Nowoczesne metody trawienia jonowego umożliwiają wytwarzanie struktur o rozmiarach poniżej 100 nm. Obróbka różnego rodzaju materiałów jest możliwa dzięki odpowiedniemu doborowi parametrów procesu. W artykule prśedstawiono aparaturę lonSys 500 firmy Microsystems przeznaczoną do precyzyjnej obróbki powierzchni oraz przykład zastosowania tego urządzenia w wytwarzaniu subtelnych kolumnowych nanostuktur wykazujących zjawisko tunelowego magnetooporu.
EN
Novel ion beam etching techniques enable patterning of structures with dimensions below 100 nm. Due to proper parameters control different materials can be processed. In this article a MicroSystems' lonSys 500 system for precise surface processing is presented, and pillar-shaped nanostructures with tunnel magnetoresistance effect, as an application example.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.