Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: związki organometaliczne

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Sorpcja związków organometalicznych cyny w zawiesinach wodnych minerałów ilastych

Strzępek M.

Analit

2018

Nr 6

36--44

Celem pracy było zbadanie procesu sorpcji dichlorku dibutylocyny w zawiesinach wodnych wybranych minerałów ilastych. Minerały ilaste pełniły rolę sorbentów w trakcie badań. Minerały, które zostały wybrane do badania to: kaolin, montmorillonit oraz ziemia okrzemkowa. W części doświadczalnej wykonano optymalizację następujących parametrów: amplituda impulsu, czas próbkowania, czas oczekiwania oraz wysokość schodka. Proces sorpcji był badany w zależności od różnych parametrów. Wybrane z nich to: różne naważki sorbentów, różne ilości dodawanego roztworu chlorku dibutylocyny o stężeniu 1%, różne ośrodki dyspersyjne. Metodą analityczną za pomocą której dokonano pomiarów była różnicowa woltamperometria impulsowa.

The aim of the work was to investigate the sorption process of dibutyltin chloride in aqueous suspensions of the selected clay minerals. The clay minerals acted as sorbents during the research. The minerals selected for the study are: kaolin, montmorillonite and diatomaceous earth. In the experimental part optimization of the following parameters was performed: pulse amplitude, sampling time, waiting time and step hight. The sorption process was tested depending on various parameters. These were: various sorbents, different amounts of 1% dibutyltin chloride solution added, different dispersion media. The analytical method by means of which measurements were made was differential pulse voltammetry.

Thin films of Ge/Si/C composition fabricated using RF PECVD technique and mixed organometallic precursors

Rapiejko C., Strojek M., Szymanowski H., Klimek L., Gazicki-Lipman M.

Inżynieria Materiałowa

2004

R. XXV, nr 3

312-315

An RF PECVD technique, with the use of a parallel plate RF plasma deposition reactor, was applied to deposit thin films of mixed germanium/silicon/carbon composition. As a source material a combination of organometallic precursor compounds, and namely a mixture of tetramethylgermanium (TMG) and tetramethylsilane (TMS) vapours carried by argon carrier gas, was applied. Scanning electron microscopy and adhesion measurements, using a scratch method, revealed a good quality of the resulting materials. Elemental composition of the films was studied using energy dispersive X-ray (EDX) analysis. Thickness and optical properties of the films were determined with the help of VASE ellipsometry. Both density data and optical gap results point to an organometallic plasma polymer character of the materials within the entire range of operational parameters used.

Technika RF PECVD, wykorzystująca reaktor plazmowy o równoległych płaskich elektrodach, została zastosowana do wytwarzania cienkich warstw o mieszanej germanowo-krzemowo-węglowej kompozycji. Kombinacyjną mieszaninę związków organometalicznych, a dokładnie tetrametylogermanu (TMG) i tetrametylokrzemu (TMS) przenoszona przez gaz nośny (argon), wykorzystano jako materiał wyjściowy. Elektronowa mikroskopia scaningowa i pomiary adhezji przy użyciu metody rysy, ujawniły dobrą jakość otrzymywanych materiałów. Skład elementarny warstw zbadano używając metodę nalizy rentgenowskiej energii dyspersyjnej (EDX). Pomiary grubości i własności optycznych warstw zostały wykonane przy pomocy elipsometrii VASE. Zarówno dane dotyczące gęstości, jak i wyniki pomiarów przerwy optycznej wskazują na organometaliczny charakter polimerów plazmowych w całym zakresie użytych parametrów operacyjnych.