W pracy przedstawiono wyniki badań nad wykorzystaniem techniki wytwarzania cienkich warstw ditlenku krzemu pełniących rolę warstwy pasywującej w strukturze krzemowego ogniwa słonecznego. Podano parametry warstw szkliwa krzemionkowego (SiO₂) wytworzonych przy wykorzystaniu techniki rozwirowania (spin-on) specjalnych roztworów na bazie tetraetoksysilanu, wykorzystywanych jako warstwy pasywujące w strukturze ogniwa słonecznego.
EN
In this paper we present the results of using a preparation method of SiO ₂ thin films which are a passivates layer in a solar cell structure. The parameters of silica glaze (SiO₂) prepared by using spin-on technique, which use special passivates solutions made on tetraethyl orthosilicate base, were shown.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.