artykuł zilustrowano przykładem.
EN
The article presents the research concerning dependences of the number of bacterium Legionella on such parameters of water as: temperature, pH, turbidity, total hardness, concentration of nitrites and nitrates, content of iron and manganese. The parameters which favourthe occu-rrence of the bacterium were shown and the ranges of value in which they have the best propagation environment were given. Besides, it was checked if the phenomenon of the occurrence of Legionella is developed in time and if it is susceptible to seasonal fluctuations. The data concerning the number of the bacterium Legionella and the parameters of water come from the Sanitary-Epidemiological Stations in the south districts of Silesian voivodeship. The computer programme “Statistica” was applied to the statistical analysis. The article was illustrated with the example.
2
Dostęp do pełnego tekstu na zewnętrznej witrynie WWW
W artykule zaprezentowano nowe rozwiązanie przemysłowego układu zasilacza prądu stałego przystosowanego do zasilania magnetronu stosowanego w procesach napylania plazmowego. Prezentowane rozwiązanie cechują następujące oryginalne rozwiązania: układ kompensacji długości przewodów zasilających magnetron czy chłodzenie urządzenia wodą z wewnętrznym obiegiem powietrza. Przyjęte rozwiązania techniczne pozwoliły uzyskać doskonałe parametry użytkowe, małe gabaryty i masę urządzenia, a także długi czas życia zasilacza w trudnych warunkach przemysłowych.
EN
The paper presents new solution of power supplies which supply magnetron for plasma sputtering application. The presented solution has a number of such innovations as water-cooling and the CompensateLine circuit and cause the system has such advantages as small size, small weight and the possibility of the long use. Also a correct work was shown at voltage dip, and other parameters being located in a norm concerning the quality of the system work. These features of the presented power supply are essential at using in the photovoltaic industry as well as in other branches of industry, where is being used plasma sputtering.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.