Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
EN
Thin films of titanium oxides, titanium oxynitrides and titanium nitrides were deposited on glass substrates by the methods of direct current (DC) and pulsed magnetron sputtering and cathodic arc evaporation. Phase analysis of the deposited films by X-ray diffraction (XRD) and Fourier-transform infrared spectroscopy (FT-IR) showed the presence of phases with various Ti oxidative states, which indicated a high concentration of oxygen vacancies. The films morphology was investigated by scanning electron microscopy (SEM). Investigations of the films wettability, either with water or ethylene glycol, showed that it depends directly on the concentration of oxygen vacancies. The wettability mechanism was particularly discussed.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.