A new method of thin dielectric mask preparation for Ag+ - Na+ ion exchange applications was developed. Electrodiffusion bonding of Al-film to glass was used to obtain very thin dielectric Al2O3 layer in the Al-glass transition zone. After Al removal, the quality of the dielectric mask was tested in Ag pure thermal diffusion and electrodiffusion processes in molten AgNO3.
2
Dostęp do pełnego tekstu na zewnętrznej witrynie WWW
The paper deals with the stress distribution and stress value in grinding wheels with ceramic binding obtained using the method of optically sensitive surface layer. The tests were conducted with the grinding wheels being loaded both statically and with inertial forces existing during rotation of the grinding wheel. The results obtained were compared to those concerning the dynamic strength of grinding wheels carried out with the bursting machine and also to the results of theoretical calculations using FEM. This compari-son enables us to estimate the usefulness of a new method and to formulate final conclusions.
PL
Przedstawiono wyniki badań dotyczących rozkładu i wartości naprężeń w ściernicach ze spoiwem ceramicznym, otrzymywane metodą optycznie czułej warstwy powierzchniowej. Badania przeprowadzono ze ściernicami obciążanymi statycznie (półpierścienie) oraz siłami bezwładności występującymi podczas wirowania ściernicy. Wyniki porównano z wynikami badań tensometrycznych, a także z wynikami obliczeń teoretycznych metodą elementów skończonych. Porównanie pozwoliło ocenić przydatność zaproponowanej metody.
Dielektryczne warstwy z materiałów tlenkowych: HfO2 i ZrO2 mają zastosowanie w zwierciadłach laserowych dla zakresów UV-IR. Materiały te posiadają szczególne własności, gdyż oprócz wysokiej wytrzymałości na działanie wiązki laserowej, charakteryzują się małymi rozproszeniami promieniowania i niskim pochłanianiem promieniowania w zakresie od 0,25 mikrometra do 7 mikrometrów. W pracy badano własności warstw HfO2 i ZrO2 nanoszonych metodą PVD z zastosowaniem działa elektronowego (EB). Badano jakość powierzchni warstw metodą AFM, strukturę warstw metodami XRD i GIXR oraz odporność na działanie promieniowania lasera Nd: YAG. Stwierdzono występowanie różnic struktury warstw HfO2 naniesionych na podłoże ze szkła BK7 i topionego kwarcu. Określono progi odporności warstw na działanie promieniowania lasera Nd: YAG.
EN
Dielectric oxide layers: HfO2 and ZrO2 are used in laser mirrors for UV-IR ranges. They are characterised by unique properties, because except for their good resistivity on high-energy laser beam, they also exhibit a low scattering level and low absorption coefficient for radiation from 0,25 micrometers to 7 micrometers. The layers were evaporated by PVD method with electron beam (EB) guns. Morphology of the experimental materials layers was comprehensively characterised by atomic force microscopy (AFM). Their microstructure was studied by X-ray diffraction (XRD) and X-ray reflectometry (GIXR). Their radiation-damage threshold was investigated at wavelength of Nd:YAG laser. The analysis demonstrates a structural difference between HfO2 layers evaporated on the BK7 glass and on melted quartz substrates.
Przedstawiono spojrzenie na zabezpieczenie sieci w warstwie optycznej przed skutkami awarii, z punktu widzenia usług oferowanych przez tę warstwę. Opisano i porównano różne mechanizmy zabezpieczeń.
EN
The article provides a perspective on optical layer protection based on the services offered by carriers using the optical layer. Different protection techniques are described and compared.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.