Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

2 Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: warstwy węglowo-palladowe

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Czujnik wodoru do zastosowań w podwyższonej temperaturze i wilgotności

Czerwosz E., Kamińska A., Kowalska E., Kozłowski M., Krawczyk S., Radomska J., Wronka H.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

2014

Vol. 55, nr 7

120-123

Ze względu na silny rozwój technologii wodorowych wzrasta zainteresowanie urządzeniami i materiałami pozwalającymi gromadzić i wykrywać wodór. W szczególności czujniki wodoru mogą znaleźć zastosowanie w wielu dziedzinach życia i techniki. W tej pracy przedstawiamy rezultaty kilkuletniej pracy nad opracowaniem czujnika wodoru nowej generacji wykorzystującego jako element aktywny warstwy węglowo-palladowe. Ten innowacyjny, rezystancyjny czujnik wodoru może pracować w warunkach podwyższonej temperatury i wilgotności. Czujnik taki jest selektywny, charakteryzuje się szybką odpowiedzią i daje wyraźny sygnał nawet dla bardzo niskich koncentracji wodoru.

Rapid development of hydrogen technology caused interest in devices and materials allowing for storage and detection of hydrogen. Especially, hydrogen sensors could be applied in many areas of daily life and technics. In this paper we present results of our studies on a elaboration of construction and material technology for new generation of hydrogen sensor based on carbonaceous-palladium films. This innovative, resistive hydrogen sensor can operated at higher than normal temperature and humidity. This sensor is selective, shows fast response and gives strong signal even at very low concentration of hydrogen.

Influence of substrate type on structure of C-Pd thin films

Kowalska E., Czerwosz E., Kozłowski M., Firek P., Rymarczyk J., Radomska J.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

2011

Vol. 52, nr 7

61-64

C-Pd films were obtained by a two steps' PVD/CVD method (Physical Vapor Deposition/Chemical Vapor Deposition). Investigations of Pd nanograins and carbon matrix structure were performed. The films were formed on many types of substrates with various specific surface area (SSA). Pure Si wafers and Si wafers covered with DLC (Diamond Like Carbon) layer were used as substrates with a smooth surface, whereas Al₂ O₃ plates and AAO (Anodic Aluminium Oxide) membranes with pores of about 200 nm, were applied as substrates with a rough surface. The results of SEM (Scanning Electron Microscopy) and AFM (Atomic Force Microscopy) investigations of C-Pd films obtained on various substrates are presented. It is shown that SSA of substrates influences on topography, morphology and nanostructure of C-Pd films deposited on them.

Warstwy C-Pd zostały wytworzone metodą dwustopniową PVD/CVD (Physical Vapor Deposition/Chemical Vapor Deposition). Przeprowadzono badania nanoziaren Pd i struktury matrycy węglowej. Warstwy osadzano na wielu rodzajach podłoży o zróżnicowanej powierzchni właściwej. Jako podłoża o gładkiej powierzchni zastosowano płytki Si i Si pokryte warstwą DLC (Diamond Like Carbon), zaś płytki Al₂ O₃ i membrany AAO (Anodic Aluminium Oxide) użyto jako podłoża o powierzchni chropowatej. W pracy zaprezentowano wyniki badań SEM (Scanning Electron Microscopy) i AFM (Atomic Force Microscopy) warstw C-Pd otrzymanych na różnych podłożach. Pokazano, że powierzchnia właściwa podłoży wpływa na topografię, morfologię i nanostrukturę warstw C-Pd osadzanych na nich.