Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 3

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  trimetyloglin
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
EN
The paper is concerned with the process of fabrication of composite layers of the Al2O3 + NiAl + Ni3Al type using the PAMOCVD method with the participation of trimethylaluminum introduced into the reactive atmosphere. The layers have high hardness and good frictional wear resistance. Examinations of the chemical and phase compositions (light microscopy, SEM, TEM, XRD) evidently show that the layers have the diffusion character. The aluminium oxide surface zone, 1um thick, is characterized by a nanocrystalline structure. The model of the formation of the layers is also discussed.
PL
W artykule przedstawiono proces wytwarzania warstw kompozytowych typu Al2O3 + NiAl + Ni3Al metodą PAMOCVD z zastosowaniem trimetyloglinu w atmosferze reaktywnej. Warstwa ta charakteryzuje się wysoką twardością oraz dobrą odpornością na zużycie przez tarcie. W artykule przedstawione są badania składu chemicznego i fazowego (mikroskopia świetlna, metody SEM, TEM, XRD), które wykazały jednoznacznie charakter dyfuzyjny wytwarzanych warstw. Powierzchniowa strefa tlenku glinu posiada grubość rzędu 1 um i charakteryzuje się nanokrystaliczną strukturą. Przedstawiono również model tworzenia się warstwy.
PL
W artykule przedstawiono wyniki badań struktury i składu chemicznego warstw Al2O3, Al2O3 + AlN otrzymanych na podłożach wykonanych z Niklu 200 metodą PACVD z użyciem związku metaloorganicznego trimetyloglinu. Warstwy te charakteryzuje duża twardość, wysoka odporność na ścieranie, chemiczna stabilność. Stosowano następujące techniki badawcze: mikroskopia świetlna SEM + EDS, AES, XRD, badania mikrotwardości, badania korozyjne.
EN
The structure and chemical composition of composite oxynitrided layers obtained on Nickel 200 by PACVD method using metaloorganic compound (trimethylaluminium Al(CH3)3) are described. X-ray microanalysis examinations, confirmed by X-ray diffraction and Auger electron spectroscopy, shows that obtained layer contains Al2O3 and AlN phases.The obtained layer shows high hardness (1300 HV0,05) and good corrosion resistance.
EN
The paper describes the processes that produce alumina oxide layers on titanium by the PACVD method with the use of trimethyloaluminum as the donor. By dosing the metal-organic compound at 400°C and oxidizing the Al coating being formed under glow discharge conditions at a temperature of the order of 550°C, we obtain a nano-crystalline AI2O3 layer. An increase in the glow discharge oxidizing temperature to about 600°C, enables the intermetallic phases of the Ti3Al type to be formed.
PL
W artykule omówiono procesy prowadzące do wytworzenia warstw tlenku glinu na tytanie metodą PACVD stosując jako donor glinu- trimetyloglin. Dozując związek metaloorganiczny w 400°C i utleniając w warunkach wyładowania jarzeniowego tworzącą się powłokę Al w temperaturze rzędu 55O°C uzyskuje się nanokrystaliczną warstwą Al2O3. Kolejne podwyższenie temperatury procesu utleniania jarzeniowego do około 600°C pozwala na wytworzenie faz międzymetalicznych typu TiAl3.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.