PL
 |
EN
Preferencje help
Polish version English version Język
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 5

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
1
Content available remote Automatyczna kontrola rozkładu potencjału w procesie elektrochemicznego osadzania miedzi
Białostocka A. M., Zaniewski Ł.
Informatyka, Automatyka, Pomiary w Gospodarce i Ochronie Środowiska
|
2011
|
nr 4
20-23
PL
Przedmiotem badań przeprowadzonych w ramach tej pracy jest pomiar jednego z czynników elektrycznych - potencjału i określenie jego wpływu na efekt procesu elektrochemicznego osadzania miedzi. Podczas eksperymentów wykorzystano stanowisko do automatycznego pomiaru potencjału na powierzchni pokrywanego przedmiotu. Badania miały wykazać korelację pomiędzy charakterem struktury krystalicznej metalu i jej rozłożeniem na pokrywanym przedmiocie, a rozkładem potencjału na jego powierzchni. Do określenia struktury osadzonego materiału wykorzystano metodę mikroskopową.
EN
The researches's object carried out during this work i s one of the electrical factors - potential and determination of its influence on the electrochemical process of copper setting. During the experiments was applying the standing for the automatic potential measurements on the covered object's surface. The researches have to prove the correlation between the charakter of crystalline metal's structure, its decomposition on the covering thing and potential's schedule on the cathode's surface. For the setting metal's structure defining was applying the microscopic method .
2
Content available remote The method comparison of the mass increasing in the electrocrystalisation process
Zaniewski Ł.
Przegląd Elektrotechniczny
|
2010
|
R. 86, nr 12
335-337
EN
In the article takes over the analysis of the error in the two methods, which fix increasing of the copper mass during the galwanotechnic process of covering the elements perform stereolitographic technics. The first method (which get the permission to the control of the mass increasing without the interrupting of the galvanic process) use the Faraday’s law. Second method consist in the definition of the mass increasing using the electronic scales.
PL
W artykule przeprowadzono analizę błędu dwóch metod do określania przyrostu masy w procesie galwanotechnicznego pokrywania elementów na potrzeby stereolitografii. Pierwsza metoda pozwala na kontrolę przyrostu masy bez przerywania procesu galwanotechnicznego, wykorzystując prawo Faraday’a. Druga metoda bazuje na pomiarze masy przy pomocy wag elektronicznych.
3
Content available remote Influence of the model structure on the process of the electrochemical copper setting
Białostocka A., Zaniewski Ł.
Przegląd Elektrotechniczny
|
2010
|
R. 86, nr 1
136-138
EN
In the article will be presented usefulness of the computer modeling support in the electrochemical technologies. Modeling of the electrolytic covers demand of problems solution connection with current distribution in the electrolyte, electrodes shape and composition of the electrochemical environmental in which the process takes place. Adapted methodology is used to analyze of the covered layer structure and its topology. Classification of methods properties makes possibility of its valuation in the case of elasticity, usefulness in the galvanic process and conforming in practice.
PL
W artykule przedstawiona zostanie przydatność komputerowego wspomagania modelowania w technologiach elektrochemicznych. Modelowanie powłok elektrolitycznych wymaga rozwiązania problemów związanych między innymi z rozkładem prądu w elektrolicie, kształtem elektrod i składem elektrochemicznym środowiska, w którym zachodzi proces. Zastosowaną metodologię wykorzystuje się do analizy struktury osadzonej powłoki i jej topologii. Klasyfikacja własności tej metody umożliwi jej ocenę pod względem elastyczności i przydatności w procesie galwanizacji oraz możliwość późniejszego zastosowania w praktyce.
4
Content available remote Copper electrocrystallization in the presence of different kind of modeling electrodes
Białostocka A. M., Zaniewski Ł.
Electronics and Telecommunications Quarterly
|
2008
|
Vol. 54, No 3
415-427
EN
The electrochemical method of the metal setting plays important role in the intensive developing domain, which is materials engineering. The effects of electrochemical process working are the surface layers, which have the differences in the cristal stucture. Feature, which characterize this kind of layers is homogeneity of the structure and high level of adhesion to the base. Microstructure of the surface layers can be shaped with the help of electrical parameters selection during the electrochemical process, particularly current parametres as well chemical parametres. In the article is presented the method of electrical field shaping and setting layers influence. The researches present also the usability of steering of the electrical field distribution depend on the shape of the additional, modelling electrodes.
5
Charakterystyka metod wymuszenia przepływu cieczy w wannie elektrolitycznej
Butryło B., Zaniewski Ł.
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
|
2006
|
Vol. 47, nr 4
44-47
PL
Opisano przydatność komputerowego wspomagania modelowania w technologiach elektrochemicznych. Modelowanie powłok elektrolitycznych wymaga rozwiązania problemów dotyczących rozkładu prądu w elektrolicie, kształtu elektrod i rozkładu elektrochemicznego. Prezentowana metoda jest stosowana do analizy rozkładu prędkości cieczy, rozkładu temperatury i stężenia jonów w wannie do obróbki galwanicznej. Analizowane są dwie metody ukazujące rozwiązanie zagadnień przepływowych. Klasyfikacja ich właściwości umożliwi zastosowanie ich w procesie galwanizacji. Opisano przestrzenny rozkład prędkości elektrolitu. Istotnymi zaletami omawianych metod jest ich elastyczność i przydatność w szerokim zakresie procesów galwanotechnicznych.
EN
The paper showts the applicability of computer aided modeling to some sub-problems of electrochemical technology. The direct modeling of electrolytic coating technology involves solution of current distribution in a solvent, electrochemical dissolution, and shape of the electrodes. The presented method is applied to analyze distribution of a fluid stream, temperature distribution and concentration of ions in the electroplating cell. Two different methods of control of solution circulation are analyzed. Classification of the properties of these methodes enables to qualify the extension of usability each of them in the electroplating technology. The spatial distribution of the velocity of electrolyte is discussed. Essential advantages of the presented method are its flexibility, and applicability to a wide range of electrolytic coating processes.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.