W pracy określono zawartość żelaza międzywęzłowego (Fe i) w mc-Si po procesie geterowania fosforem oraz ujawniono występowanie akceptorowego poziomu rekombinacyjnego o energii aktywacji Ev = +0,338 eV stosując pomiary Laplace DLTS.
EN
The interstitial iron (Fe i ) content in multicrystalline silicon (mc-Si) after phosphorous gettering was determined and acceptor recombination level with activation energy Ev = +0.338 eV was detected by Laplace DLTS measurements.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.