The paper presents results of the experimental research in which the electro-resistance memory effect have been observed in a thin-film structure based on a high-temperature YBa2Cu3O7-x superconductor exposed to electric current and an attempt to interpret the physical mechanism of that effect based on the processes of oxygen ion or electron trapping.
PL
W pracy przedstawiono wyniki badań doświadczalnych, w których zaobserwowano elektrorezystancyjne zjawisko pamięci w strukturze cienkowarstwowej opartej na nadprzewodniku wysokotemperaturowym YBa2Cu3O7-x poddanym działaniu prądu elektrycznego, oraz przeprowadzono próbę interpretacji mechanizmu fizycznego tego zjawiska w oparciu o procesy pułapkowania jonów tlenu albo elektronów.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.