Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

2 Problemy Eksploatacji

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: zasilacz polaryzacji podłoża

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

A method for extinguishing microdischarges in the plasma surface treatment processes

Mrozek M.

Problemy Eksploatacji

2013

nr 2

45--55

This paper presents an original method for extinguishing microdischarges formed on workpieces treated in the process of plasma surface treatment PAPVD. The method is based on the recognition of the state just before the micro discharge, rapid turn-off of the arc, and the analysis of the quantities occurring during microdischarges. As a result of this analysis, the amount of electricity supplied by the power supply is dynamically adjusted into the vacuum chamber in which the charged details are located. The method protects the workpieces against destruction and the vacuum chamber against the gradual degradation. It allows one to reduce the incidence of microdischarges, which eliminates excessive local temperature rise during the process. The method is implemented in the bias power supply and the magnetron power supply, which are used in the process of plasma treatment of the surface. These devices are manufactured in Institute for Sustainable Technologies – NRI.

W artykule przedstawiono autorską metodę gaszenia mikrowyładowań powstających na detalach obrabianych w procesach plazmowej obróbki powierzchni PAPVD. Metoda ta polega na rozpoznaniu stanu tuż przed wystąpieniem mikrowyładowania, szybkiego wyłączenia powstającego łuku oraz analizie ilości występujących mikrowyładowań w czasie. W wyniku tej analizy ustalana jest ilość energii elektrycznej dostarczanej przez urządzenie zasilające do komory próżniowej, w której umieszczone są pokrywane detale. Opracowana metoda zabezpiecza obrabiane elementy przed ich uszkodzeniem oraz komorę próżniową przed stopniową degradacją. Pozwala na ograniczenie częstości występowania mikrowyładowań, co zabezpiecza przed nadmiernym miejscowym wzrostem temperatury podczas procesu. Metoda została zaimplementowana w zasilaczu polaryzacji podłoża oraz zasilaczu źródła magnetronowego, które są wykorzystywane w procesach plazmowej obróbki powierzchni. Urządzenia te zostały wyprodukowane w ITeE – PIB.

Układ do precyzyjnego zasilania magnetronowych źródeł plazmy

Gospodarczyk A., Majcher A., Mrozek M., Przybylski J., Neska M.

Problemy Eksploatacji

2011

nr 4

149-159

W artykule przedstawiono opracowany w ITeE - PIB układ do precyzyjnego zasilania magnetronowych źródeł plazmy z układem szybkiej reakcji na dynamiczne zmiany parametrów wyjściowych. Przeprowadzono badania opracowanego zasilacza. Wykorzystano w nich autorski symulator mikrozwarć, który umożliwia efektywne testowanie modułu blokowania mikrozwarć na wyjściu zasilacza. Opracowaną konstrukcję charakteryzuje szybka odpowiedź na dynamiczne zmiany obciążenia oraz duża rozdzielczość regulacji przebiegu wyjściowego, co zapewnia właściwą pracę w urządzeniach technologicznych przeznaczonych m.in. do konstytuowania powłok nanometrycznych oraz powłok kompozytowych o dokładnie określonym składzie.

The paper presents, developed in ITeE - PIB, precision power supply with fast response to dynamic change in output parameters for magnetron plasma source . Investigation of this power supply are described. Used in them original micro short circuit simulator, which allows efficient testing of the short circuit block output module of the power supply. The designed device is characterized by fast dynamic response to load changes and high resolution output. It allows proper operation of technological equipment for such processes as the constitution of the nano-scale coatings and composite coatings with a well defined composition.