Wyniki wyszukiwania - BazTech

1

Analiza właściwości antystatycznych cienkich warstw na bazie tlenków Hf i Ti w powiązaniu z ich mikrostrukturą

Pastuszek Roman, Mazur Michał, Kaczmarek Danuta, Domaradzki Jarosław, Wiatrowski Artur

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2019

|

Vol. 60, nr 7

18--20

PL

W pracy przedstawiona została analiza właściwości antystatycznych cienkowarstwowych powłok na bazie tlenków Hf oraz Ti w powiązaniu z ich właściwościami strukturalnymi. Cienkie warstwy badane w ramach pracy wytworzone zostały za pomocą metody rozpylania magnetronowego na podłożach SiO₂ oraz SiO₂ pokrytych warstwą tlenku indowo-cynowego o grubości 150 nm. Właściwości antystatyczne zostały określone na podstawie pomiaru czasu rozpraszania ładunku statycznego, natomiast właściwości strukturalne na podstawie badania metodą dyfrakcji rentgenowskiej XRD. Badania metodą XRD wykazały, warstwy HfO₂, (Hf0,85Ti0,15)Ox oraz TiO₂ były nanokrystaliczne, a ich średni rozmiar krystalitów wynosił poniżej 10 nm. Z kolei powłoka (Hf0,15Ti0,85)Ox była amorficzna. Dla wszystkich warstw naniesionych na SiO₂ czasy rozpraszania ładunku przekraczały 2 sekundy wynikające z przyjętego kryterium antystatyczności. Najdłuższym czasem rozpraszania charakteryzowała się warstwa amorficzna. Naniesienie warstw na podłoże SiO₂ pokryte 150 nm warstwą ITO spowodowało, że wszystkie warstwy niezależnie od ich mikrostruktury były antystatyczne, a czasy rozpraszania ładunku elektrycznego były rzędu setek milisekund.

EN

This work presents the analysis of antistatic properties of thinfilm coatings based on Hf and Ti oxides in relation to their structural properties. Investigated thin films were sputtered by the magnetron sputtering method on SiO₂ substrates and deposited SiO₂ covered with a 150 nm thick indium-tin oxide film. Antistatic properties were determined based on the measurements of static charge dissipation time, while structural properties based on X-ray diffraction. The XRD results showed, that HfO₂, Hf0.85Ti0.15x and TiO₂ thin films were nanocrystalline with an average crystallite size below 10 nm. Hf0.15Ti0.85Ox film was amorphous. For films deposited on SiO₂ the dissipation times exceeded 2 seconds, which indicated that none of them were antistatic taking into consideration with accepted cryterion. The longest dissipation time was obtained for amorphous coating. Deposition of thin films on SiO₂ substrates coated with a 150 nm thick ITO layer results in a significate decrease of static charge dissipation time to hundreds of milliseconds, independently of their structural properties.

2

Analiza właściwości antystatycznych mieszanin tlenków Hf oraz Ti o małej zawartości tytanu

Pastuszek R., Mazur M., Kotwica T.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2018

|

Vol. 59, nr 7

20--22

PL

W pracy przedstawiono wyniki badań właściwości antystatycznych cienkich warstw mieszanin tlenków tytanu (TiO₂) oraz hafnu (HfO₂). Warstwy naniesione zostały w procesie rozpylania magnetronowego na podłoża z krzemionki amorficznej (SiO₂). Otrzymano warstwy HfO₂ oraz HfO₂ z dodatkiem Ti w ilości 4% at., 13% at. oraz 28% at. Pomiary metodą XRD wykazały, że warstwy miały nanokrystaliczną strukturę, a średni rozmiar krystalitów wyniósł ok. 6 nm. Najmniejszą rezystywnością cechowała się warstwa HfO₂, największą zaś warstwa o zawartości 28% at. Ti. Wzrost zawartości atomowej tytanu w warstwie powodował zwiększenie rezystywności warstwy. Zmierzono czasy rozpraszania ładunku statycznego z powierzchni warstw przy polaryzacji ładunkiem dodatnim o napięciu 7 kV. Najkrótszy czas rozpraszania ładunku do 10% wartości początkowej uzyskano dla warstwy HfO₂, a najdłuższy dla warstwy zawierającej 28% at. Ti. Korelacja wyników pozwoliła na zaobserwowanie, że wraz ze wzrostem rezystywności warstw wydłużał się czas rozpraszania ładunku.

EN

In this paper antistatic properties of mixed titanium and hafnium oxides were investigated. Thin films of mixtures were deposited on SiO₂ substrates using magnetron sputtering processes. XRD results showed that investigated thin films had nanocrystalline structure. Crystallites size was equal to ca. 6 nm for all samples. The lowest resistivity was obtained for hafnia thin film and the highest for HfO₂ with 28 at. % of Ti. Results showed that resistivity increased with the amount of Ti in mixed oxides. Static charge dissipation time measurements were analyzed. Dissipation time increased with an increase of Ti amount. Results demonstrated in this paper showed a good corellation beetwen charge decay time and resistivity of investigated thin films. Decay times increased alongside of resistivity value.

