Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: wzorce wysokich rezystancji

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Analiza wpływu rezystancji izolacji na dokładność wysokoomowych transferów Hamona

Lisowski M., Krawczyk K.

Przegląd Elektrotechniczny

2009

R. 85, nr 2

75-78

Dokładność wysokoomowych transferów Hamona, stosowanych do porównywania rezystorów wzorcowych o dużych wartościach w stosunku 1:10 i 1:100, zależy głównie od upływności izolacji. Analiza wpływu rezystancji izolacji na dokładność tych transferów i opis sposobu minimalizacji wpływu prądów upływnościowych izolacji poprzez zastosowanie podwójnej izolacji są przedmiotem tej publikacji.

Accuracy of high-resistance Hamon transfers, used for standard resistors comparison in ratio 1:10 and 1:100, depends mainly from insulation leakage. Analysis of influence of insulation resistance on these transfers accuracy and description of the method for minimalization of insulation leakage current influence, by usage of double insulation are the subject of this paper.

Przekazywanie jednostki rezystancji od wzorca opartego na kwantowym efekcie Halla do wysokoomowych rezystorów wzorcowych

Lisowski M., Krawczyk K.

Pomiary Automatyka Kontrola

2007

R. 53, nr 9

88-91

W referacie przedstawiono wzorzec pierwotny rezystancji, oparty na kwantowym efekcie Halla i system przekazywania jednostki rezystancji oraz problemy z tym przekazywaniem związane. Zaproponowano zastosowanie w systemie transferów rezystancji Hamona, które umożliwią zmniejszenie niepewności przenoszenia jednostki rezystancji, a także dokładniejsze wzorcowanie aparatury pomiarowej stosowanej w systemie.

This paper concerns primary standard of resistance unit based on Quantum Hall Effect (fig. 3) and measurement system (fig. 5). Problems of resistance measurement system were shown. The alternative resistance scaling path, from QHE to various decade resistance values, based on Hamon transfers were described (fig. 6). This solution increases resistance transfer accuracy and allows to calibrate measurement equipment.