Wyniki wyszukiwania - BazTech

1

Dimeryzacja molekuł w wielowarstwowej fazie adsorpcyjnej na homogenicznych powierzchni stałego adsorbentu

Garbacz Jerzy K., Karpiński Karol, Kozakiewicz Mariusz

Polish Hyperbaric Research

|

2019

|

nr 2(67)

59--68

PL

Kontynuując dyskusję nad opisem asocjacji adsorbat-adsorbat na homogenicznych powierzchniach ciał stałych podjęto próbę sformułowania analitycznej postaci równania adsorpcji dla wielowarstwowej fazy adsorpcyjnej. Przedyskutowano zasadność założenia Berezina i Kiselewa na temat niezależności adsorpcji w warstwach dalszych od modelu zjawiska w pierwszej z nich. Wykazano zasadniczą słuszność tego założenia uwalniając je równocześnie od arbitralnego charakteru. Jako zasadniczy cel pracy przyjęto wykazanie możliwości sformułowania opisu zakładającego asocjację molekuł w całej fazie adsorpcyjnej (a nie tylko w pierwszej warstwie). Rozważania teoretyczne ograniczono do przypadku dimeryzacji w zakresie koncentracji usprawiedliwiającym przybliżenie właściwe modelowi Berezina i Kiselewa. Otrzymane finalne równanie adsorpcji wykazuje fizycznie akceptowalne właściwości brzegowe; przy odpowiednich założeniach sprowadza się do równania Brunauera, Emmetta i Tellera, równania sformułowanego wcześniej przez jednego z autorów niniejszej pracy lub równania Langmuira.

EN

Continuing the discussion on the description of adsorbate-adsorbate association on homogeneous surfaces of solids, an attempt was made to formulate an analytical form of adsorption equation for a multilayer adsorption phase. The validity of Berezin's and Kiselev's assumptions concerning the independence of adsorption in further layers from the model of the phenomenon in the first of them was discussed. The fundamental validity of this assumption has been demonstrated, simultaneously ridding it of its arbitrary character. The main aim of the study was to demonstrate the possibility of formulating a description assuming molecule association in the entire adsorption phase (and not only in the first layer). Theoretical considerations are confined to the case of dimerisation in the concentration range thus warranting the approximation characteristic of the Berezin and Kiselev model. The obtained final adsorption equation exhibits physically acceptable boundary properties; with adequate assumptions it amounts to the Brunauer, Emmett and Teller equation, the equation formulated earlier by one of the authors of this paper or the Langmuir equation.

2

In situ TEM observation of reaction of Ti/Al multilayers

Morgiel J., Marszałek K., Pomorska M., Maj Ł., Mania R., Kanak J., Rutkowski P.

Archives of Civil and Mechanical Engineering

|

2017

|

Vol. 17, no. 1

188--198

EN

The Ti/Al multilayers of nominal periods λ = 50 nm and λ = 200 nm were deposited using double target magnetron system equipped with rotating substrate holder. The in situ TEM experiments were aimed at explaining DSC measured exothermic effects through phase transformations taking place during heating of the multilayers with small and large period. Thin foils for these examinations were cut with FIB. The performed experiments showed that the as deposited multilayers are characterized by presence of coarse pseudo-columnar crystallites built of alternating hex-Ti and fcc-Al. The intermixed region at the internal interfaces extends up to 10 nm, i.e. the areas filled with mutually alloyed material starts to dominate over those of pure metals for multilayers of λ < 30 nm. The DSC measurements indicated that in both multilayers their reaction are split to two stages, but those in the small period take place at much lower temperature range, than that in the large period one.

3

Chemical control of polyelectrolyte film properties for an effective cardiovascular implants endothelialization

Mzyk A., Major R., Kot M., Gostek J., Wilczek P., Major B.