3

Właściwości antystatyczne nanokrystalicznych cienkich warstw na bazie tlenków tytanu i kobaltu

Pastuszek R., Wojcieszak D., Obara K., Kotwica T., Domanowski P.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2017

|

Vol. 58, nr 7

14--17

PL

W pracy przeanalizowano właściwości cienkich warstw mieszanin tlenków TiO2-CoO. Warstwy zostały naniesione na podłoża SiO2 metodą rozpylania magnetronowego z wykorzystaniem wielotargetowego stanowiska. Zastosowanie metody modulacji szerokości impulsu (ang. Pulse Width Modulation) dla targetu kobaltowego miało wpływ na otrzymane rezultaty badań. Zastosowane zostały różne profile zmian współczynnika PWM, tj. o kształcie liniowym, V oraz U. Mikrostruktura warstw określona została na podstawie dyfrakcji rentgenowskiej (XRD) a skład materiałowy za pomocą mikroanalizy rentgenowskiej (EDS). Badania XRD wykazały, że warstwy naniesione z profilem liniowego narostu PWM oraz z profilem typu V były amorficzne. Dla zmiany PWM w kształcie litery U uzyskano nanokrystaliczną warstwę o strukturze rutylu. Badania EDS wykazały z kolei, że otrzymane warstwy będące mieszaniną tlenków tytanu i kobaltu mają bardzo zbliżony skład. Właściwości antystatyczne określone zostały na podstawie pomiaru czasu rozpraszania ładunku zgromadzonego na powierzchni warstwy. W celach porównawczych zbadana została również pojedyncza warstwa TiO2. Zastosowanie mieszaniny tlenków pozwoliło na uzyskanie znacznie krótszych czasów rozpraszania. Zastosowanie gradientu rozmieszczenia pierwiastków w warstwie spowodowało zróżnicowanie czasów rozpraszania dla mieszanin tlenków. Jedynie warstwa naniesiona z profilem PWM w kształcie litery U była antystatyczna. Zmierzona została również rezystancja powierzchniowa dla wszystkich próbek. Zastosowanie mieszanin TiO2-CoO spowodowało zmniejszenie rezystancji w stosunku do TiO2, a zmiany PWM spowodowały ponadto różnice w rezystancji dla warstw będących mieszaniną tlenków tytanu i kobaltu.

EN

In this work properties of mixed oxides films based on TiO2-CoO were analyzed. Coatings were deposited on SiO2 substrates by magnetron sputtering with the use of multitarget stand. Application of Pulse Width Modulation (PWM) method for cobalt target influenced on obtained results. Various types of PWM profiles were applied, i.e. linear, V- and U-shape. Microstructure of thin films were determined based on x-ray diffraction (XRD), while the material composition was assessed by x-ray microanalysis (EDS). XRD measurements showed that thin films deposited with linear and V-shape of PWM profiles were amorphous, whereas these of U-shape had nanocrystalline rutile structure. EDS research revealed that deposited coatings had very similar overall material composition. Antistatic properties as ability to dissipate static electricity were investigated. Additionally, udnoped TiO2 were measured in the same experimental conditions and collected results were compared with those for composite coatings in relation to their antistatic properties. Composite thin films dissipated static electricity a lot faster than TiO2 layer. Sheet resistance was also measured. Thin films based on TiO2-CoO had lower resistance as-compared to TiO2. Various shape of PWM profiles used in magnetron sputtering processes caused differences in sheet resistance of composite thin films.

4

Właściwości wielofunkcyjnych cienkich warstw TiO2:Nd z przeznaczeniem na powierzchnię ogniw słonecznych

Mazur M., Kaczmarek D., Wojcieszak D., Morgiel J., Kalisz M., Szymańska M.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2014

|

Vol. 55, nr 8

43-46

PL

W pracy przedstawiono wyniki badania wpływu domieszkowania neodymem na właściwości wielofunkcyjne cienkich warstw dwutlenku tytanu. Cienkie warstwy zostały wytworzone za pomocą dwóch metod rozpylania magnetronowego: niskociśnieniowej oraz wysokoenergetycznej. W zależności od zastosowanej metody wytwarzania, naniesione powłoki miały strukturę krystaliczną anatazu lub rutylu. Zastosowanie domieszki neodymu umożliwiło uzyskanie mniejszego współczynnika odbicia światła od powierzchni krzemu w porównaniu do klasycznych powłok niedomieszkowanego TiO2. Jak pokazały przedstawione w pracy badania, wytworzone cienkie warstwy domieszkowane neodymem były wielofunkcyjne – powłoki o strukturze anatazu miały bardzo dobre właściwości fotokatalityczne i antystatyczne, natomiast warstwy o strukturze rutylu zwiększoną twardość.

EN

In this paper the results of the influence of neodymium doping on the properties of multifunctional titanium dioxide thin films were shown. Thin films were manufactured using two various magnetron sputtering methods: low-pressure and high-energy. Depending on the preparation method, deposited coatings were of the anatase or of the rutile structure. As it is shown in the paper doping with neodymium caused the decrease of reflection coefficient from silicon surface as compared to undoped TiO2. Thin films doped with neodymium were multifunctional – coatings with anatase structure were photocatalytically active and antistatic, while coatings with rutile structure had increased hardness.

5

Bezpieczny kompozyt powłokowy na odizolowanym podłożu metalowym do potencjalnej atmosfery wybuchowej

Wiechuła B., Latocha C.

Ochrona przed Korozją

|

2009

|

nr 12

601-602

PL

Na podłożu metalowym utworzono kompozyt powłokowy z kompozycji farby ciekłej zawierającej m.in. pigmenty: antykorozyjny i antystatyczny. Przedstawiono modelowy przekrój warstw kompozytu powłokowego, zwracając szczególną uwagę na właściwości granicznych nanowarstw kompozytu.

EN

The coating composite is formed on a metallic substrate by a composition of liquid paint containing, among other, anticorrosion and antistatic pigments. A model section of the composite layers has been presented, with special attention focused on the properties of the boundary composite nanolayers.