Archives of Civil and Mechanical Engineering

|

2014

|

Vol. 14, no. 2

262--268

EN

The aim of this study was to improve properties of blood contacting materials such as polyurethane, in a form of intelligent, self-organizing and self-controlling coatings, which allow the selective mobilization and colonization of the endothelial cells on their surface. The prepared multilayer polyelectrolyte scaffolds were cross-linked chemically by EDC/NHS reagents in order to control their physicochemical properties and thus improving potential to endothelialization. Four types of coatings, i.e. non-cross-linked, cross-linked by 260 mM, 400 mM and 800 mM EDC reagent, were investigated. Their comparison was performed based on the results of the surface topography measurements using Atomic Force Microscopy (AFM), cellular morphology and proliferation analysis using Confocal Laser Scanning Microscopy (CLSM) and the mechanical properties examinations. The optimal multilayer rigidity and surface roughness parameters were found for an effective control of the endothelial cells growth. Surface topography analysis indicated an increase in the coating’s roughness due to application of higher EDC cross-linker concentrations. Mechanical studies revealed that cross-linking caused a significant increase in the hardness and elastic modulus. The results from the cellular experiments allowed the conformation that 400 mM cross-linked PLL/HA films possess desired properties.

4

Contact mechanics of coating-substrate systems: Monolayer and multilayer coatings

Kot M.

Archives of Civil and Mechanical Engineering

|

2012

|

Vol. 12, no. 4

464--470

EN

The paper presents issues related to contact mechanics of coating-substrate systems and problems with analysis of their mechanical properties. The author's model of deformations of such systems based on a complex analysis of nanoindentation tests and FEM modeling is also presented. This model allows identification of the areas submitted to the highest stress concentration with their quantitative analysis. Studies were carried out on TiN monolayer and Ti/TiN multilayers deposited on steel substrates. For multilayers the impact of soft Ti layers on coating fracture was investigated.

5

Optimisation of multilayers antireflection coating for solar cells

Lipiński M., Mroczyński R.

Archives of Metallurgy and Materials

|

2008

|

Vol. 53, iss. 1

189-192

EN

In the work the optimization of Si0 2 -SiN, and Si02-SiNxt-SiNx2 multilayer antireflection coatings deposited by RF-PECVD is presented. The computer simulation was carried out for planar and textured Si surfaces as well. It was shown that double layer Si02 -SiN, can improve the short circuit current Jsc about 1.8% for planar surfaces. The improvement for textured surfaces is equal about 0.8%. The predictions have been experimentally verified with multi-crystalline silicon solar cells electrical parameters. The highest short circuit current (30.17 mA/cm 2 ) and conversion efficiency (13.84%) were obtained for solar cell with double layer AR coating. For triple AR coating the open circuit voltage was the highest (600 mV) which can be explained by better surface passivation. However, the short circuit current (29.79 mA/cm 2 ) was lower in comparison with double AR coating due to higher absorption of this layer.

PL

Przedstawiono wyniki optymalizacji podwójnej i potrójnej SiO2-SiNx i potrójnej SiO2SiNx1-SiNx2 warstwy anty-refleksyjnej osadzanej metodą RF PECVD. Komputerowe symulacje wykonano zarówno na planarnych jak i teksturowanych powierzchniach płytek krzemowych. Pokazano, że warstwy SiO2-SiNx mogą zwiększyć prąd zwarciowy o 1.8% dla płaskiej powierzchni krzemu. Dla teksturowanej powierzchni krzemu wzrost przewidywany wzrost prądu zwarciowego wynosi 0.8%. Wyniki symulacji zostały zweryfikowane z elektrycznymi parametrami krzemowych ogniw słonecznych wykonanych z krzemu multi-krystalicznego. Najwyższe wartości prądu zwarciowego (30.17 mA/cm 2 ) i sprawności konwersji (13.84%) uzyskano dla podwójnej warstwy AR. Dla potrójnej warstwy AR uzyskano najwyższą wartość napięcia obwodu otwartego Voc(600 mV). Jest to efekt poprawy pasywacji powierzchni przez te warstwy. Jednakże, prąd zwarciowy (29.79 mA/cm 2 ) byl niższy w porównaniu z ogniwem z warstwą podwójną w wyniku wyższej absorpcji tej warstwy.

6

Application of silicon strip detector for X-ray diffraction on metallic multilayers

Mietniowski P., Kanak J., Powroźnik W., Stobiecki T., Maj P., Gryboś P.

Archives of Metallurgy and Materials

|

2008

|

Vol. 53, iss. 1

75-81

EN

This paper presents silicon strip detector designed at AGH with front-end electronics based on ASIC (Application Specific lntergraded Circuits) which is used for diffraction measurements of thin films. Application of this detector for diffraction, in comparison to the standard proportional counter, allows to reduce time of measurement up to 100 times. Two types of 128-strip detectors with pitch between strips centers of 75 µm and 100 µm were tested. Angular resolution was determined from measurements of powder standard reference material (SRM 660) LaB 6 . It was demonstrated that detector with strip pitch 75 µm had better angular resolution than that of 100 µm one. The XRD measurements were performed on the metallic polycrystalline multilayers deposited by sputtering technique: Si(100)/Si0 2 47 nm/buffer/IrMn 12 nm/CoFe 15 nm/A1-0 1.4 nm/NiFe 3 nm/Ta 5 nm and Si(100)/Si0 2 500 nm/buffer/[Pt 2 nm/Co 0.5 nm]x5. The samples were prepared with four different buffers in order to obtain different texture degree (in the brackets buffers for Pt/Co multilayers): (a) Cu 25 nm, (Cu 10 nm) (b) Ta 5 nin/Cu 25 nm, (Ta 5 nm/Cu 10 nm) (c) Ta 5 nm/Cu 25 nm/Ta 5 nm/Cu 5 nm, (Ta 5 nm/Cu 10 nm/Ta 5 nm) and (d) Ta 5 nm/Cu 25 nm/Ta 5 nm /NiFe 2 nm/Cu 5 tun, (Ta 5 nm/Cu 10 nm/Ta 5 nin/Cu 10 nm). The results measured by our strip detector, conventional proportional counter and commercial X'Celerator detector are similar in all details specific for diffraction of multilayer. Some advantages of the strip detectors usage for structural analysis of thin films are discussed.

PL

Krzemowe detektory paskowe zintegrowane z elektroniką "front-end" zaprojektowane na AGH w oparciu o uklad ASIC (Application Specific Intergraded Circuits) zostały wykorzystane do detekcji promieniowania rentgenowskiego w eksperymentach dyfrakcyjnych ukladów cienkowarstwowych. Zastosowanie tych detektorów w porównaniu z licznikami proporcjonalnymi pozwala zredukowae czas pomiaru do okolo 100 razy. Przetestowano dwa typy detektorów 128-paskowych o odległościach pomiędzy paskami 75 µm i 100 µm. Pomiary kątowej zdolności rozdzielczej wykonane na próbkach proszkowych LaB6, pokazały, że detektor z odległością pomiędzy paskami 75 µm posiada lepszą zdolność rozdzielczą. Przeprowadzono pomiary dyfrakcyjne na wybranych układach cienkowarstwowych naniesionych techniką jonowego rozpylenia. Układy te miały następującą budowę: podłoże Si(100)/Si02 47 µm /warstwy buforowe /IrMn 12 nm/CoFe 15 nm/A1-0 1.4 mn/NiFe 3 nm/Ta 5 nm oraz Si(100)/Si02 500 nm/warstwy buforowe/[Pt 2 nm/Co 0.5 nm]x5. Jako warstwy buforowe zastosowano następujące układy wielowarstwowe (w nawiasach warstwy buforowe dla ukladów wielowarstwowych Pt/Co): (a) Cu 25 nm, (Cu 10 nm) (b) Ta 5 nm/Cu 25 nm, (Ta 5 lini/Cu 10 nm) (c) Ta 5 11111/Cu 25 nm/Ta 5 nm/Cu 5 nm, (Ta 5 nm/Cu 10 nin/Ta 5 nm) and (d) Ta 5 nm/Cu 25 nm/Ta 5 nm /NiFe 2 nm/Cu 5 nm, (Ta 5 tn/Cu 10 nm/Ta 5 nm/Cu 10 nm). Otrzymano podobne wyniki zarówno przy wykorzystaniu licznika proporcjonalnego, detektora paskowego jak i komercyjnego detektora X'Celerator. Przedyskutowano zalety krzemowego detektora paskowego w zastosowaniu do badań dyfrakcyjnych układów cienkowarstwowych.